基板搬送方法、姿勢変換装置および基板搬送装置
【課題】互いに直交した搬送経路に沿って基板を傾斜姿勢で搬送しながらより少ないスペースで効率良く基板の搬送方向を転換できるようにする。
【解決手段】姿勢変換装置２２は、支持テーブル２２１とこのテーブル２２１を揺動させる揺動機構とを含む。揺動機構は、テーブル上面が特定方向から見て傾斜しかつ当該方向に傾斜姿勢で搬送される基板Ｓを受入れる基板受入れ姿勢と、テーブル上面が特定方向と直交する方向から見て傾斜しかつテーブル上に支持した基板Ｓを当該方向に傾斜姿勢で送り出す基板受渡し姿勢とに亘って支持テーブル２２１を揺動させる。基板受渡し姿勢は、基板受入れ姿勢で受入れた基板Ｓの先頭側の辺Ｓ１を一辺として基板Ｓ上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板Ｓの先頭下位側の頂部を通る対角線と平行な軸回りに辺Ｓ１が前記直交方向と平行となる位置まで基板Ｓを回動させた姿勢とされる。
【解決手段】姿勢変換装置２２は、支持テーブル２２１とこのテーブル２２１を揺動させる揺動機構とを含む。揺動機構は、テーブル上面が特定方向から見て傾斜しかつ当該方向に傾斜姿勢で搬送される基板Ｓを受入れる基板受入れ姿勢と、テーブル上面が特定方向と直交する方向から見て傾斜しかつテーブル上に支持した基板Ｓを当該方向に傾斜姿勢で送り出す基板受渡し姿勢とに亘って支持テーブル２２１を揺動させる。基板受渡し姿勢は、基板受入れ姿勢で受入れた基板Ｓの先頭側の辺Ｓ１を一辺として基板Ｓ上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板Ｓの先頭下位側の頂部を通る対角線と平行な軸回りに辺Ｓ１が前記直交方向と平行となる位置まで基板Ｓを回動させた姿勢とされる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板等の製造に適した基板搬送方法、姿勢変換装置および基板搬送装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＬＣＤ等のガラス基板（以下、単に基板という）の製造工程では、搬送ローラにより基板を傾斜姿勢で搬送しながら、その基板表面に処理液を供給することにより所定のプロセス処理を基板に施すことが行われている。このような処理方法によれば、基板上の処理残渣を処理液と共に速やかに基板外に流下させて除去することができ、また、基板上の処理液を速やかに新たな処理液に置換できるため、基板の処理を効率化できる。
【０００３】
ところが、上記のように基板を傾斜姿勢でローラ搬送する場合には、傾斜姿勢を維持したまま搬送方向を転換することは困難であり、姿勢変換が必要となる。例えば特許文献１に開示されるように、インデクサ部に対して往路、反転路及び復路からなるコ字型の搬送路を設け、インデクサ部から取出した基板に順次処理を施しながら再びインデクサ部に回収するようなレイアウト構成が採られる場合があるが、このような場合には往路〜反転路、および反転路〜往路で搬送方向を９０°転換させる必要があるため当該方向転換地点で基板の姿勢変換が必要となる。
【０００４】
このような場合、従来では、図１０に示すような装置構成を採用することが行われている。すなわち、インデクサ部５００に対して往路５０１、反転路５０２及び復路５０３からなるコ字型の搬送路を設けると共に、往路５０１、反転路５０２及び復路５０３でそれぞれ基板Ｓを傾斜姿勢で搬送しながら処理を行う場合には、同図に示すように、往路５０１と反転路５０２との間に、基板Ｓの姿勢を往路５０１搬送時の傾斜姿勢から水平姿勢に戻す第１機構５１１と水平姿勢に戻した基板Ｓを次の傾斜姿勢（反転路５０２搬送時の傾斜姿勢）に変換する第２機構５１２とを設け、傾斜姿勢の基板Ｓを一端水平姿勢に戻してから次の傾斜姿勢に変換した後、反転路５０２に送り出すことが行われている。同様に、反転路５０２と復路５０３との間には、傾斜姿勢で搬送される基板Ｓを水平姿勢に戻す第３機構５１４と水平姿勢に戻した基板Ｓを次の傾斜姿勢（復路５０３搬送時の傾斜姿勢）に変換する第４機構５１５とが設けられる。
【特許文献１】特開２００４−２８４６９４号公報（図１参照）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記のような構成では、基板Ｓの搬送方向の転換地点にそれぞれ２つ、合計４つの姿勢変換機構を設ける必要があるため、装置の大型化を助長する。また、基板の姿勢変換に時間を要するため効率的な処理の妨げになるという課題がある。従って、この点を改善することが求められる。
【０００６】
本発明は、上記のような事情に鑑みて成されたものであり、互いに直交した搬送経路に沿って基板を傾斜姿勢で搬送する一方で、より少ないスペースで効率良く基板の搬送方向を転換できるようにすることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本発明は、矩形の基板を第１搬送方向に搬送した後、この第１搬送方向と直交する第２搬送方向に搬送方向を転換して基板を搬送する方法であって、前記基板をその表面が前記第１搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第１搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送工程と、第１搬送方向に搬送される前記基板をその表面が前記第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換工程と、この姿勢変換工程で第２傾斜姿勢に姿勢変換された前記基板を当該第２傾斜姿勢に支持した状態で前記第２搬送方向に搬送する第２搬送工程と、を含み、前記姿勢変換工程では、第１搬送方向に搬送される基板の先頭側の辺を一辺として当該基板上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板の先頭下位側の頂部を通る対角線又は当該対角線と平行な軸線回りに前記先頭側の辺が第２搬送方向と平行となる位置まで基板を回動させることにより前記基板を前記第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換するようにしたものである。
【０００８】
この方法によれば、第１搬送工程後、一工程で基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に直接変換して第２搬送工程に移行することができる。そのため、従来のように基板の姿勢変換に二工程を要する方法、すなわち、第１搬送方向に搬送される傾斜姿勢（第１傾斜姿勢）の基板を一旦水平姿勢に戻してから次の傾斜姿勢（第２傾斜姿勢）に変換して第２搬送方向に基板を搬送する方法に比べると、基板の姿勢変換に要するスペースを縮小することができ、また当該姿勢変換に要する時間を短縮することができる。従って、より少ないスペースで効率良く基板の搬送方向を転換することが可能となる。
【０００９】
一方、本発明に係る姿勢変換装置は、矩形の基板をその表面が搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送方向と直交する第２搬送方向に基板を搬送する搬送手段であって基板をその表面が第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に支持した状態で搬送する第２搬送手段との間に介設され、前記第１搬送手段から第２搬送手段への基板の受渡しを行うべく基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換装置であって、前記基板を少なくとも前記第１搬送方向及び第２搬送方向に変位可能に支持する支持部を備えたテーブルと、このテーブルを揺動可能に支持する支持手段と、前記テーブルの上面が前記第１搬送方向から見て傾斜しかつ前記第１傾斜姿勢で搬送される基板を第１搬送手段から受入れる基板受入れ姿勢と前記テーブルの上面が前記第２搬送方向から見て傾斜しかつテーブル上に支持された基板を第２搬送手段へ受渡し可能とする基板受渡し姿勢とに亘って前記テーブルを揺動させる揺動手段と、を備えており、前記基板受渡し姿勢は、前記基板受入れ姿勢で前記テーブルに受入れた基板の先頭側の辺を一辺として当該基板上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板の先頭下位側の頂部を通る対角線又は当該対角線と平行な軸線回りに前記先頭側の辺が第２搬送方向と平行となる位置まで当該基板を回動させた姿勢とされているものである。
【００１０】
この姿勢変換装置によると、基板受入れ姿勢にあるテーブル上に第１傾斜姿勢で基板を受入れた後、揺動手段の作動により当該テーブルを基板受渡し姿勢に切換することにより、基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に直接変換することができる。従って、第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢への基板の姿勢変換をより少ないスペースで、しかも効率良く行うことができるようになる。
【００１１】
具体的な構成として、前記支持手段は、前記対角線と平行に設けられて前記テーブルを回動可能に支持する支持軸からなり、前記揺動手段は、前記支持軸回りに前記テーブルを回動させるように構成される。
【００１２】
この構成では、前記テーブルが支持軸回りに回動（揺動）することにより、当該テーブルが基板受入れ姿勢と基板受渡し姿勢とに変換される。そのため、簡素な構成で上記のような基板の姿勢変換を達成することができる。
【００１３】
なお、上記の構成は、第１傾斜姿勢と第２傾斜姿勢との傾斜角度（水平面に対する傾斜角度）が互いに等しい場合を前提としており、従って、第１傾斜姿勢と第２傾斜姿勢との傾斜角度が相互に異なる場合には適用が困難となる。
【００１４】
しかし、このような不都合は、水平面に対する前記支持軸の傾き角度を変更することにより前記基板受入れ姿勢又は基板受渡し姿勢における前記テーブルの傾き角度を切換える角度可変手段を備えることにより解消される。
【００１５】
すなわち、この構成によれば、第１傾斜姿勢と第２傾斜姿勢との傾斜角度が相互に異なる場合でも、角度可変手段の作動により基板受入れ時と基板受渡し時とのテーブルの傾斜角度を切換えることにより、第１搬送手段から第２搬送手段へ基板を難なく受け渡すことが可能となる。
【００１６】
また、上記の姿勢変換装置においては、前記基板受入れ姿勢で前記テーブル上に支持される基板に対して第１搬送方向の推力を付与する第１推力付与手段と、前記基板受渡し姿勢において前記テーブル上に支持される基板に対して前記第２搬送方向への推力を付与する第２推力付与手段とを備えているのが好適である。例えば、前記第１、第２推力付与手段として、傾斜姿勢の基板の下位側端部を支持し、回転により当該基板に前記推力を与える駆動ローラを設けることができる。
【００１７】
このような構成によれば、第１搬送手段からテーブルへの基板受入れの際には、第１推力付与手段により基板に第１搬送方向の推力を与えることによってテーブル内への基板の受入れを速やかに行うことができ、また、テーブルから第２搬送手段への基板受渡しの際には、第２推力付与手段により基板に第２搬送方向の推力を与えることによってテーブル内の基板を速やかに送り出すことができるようになる。
【００１８】
一方、本発明に係る基板搬送装置は、矩形の基板をその表面が搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送方向と直交する第２搬送方向に基板を搬送する搬送手段であって基板をその表面が第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に支持した状態で搬送する第２搬送手段と、前記第１搬送手段から第２搬送手段への基板の受渡しを行うべく基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換装置と、を備えた基板搬送装置であって、前記姿勢変換装置として、上記したような姿勢変換装置を備えているものである。
【００１９】
この基板搬送装置によると、互いに直交した搬送経路に沿って基板を傾斜姿勢で搬送しながらも、第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に直接基板の姿勢を変換することができる上記のような姿勢変換装置を備えているので、当該姿勢変換に二工程を要する従来のこの種の装置に比べると、装置の大型化を有効に抑えることができ、また搬送方向の転換を迅速に行いながら基板を効率良く搬送することが可能となる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によると、互いに直交する搬送方向に亘って基板を傾斜姿勢で搬送しながらも、上記の通り基板の姿勢変換を一工程で行えるので、基板の姿勢変換に要するスペースを縮小することができ、また当該姿勢変換に要する時間を短縮することができる。従って、より少ないスペースで効率良く基板の搬送方向を転換することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の好ましい実施の形態について図面を用いて説明する。
【００２２】
図１は、本発明に係る基板搬送装置（本発明に係る姿勢変換装置が適用される基板搬送装置）が適用される基板処理装置の概略を示す平面模式図である。この装置は、矩形のガラス基板（以下、単に基板という）に薬液処理および洗浄処理を施すものである。
【００２３】
同図に示すように基板処理装置は、インデクサ部１と、このインデクサ部１に対して平面視で「コ」字形に連結される複数の処理部を有している。具体的には、基板Ｓを特定方向（図１において右方向）に搬送しながらこの基板Ｓに洗浄処理を施す第１処理部２と、この第１処理部２の終端に連結され、当該処理部２で処理が完了した基板Ｓを前記特定方向と直交する方向（図１において上方向）に搬送しながらこの基板Ｓに薬液処理及び洗浄処理を施す第２処理部３と、第２処理部３の終端に連結され、当該処理部３で処理が完了した基板Ｓを第１処理部２における基板進行方向とは逆方向に搬送しながら仕上げ洗浄処理及び乾燥処理を基板Ｓに施す第３処理部４とを有しており、これによってインデクサ部１から取出した基板Ｓを順次各処理部２〜４を経由した後、再びインデクサ部に回収するように構成されている。
【００２４】
この基板処理装置において、前記インデクサ部１および各処理部２〜４は次のような構成を有している。なお、以下の説明においては、図１に示すように、水平面上で第１処理部１による基板Ｓの搬送方向をＸ方向、これと直交する方向をＹ方向とし、また、単に上流側、下流側という時には基板Ｓの搬送方向に基づくものとして説明を進めることにする。
【００２５】
＜ インデクサ部１ ＞
インデクサ部１は、基板Ｓを収納した基板収納カセットＣ（以下、カセットＣと略す）を載置するカセット載置部１ａと、このカセット載置部１ａに置かれたカセットＣに対して基板Ｓを出し入れするロボットＲとを有しており、ロボットＲによりカセットＣから基板Ｓを順次取り出して第１処理部２へ搬入すると共に、全処理が終了した基板ＳをロボットＲにより第３処理部４からカセットＣに戻すように構成されている。なお、カセットＣは、例えば図外の無人搬送車によりカセット載置部１ａに対して搬入・搬出されるように構成されている。
【００２６】
＜ 第１処理部２ ＞
図１及び図２（ａ）に示すように、第１処理部２は、搬入室２Ａと第１洗浄室２Ｂとを含み、各室２Ａ，２Ｂには、搬送ローラ１０が所定間隔でＸ方向に配列されている。各搬送ローラ１０は、Ｙ方向に沿って角度θの勾配を有して配列されており（図３（ａ）参照）、これにより基板Ｓをその表面が搬送方向（Ｘ方向）から見て傾斜し、詳しくは装置外側に向かって先下がりに傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行になる姿勢に支持した状態で搬送するようになっている。
【００２７】
搬入室２Ａには、これら搬送ローラ１０よりも上流側の位置に、ロボットＲから基板Ｓを受け取るための受取り機構１２と、基板Ｓの姿勢を変換するための姿勢変換機構１４とが配備されている。これら受取り機構１２及び姿勢変換機構１４は、ロボットＲによりインデクサ部１から水平姿勢で取り出された基板Ｓを受取ると共にその姿勢を上記搬送ローラ１０による搬送が可能な姿勢に変換するものである。
【００２８】
受取り機構１２は、図２（ａ）に示すように、基板Ｓを支持するための複数の支持ピン１２２と、これら支持ピン１２２を昇降駆動するエアシリンダ等のアクチュエータ１２１等から構成されている。他方、姿勢変換機構１４は、図３（ａ）（ｂ）に示すように、所定間隔でＸ方向に配列される複数本の搬送ローラ１４１と、これら搬送ローラ１４１の一端側を昇降させるエアシリンダ等のアクチュエータ１４２等とを備えており、アクチュエータ１４２の駆動により当該搬送ローラ１４１を一体に水平姿勢と傾斜姿勢とに切換えるように構成されている。なお、前記受取り機構１２は、姿勢変換機構１４の前記搬送ローラ１４１の下方位置に配置されており、前記アクチュエータ１２１の作動により支持ピン１２２が搬送ローラ１４１の上方に突出する作動位置と搬送ローラ２２の下方に退避する退避位置とに昇降するように構成されている。すなわち、インデクサ部１から搬入室２Ａへの基板Ｓの搬入時には、まず、姿勢変換機構１４の各搬送ローラ１４１が水平姿勢にセットされ、かつ受取り機構１２の各支持ピン１２２が作動位置にセットされた状態で、ロボットＲから受取り機構１２の支持ピン１２２に基板Ｓが受け渡される。そしてその後、支持ピン１２２が退避位置に下降することにより基板Ｓが搬送ローラ１４１上に移載され（図３（ａ））、さらに搬送ローラ１４１が傾斜姿勢に切換られることにより基板Ｓが搬送ローラ１０による搬送が可能な姿勢、すなわちＹ方向に沿って前記角度θの勾配を有する傾斜姿勢に変換される（図３（ｂ））。
【００２９】
一方、第１洗浄室２Ｂには、基板Ｓに洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル１６が搬送ローラ１０の上方位置に配備されている。これら洗浄液供給ノズル１６は、シャワーノズル等からなり、第１洗浄室２Ｂでは、傾斜姿勢で搬入されてくる基板Ｓに対してこれら洗浄液供給ノズル１６から洗浄液を供給することで、基板Ｓに沿って洗浄液を流下させながら洗浄処理を進めるようになっている。つまり、基板Ｓに沿って洗浄液を流下させることで、基板Ｓ上の異物等を洗浄液と共に速やかに基板外に除去すると共に基板Ｓ上の洗浄液を速やかに新たな洗浄液に置換して洗浄処理を効率的に進めるようになっている。
【００３０】
＜ 第２処理部３ ＞
第２処理部３は、図１及び図２（ｂ）に示すように、基板Ｓの搬送方向における上流側から順に、第１姿勢変換室３Ａ、薬液処理室３Ｂおよび第２姿勢変換室３Ｃが設けられている。各室３Ａ〜３Ｃには、搬送ローラ２０が所定間隔でＹ方向に配列されている。各搬送ローラ２０は、Ｘ方向に沿って角度θの勾配を有して配列されており、これによって基板Ｓをその表面が搬送方向（Ｙ方向）から見て傾斜し、詳しくは装置外側に向かって先下がりに傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行になる姿勢に支持した状態で搬送するようになっている。
【００３１】
第１姿勢変換室３Ａには、第１洗浄室２Ｂから傾斜姿勢で搬送されてくる基板Ｓ、詳しくはＹ方向に沿って角度θの勾配を有する傾斜姿勢（第１傾斜姿勢に相当する）でＸ（＋）方向（第１搬送方向に相当する）に搬送されてくる基板Ｓの進行方向をＹ（＋）方向（第２搬送方向に相当する）に９０°転換すると共に、基板Ｓの姿勢を前記搬送ローラ２０により搬送可能な姿勢、つまりＸ方向に沿って角度θの勾配を有する傾斜姿勢（第２傾斜姿勢に相当する）に変換する姿勢変換機構２２が配備されている。
【００３２】
この姿勢変換機構２２は、本発明に係る姿勢変換装置に相当するものであり、この姿勢変換機構２２の具体的な構成については後に詳述することにする。なお、当実施形態では、第１処理部２の前記搬送ローラ１０が本発明にかかる第１搬送手段に相当し、第２処理部３の前記搬送ローラ２０が本発明にかかる第２搬送手段に相当する。
【００３３】
薬液処理室３Ｂには、基板Ｓに所定の薬液を供給するための薬液供給ノズル２４が搬送ローラ２０の上方位置に配備されている。これら薬液供給ノズル２４はシャワーノズル等からなり、薬液処理室３Ｂでは、傾斜姿勢で搬入されてくる基板Ｓに対して薬液供給ノズル２４から薬液を供給することで、基板Ｓに沿って薬液を流下させながら薬液処理を進めるようになっている。つまり、基板Ｓに沿って薬液を流下させることで、基板Ｓ上の処理残渣等を薬液と共に速やかに基板外に除去すると共に基板Ｓ上の薬液を速やかに新たな薬液に置換して薬液処理を効率的に進めるようになっている。
【００３４】
第２姿勢変換室３Ｃには、薬液処理室３Ｂから傾斜姿勢（Ｘ方向に沿って角度θの勾配を有する傾斜姿勢）で搬送されてくる基板Ｓの進行方向をＸ（−）方向に９０°転換すると共に、基板Ｓの姿勢を第３処理部４の後記搬送ローラ３０により搬送可能な姿勢、つまりＹ方向に沿って角度θの勾配を有する傾斜姿勢に変換する姿勢変換機構２６が配備されている。この姿勢変換機構２６は、第１姿勢変換室３Ａに配備される前記姿勢変換機構２２と基本的な構成は共通であり、この点については姿勢変換機構２２の説明と共に後述することにする。
【００３５】
第２姿勢変換室３Ｃには、さらに薬液処理後の基板Ｓに洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル２８が姿勢変換機構２６の上方位置に配備されている。これら洗浄液供給ノズル２８は、例えばシャワーノズル等からなり、これら洗浄液供給ノズル２８によって姿勢変換中の基板Ｓに洗浄液を供給することにより、薬液処理後の基板Ｓに対して直ちに洗浄処理を施すようになっている。
【００３６】
＜ 第３処理部４ ＞
第３処理部４は、図１及び図２（ｃ）に示すように、第２洗浄室４Ａと搬出室４Ｂを含み、各室４Ａ，４Ｂには、搬送ローラ３０が所定間隔でＸ方向に配列されている。各搬送ローラ３０は、Ｙ方向に沿って角度θの勾配を有して配列されており、これにより基板Ｓをその表面が搬送方向（Ｘ方向）から見て傾斜し、詳しくは装置外側に向かって先下がりに傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行になる姿勢に支持した状態で搬送するようになっている。
【００３７】
第２洗浄室４Ａには、基板Ｓに洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル３２が搬送ローラ３０の上方位置に配備されている。これら洗浄液供給ノズル３２は、例えばシャワーノズル等からなり、第２洗浄室４Ａでは、第２姿勢変換室３Ｃから傾斜姿勢で搬入されてくる基板Ｓの上面にこれら洗浄液供給ノズル３２から洗浄液を供給することで、基板Ｓに沿って洗浄液を流下させながら基板Ｓの洗浄処理を進めるようになっている。
【００３８】
第２洗浄室４Ａにおいて洗浄液供給ノズル３２よりも下流側の位置には、上下一対の液切りナイフ３３が配備されている。これら液切りナイフ３３は、スリットノズル等からなり、洗浄液供給後の基板Ｓの上下各面に対して高圧エアや不活性ガスを吹き付けて基板Ｓに付着した洗浄液を除去することにより、当該基板Ｓに乾燥処理を施す。
【００３９】
搬出室４Ｂには、姿勢変換機構３６と受渡し機構３４とが配備されている。これら受渡し機構３４及び姿勢変換機構３６は、第２洗浄室４Ａから傾斜姿勢で搬送されてくる基板Ｓを水平姿勢に変換してロボットＲに受渡すもので、基本的な構成は、前記搬入室２Ａに配備される受取り機構１２及び姿勢変換機構１４と共通である。
【００４０】
すなわち、搬出室４Ｂからの基板Ｓの搬出時には、まず、姿勢変換機構３６の各搬送ローラ（図示省略）が傾斜姿勢にセットされ、かつ受渡し機構３４の各支持ピン３４２が退避位置にセットされた状態で、第２洗浄室４Ａから搬出室４Ｂに基板Ｓが搬入される。そして、姿勢変換機構３６の各搬送ローラが傾斜姿勢から水平姿勢に切換られることにより基板Ｓの姿勢が水平姿勢に変換され、その後、アクチュエータ３４１の作動により受渡し機構３４の各支持ピン３４２が作動位置にセットされることにより、基板Ｓが搬送ローラから持ち上げられ、さらにこの状態で当該受渡し機構３４からロボットＲに基板Ｓが水平姿勢で受渡されることにより、当該ロボットＲによって基板Ｓが搬出室４Ｂから搬出されてインデクサ部１のカセットＣに収容されるようになっている。
【００４１】
図４〜図７は、第１姿勢変換室３Ａに配備される姿勢変換機構２２を示している。
【００４２】
同図に示すように、姿勢変換機構２２は、基板Ｓを支持するための支持テーブル２２１と、この支持テーブル２２１を揺動させる揺動機構とを含んでいる。
【００４３】
支持テーブル２２１は、基板Ｓの一辺（長辺）よりも若干長い一辺を有する正方形のテーブルで、揺動機構を介して第１姿勢変換室３Ａ内のベース２２０上に支持されている。
【００４４】
支持テーブル２２１は、図５に示すように、平面視でその一辺がＸ（又はＹ）方向に沿うように配置され、その対角線に沿って角度θだけ傾斜した状態で前記ベース２２０上に支持されると共に前記対角線と平行な軸周りに揺動（回動）可能に設けられている。
【００４５】
すなわち、支持テーブル２２１の下方には、当該支持テーブル２２１の対角線、具体的には支持テーブル２２１のうちＸ（＋）方向末端であってかつＹ（−）方向末端に位置する頂部を通る対角線に沿って支持軸２４０（本発明にかかる支持手段に相当する）が設けられている。この支持軸２４０は、図４及び図６に示すように、その一端（Ｘ（＋）方向一端；以下、支持軸２４０の先端という）がベース２２０上のブラケット２４２に対してピン２１４を介して支持される一方、他端（支持軸２４０の後端という）がベース２２０上に固定される昇降用エアシリンダ２４４のロッド２４５先端にピン２４６を介して連結されることにより、前記対角線に沿ってその後端側から先端側に向かって先下がりの傾斜姿勢でベース２２０上に支持されると共に、前記昇降用エアシリンダ２４４の作動に伴にその先端を支点として傾斜角度の切換えが可能に設けられている。なお、支持軸２４０の傾斜角度は、前記搬送ローラ１０，２０の傾斜角度、すなわち搬送時の基板Ｓの傾斜角度θに保持されている。
【００４６】
そして、この支持軸２４０に対して複数（図示の例では２つ）のロータリーアクチュエータ２４８（本発明にかかる揺動手段に相当する）を介して前記支持テーブル２２１が支持されている。ロータリーアクチュエータ２４８は、ステータ部とその内側に回転可能に支持されるロータ部とを有し、空気圧によりステータ部に対してロータ部を回転駆動する所謂空気圧モータからなり、当該実施形態では、ロータ部が支持軸２４０の外周面に固定される一方、ステータ部が前記支持テーブル２２１下面においてその対角線に沿う位置に固定されている。
【００４７】
これにより、支持テーブル２２１がその対角線に沿って角度θの勾配を有した状態でベース２２０上に支持されると共に各ロータリーアクチュエータ２４８の作動に伴い支持軸２４０回り、つまり前記対角線と平行な軸周りに揺動（回動）可能となっている。そしてこの構成により、支持テーブル２２１のうちＹ（−）方向側の一辺２２１ｂが水平になる位置、つまり上流側の搬送ローラ１０による基板搬送方向と平行となる位置まで支持テーブル２２１を支持軸２４０回りに回動（揺動）させると、図４及び図６に示すように、支持テーブル２２１が上流側の搬送ローラ１０と同角度θに傾斜した状態で搬送ローラ１０に並び、その結果、搬送ローラ１０から支持テーブル２２１上への基板Ｓの受入れが可能となる（図２（ａ）参照）。一方、支持テーブル２２１のうちＸ（＋）方向側の一辺２２１ａが水平になる位置、つまり下流側の搬送ローラ２０による搬送方向と平行となる位置まで支持テーブル２２１を支持軸２４０回りに回動させると、図８及び図９に示すように、支持テーブル２２１が搬送ローラ２０と同角度θに傾斜した状態で当該搬送ローラ２０に並び、その結果、支持テーブル２２１から搬送ローラ２０への基板Ｓの受渡しが行えるようになっている。なお、以下の説明では、図４及び図６に示す支持テーブル２２１の状態を「基板受入れ姿勢」と呼び、図８及び図９に示す支持テーブル２２１の状態を「基板受渡し姿勢」と呼ぶことにする。
【００４８】
前記支持テーブル２２１の上面には、図４及び図５に示すように、基板Ｓを支持するための複数の支持部２２２がマトリクス状に配置されている。これら支持部２２２は、回転自在に保持された球体によって基板Ｓを支持する例えばボールキャスタからなり、これによって支持テーブル２２１は、基板Ｓをその面に沿った任意の方向に変位可能な状態で支持し得るように構成されている。
【００４９】
支持テーブル２２１の上面には、さらにその端部であって前記辺２２１ｂに沿った位置に、複数の受入れローラ２２４（受入れ側ローラ群と呼ぶ）が当該辺２２１ｂに沿って等間隔で設けられると共に、同端部であって前記辺２２１ａに沿った位置に、複数の受渡しローラ２２６（受渡し側ローラ群と呼ぶ）が当該辺２２１ａに沿って等間隔で設けられている。
【００５０】
これらローラ２２４，２２６は、それぞれ傾斜姿勢で支持テーブル２２１上に支持された基板Ｓの下位側端部を受けると共に当該基板Ｓに対して基板搬送方向の推力を与えるものであり、当実施形態では、当該受入れローラ２２４及び後記受入れモータ２３０等が本発明にかかる第１推力付与手段に相当し、受渡しローラ２２６及び後記受渡しモータ２３２等が本発明にかかる第２推力付与手段に相当する。
【００５１】
これらローラ２２４，２２６は、それぞれ支持テーブル２２１の上面に対して垂直な軸回りに回転可能に支持されると共に、ローラ群毎に、各ローラ２２４，２２６が同一方向に一体的に回転駆動されるように構成されている。すなわち、図７に示すように、支持テーブル２２１にはこれを貫通しかつ同テーブル２２１に回転可能に保持されるローラ軸が設けられ、支持テーブル２２１の上面側において当該ローラ軸にローラ２２４，２２６が固定される一方、支持テーブル２２１の下面側において前記ローラ軸にプーリ２２４ａ，２２６ａが固定されている。そして、支持テーブル２２１の下面（裏面）に受入れモータ２３０及び受渡しモータ２３２が固定されると共に複数のテンションプーリ２２５、２２７が設けられ、受入れモータ２３０の出力軸に固定されるプーリ（不図示）と前記各プーリ２２４ａ，２２５とに亘って駆動ベルト２３１が掛け渡される一方、受渡しモータ２３２の出力軸に固定されるプーリ２３２ａと前記各プーリ２２６ａ，２２７とに亘って駆動ベルト２３３が掛け渡されている。この構成により、受入れモータ２３０の作動により受入れ側ローラ群の各受入れローラ２２４が同一方向に一体に回転駆動される一方、受渡しモータ２３２の作動により受渡し側ローラ群の各受渡しローラ２２６が同一方向に一体に回転駆動されるようになっている。なお、図６及び図９では、便宜上、駆動ベルト２３１，２３３の図示を省略している。
【００５２】
上記各ローラ２２４，２２６は、図５に示すように、支持テーブル２２１上に基板Ｓが支持されかつ両ローラ２２４，２２６に当該基板Ｓの直交する二辺Ｓ１，Ｓ２がそれぞれ当接した状態で、当該二辺Ｓ１，Ｓ２により形成される基板Ｓの頂角が支持テーブル２２１の対角線上に位置するように設けられている。これにより支持テーブル２２１が支持軸２４０回りに揺動すると、前記二辺Ｓ１，Ｓ２のうち搬送ローラ１０による搬送方向（Ｘ方向）先頭側に位置する辺Ｓ１を一辺として当該基板Ｓ上に形成した仮想正方形の対角線Ｄと平行な軸線（つまり支持軸２４０）回りに基板Ｓが揺動するようになっている。
【００５３】
以上のような姿勢変換機構２２によると、次のようにして基板Ｓの姿勢が変換される。
【００５４】
まず、図４及び図６に示すように、ロータリーアクチュエータ２４８の作動により支持テーブル２２１が上記基板受入れ姿勢にセットされる。これにより第１洗浄室２Ｂから傾斜姿勢で搬送されてくる基板Ｓが支持テーブル２２１上に受入れられる（図４の二点鎖線矢印参照）。この際、前記受入れローラ２２４が駆動され、支持テーブル２２１上に移動してくる基板Ｓの下端部が当該受入れローラ２２４により支持されることにより当該基板Ｓに搬送方向（Ｘ（＋）方向）の推力が与えられ、その結果、支持テーブル２２１への基板Ｓの受入れが速やかに行われる。そして、進行方向先端の一辺Ｓ１が受渡しローラ２２６に当接する位置にまで基板Ｓが送られると（図５に示す状態）、受入れローラ２２４の駆動が停止されて支持テーブル２２１への基板Ｓの受入れが完了する。
【００５５】
基板Ｓの受入れが完了すると、ロータリーアクチュエータ２４８の作動により支持テーブル２２１が揺動し、図８及び図９に示すように、支持テーブル２２１の姿勢が基板受入れ姿勢から上記基板受渡し姿勢に切換えられ、これに伴い基板Ｓの姿勢がＸ方向に勾配を有する傾斜姿勢に変換されることとなる。このように支持テーブル２２１の姿勢が切換られると、前記基板Ｓは、搬送ローラ１０による搬送方向（Ｘ方向）先頭側に位置する辺Ｓ１を一辺として当該基板Ｓ上に形成した仮想正方形の対角線Ｄ（図５参照）と平行な軸線、つまり支持軸２４０回りに前記先頭側の辺Ｓ１が搬送ローラ２０による搬送方向（Ｙ方向）と平行となる位置まで回動し、これによって基板Ｓの姿勢がＸ方向に沿って勾配を有しかつ前記先頭側の辺Ｓ１が下端に位置するような傾斜姿勢に変換されることとなる。
【００５６】
こうして基板Ｓの姿勢が変換されると、受渡しローラ２２６が駆動されて基板Ｓに搬送方向、つまりＹ（＋）方向の推力が与えられ、これによって基板Ｓが支持テーブル２２１から搬送ローラ２０上へ送り出され、当該姿勢変換機構２２による基板Ｓの姿勢変換動作が完了することとなる。
【００５７】
なお、ここでは、第１姿勢変換室３Ａに配備される姿勢変換機構２２の構成について説明したが、第２姿勢変換室３Ｃに配備される姿勢変換機構２６も基本的には同様の構成である。すなわち、詳細図を省略するが、姿勢変換機構２６は、薬液処理後、搬送ローラ２０により傾斜姿勢（Ｘ方向に勾配を有する傾斜姿勢）で搬送されてくる基板Ｓを基板受入れ姿勢にセットされた支持テーブル２６１（図２（ｂ）参照）上に受入れた後、当該支持テーブル２６１を基板受渡し姿勢に変換し、これにより基板Ｓの姿勢を搬送ローラ３０により搬送可能な傾斜姿勢（Ｙ方向に勾配を有する傾斜姿勢）に変換した後、当該基板Ｓを支持テーブル２６１から搬送ローラ３０に受渡すように構成されている。
【００５８】
次に、この基板処理装置における基板Ｓの一連の処理について説明する。
【００５９】
まず、インデクサ部１においてカセットＣから取り出された基板Ｓは、ロボットＲにより水平姿勢のまま第１処理部２（搬入室２Ａ）に搬入されて受取り機構１２に受渡される。そして、姿勢変換機構１４により水平姿勢から傾斜姿勢に姿勢変換された後、搬送ローラ１０の駆動により搬送されて第１洗浄室２Ｂに搬入され、この第１洗浄室２Ｂ内を所定速度で移動する間にその表面に洗浄液供給ノズル１６から洗浄液が供給されることにより洗浄処理が施される。
【００６０】
第１洗浄室２Ｂを通過した基板Ｓは、次に第２処理部３の第１姿勢変換室３Ａに搬入されて搬送ローラ１０から姿勢変換機構２２に受渡される。そして、当該姿勢変換機構２２により、基板Ｓの姿勢がＹ方向に沿って勾配を有する傾斜姿勢からＸ方向に沿って勾配を有する傾斜姿勢に変換されると共に基板Ｓの搬送方向が直交する方向に転換される。
【００６１】
姿勢変換後、基板Ｓは姿勢変換機構２２から搬送ローラ２０に受渡され、搬送ローラ２０の駆動により搬送されて薬液処理室３Ｂに搬入され、この第１洗浄室２Ｂ内を所定速度で移動する間にその表面に薬液供給ノズル２４から薬液が供給されることにより薬液処理が施される。
【００６２】
薬液処理室３Ｂを通過した基板Ｓは、次に第２姿勢変換室３Ｃに搬入されて搬送ローラ２０から姿勢変換機構２６に受け渡される。そして、当該姿勢変換機構２６により基板Ｓの姿勢がＸ方向に沿って勾配を有する傾斜姿勢からＹ方向に沿って勾配を有する傾斜姿勢に変換されると共に基板Ｓの搬送方向が直交する方向に転換される。なお、この姿勢変換動作中、基板Ｓには洗浄液供給ノズル２８から洗浄液が供給され、これにより薬液処理後の基板Ｓに対して洗浄処理が速やかに開始される。
【００６３】
こうして姿勢変換された基板Ｓは、姿勢変換機構２６から搬送ローラ３０に受渡され、搬送ローラ３０の駆動により搬送されて第２洗浄室４Ａに搬入される。そして、この第２洗浄室４Ａ内を所定速度で移動する間にその表面に洗浄液供給ノズル３２から洗浄液が供給されることによりさらに洗浄処理が施される。
【００６４】
次に、基板Ｓは第２洗浄室４Ａから搬出室４Ｂに搬出される。そして、第２洗浄室４Ａからの搬出時、液切りナイフ３３により基板Ｓの上下各面に高圧エア等が吹き付けられて洗浄液が除去されることにより当該基板Ｓに乾燥処理が施される。
【００６５】
こうして基板Ｓが搬出室４Ｂに搬入されると、まず、姿勢変換機構３６により基板Ｓの姿勢が水平姿勢に戻され、その後、受渡し機構３４により基板ＳがロボットＲに受渡されることにより当該ロボットＲにより基板ＳがカセットＣに収容される。これによって当該基板処理装置による一連の基板Ｓの処理が終了することとなる。
【００６６】
以上のような基板処理装置によると、インデクサ部１に対して「コ」字形の搬送路を構成し、インデクサ部１から取出した基板Ｓを各処理部２〜４を経由してインデクサ部１に戻すように構成されているので、基板処理装置に対する基板Ｓの搬入出をインデクサ部１に統一して無人搬送車によるカセット搬送を合理的に行うことができる上、その全工程に亘って基板Ｓを傾斜姿勢で搬送しながら洗浄等の処理を基板Ｓに施すように構成されているので、当該洗浄等の処理を、洗浄液等を基板Ｓに沿って流下させながら効率的に進めることができる。
【００６７】
しかも、この基板処理装置では、基板Ｓの進行方向を９０°転換する必要がある第１洗浄室２Ｂと薬液処理室３Ｂとの間、および薬液処理室３Ｂと第２洗浄室４Ａとの間に上記のような姿勢変換機構２２，２６を配備し、方向転換前の基板Ｓの姿勢（Ｙ方向（Ｘ方向）に沿って勾配を有する傾斜姿勢）を単一の姿勢変換機構２２（２６）によって直接方向転換後の姿勢（Ｘ方向（Ｙ方向）に沿って勾配を有する姿勢）に変換するので、従来のこの種の装置に比べると、より少ないスペースで効率良く基板Ｓの搬送方向を転換することができる。すなわち、傾斜姿勢で搬送される基板を姿勢変換機構により一旦水平姿勢に戻し、この水平姿勢の基板を別の姿勢変換機構に移し替えてから基板Ｓを次の傾斜姿勢に変換する従来のこの種の装置では、進行方向の転換地点にそれぞれ２つ、合計４つの姿勢変換機構を並べて配置する必要があるため、姿勢変換機構の占有スペースが大きくなり、また、姿勢変換に多くの時間を要することとなる。これに対して上記実施形態の装置によれば、上記の通り単一の姿勢変換機構２２（２６）で基板Ｓの姿勢を直接方向転換後の姿勢に変換できるので、従来装置に比べると基板Ｓの姿勢変換に要するスペースを縮小することができ、また、当該姿勢変換に要する時間も大幅に短縮することができる。従って、より少ないスペースで効率良く基板Ｓの搬送方向を転換することが可能となる。
【００６８】
特に、上記実施形態の姿勢変換機構２２（２６）は、ロータリーアクチュエータ２４８を介して支持軸２４０に支持テーブル２２１を揺動可能に装着し、前記ロータリーアクチュエータ２４８の作動により支持テーブル２２１を揺動させるように構成されているため、極めて簡単な構成で上記のような作用効果を享受することができるという利点がある。
【００６９】
なお、上記の基板処理装置では、方向転換前の基板Ｓの傾斜角度と方向転換後の基板Ｓの傾斜角度、例えば第１洗浄室２Ｂにおいて搬送ローラ１０により搬送される基板Ｓの傾斜角度と薬液処理室３Ｂにおいて搬送ローラ２０により搬送される基板Ｓの傾斜角度とが等しい場合について説明したが、上記姿勢変換機構２２（２６）によると、方向転換前後の基板Ｓの傾斜角度が異なる場合についても対応できるという利点がある。
【００７０】
すなわち、方向転換前後の基板Ｓの傾斜角度が異なる場合には、まず、支持テーブル２２１を基板受入れ姿勢にセットした後、昇降用エアシリンダ２４４（本発明にかかる角度可変手段に相当する）を作動させて支持軸２４０の傾斜角度を変更し、これにより支持テーブル２２１の傾斜角度を方向転換前の基板Ｓの傾斜角度に一致させて当該基板Ｓを支持テーブル２２１上に受入れる。その後、支持テーブル２２１を基板受渡し姿勢に切換えると共に昇降用エアシリンダ２４４を作動させて支持軸２４０の傾斜角度を変更して支持テーブル２２１の傾斜角度を方向転換後の基板Ｓの傾斜角度に一致させ、支持テーブル２２１上の基板Ｓを下流側に送り出す。このようにすれば、方向転換前後の基板Ｓの傾斜角度が異なる場合でも、難なく対応することができる。
【００７１】
ところで、上述した基板処理装置は、本発明に係る基板搬送装置（本発明に係る姿勢変換装置が適用される基板搬送装置）が適用される基板処理装置の一例であり、基板処理の全体構成、基板搬送装置の構成及び姿勢変換装置の具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【００７２】
例えば、上記実施形態では、支持テーブル２２１を、ロータリーアクチュエータ２４８を介して支持軸２４０に回動可能に支持し、当該ロータリーアクチュエータ２４８の駆動により支持テーブル２２１を支持軸２４０回りに回動（揺動）させているが、上記ロータリーアクチュエータ２４８の代わりに支持テーブル２２１の下面をエアシリンダ等のアクチュエータにより支持し、当該アクチュエータの駆動により前記支持軸２４０回りに支持テーブル２２１を揺動させるように構成してもよい。また、支持軸２４０を設けることなく、支持テーブル２２１の下面をエアシリンダ等の複数の昇降用アクチュエータにより支持し、当該アクチュエータを個別に制御することによって支持テーブル２２１の姿勢を切換えるように構成してもよい。つまり、上記基板受入れ姿勢と基板受渡し姿勢とに亘って支持テーブル２２１を揺動させることができれば、支持テーブル２２１を揺動させるための具体的な構成は実施形態のものに限定されるものではなく、適宜変更可能である。
【００７３】
また、上記実施形態では、基板Ｓを傾斜姿勢で搬送しながら当該基板Ｓに洗浄処理、薬液処理及び乾燥処理を順次施すように基板処理装置が構成されているが、具体的な処理内容も実施形態のもに限定されるものではなく、適宜変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明に係る基板搬送装置（本発明に係る姿勢変換装置が適用される基板搬送装置）が適用される基板処理装置の概略を示す平面模式図である。
【図２】図１に示す基板処理装置の概略を側面視で示す図であり、（ａ）は第１処理部から第２処理部の部分を示す側面図、（ｂ）は第２処理部を示す側面図、（ｃ）は第２処理部から第３処理部の部分を示す側面図である。
【図３】搬入室に配備される基板の姿勢変換機構を示す斜視概略図であり、（ａ）は基板を水平姿勢に支持した状態、（ｂ）は基板を傾斜姿勢に変換した状態をそれぞれ示す。
【図４】第１姿勢変換室に配備される基板の姿勢変換機構を示す斜視図（支持テーブルが基板受入れ姿勢にセットされた状態）である。
【図５】姿勢変換機構を示す平面図である。
【図６】姿勢変換機構に組込まれる揺動機構を示す図４のVI方向矢視図である。
【図７】姿勢変換機構に組込まれる揺動機構および受入れ及び受渡しローラの駆動機構を示す図４のVII方向矢視図である。
【図８】姿勢変換機構を示す斜視図（支持テーブルが基板受渡し姿勢にセットされた状態）である。
【図９】姿勢変換機構を示す側面図（図６に対応する側面図）である。
【図１０】従来の基板搬送装置の概略を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７５】
１ インデクサ部
２ 第１処理部
３ 第２処理部
４ 第３処理部
２Ａ 搬入室
２Ｂ 第１洗浄室
３Ａ 第１姿勢変換室
３Ｂ 薬液処理室
３Ｃ 第２姿勢変換室
４Ａ 第２洗浄室
４Ｂ 搬出室
２２，２６ 姿勢変換機構
２２１，２６１ 支持テーブル
Ｃ カセット
Ｒ ロボット
Ｓ 基板
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＣＤ（液晶表示装置）やＰＤＰ（プラズマディスプレイ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板等の製造に適した基板搬送方法、姿勢変換装置および基板搬送装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＬＣＤ等のガラス基板（以下、単に基板という）の製造工程では、搬送ローラにより基板を傾斜姿勢で搬送しながら、その基板表面に処理液を供給することにより所定のプロセス処理を基板に施すことが行われている。このような処理方法によれば、基板上の処理残渣を処理液と共に速やかに基板外に流下させて除去することができ、また、基板上の処理液を速やかに新たな処理液に置換できるため、基板の処理を効率化できる。
【０００３】
ところが、上記のように基板を傾斜姿勢でローラ搬送する場合には、傾斜姿勢を維持したまま搬送方向を転換することは困難であり、姿勢変換が必要となる。例えば特許文献１に開示されるように、インデクサ部に対して往路、反転路及び復路からなるコ字型の搬送路を設け、インデクサ部から取出した基板に順次処理を施しながら再びインデクサ部に回収するようなレイアウト構成が採られる場合があるが、このような場合には往路〜反転路、および反転路〜往路で搬送方向を９０°転換させる必要があるため当該方向転換地点で基板の姿勢変換が必要となる。
【０００４】
このような場合、従来では、図１０に示すような装置構成を採用することが行われている。すなわち、インデクサ部５００に対して往路５０１、反転路５０２及び復路５０３からなるコ字型の搬送路を設けると共に、往路５０１、反転路５０２及び復路５０３でそれぞれ基板Ｓを傾斜姿勢で搬送しながら処理を行う場合には、同図に示すように、往路５０１と反転路５０２との間に、基板Ｓの姿勢を往路５０１搬送時の傾斜姿勢から水平姿勢に戻す第１機構５１１と水平姿勢に戻した基板Ｓを次の傾斜姿勢（反転路５０２搬送時の傾斜姿勢）に変換する第２機構５１２とを設け、傾斜姿勢の基板Ｓを一端水平姿勢に戻してから次の傾斜姿勢に変換した後、反転路５０２に送り出すことが行われている。同様に、反転路５０２と復路５０３との間には、傾斜姿勢で搬送される基板Ｓを水平姿勢に戻す第３機構５１４と水平姿勢に戻した基板Ｓを次の傾斜姿勢（復路５０３搬送時の傾斜姿勢）に変換する第４機構５１５とが設けられる。
【特許文献１】特開２００４−２８４６９４号公報（図１参照）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記のような構成では、基板Ｓの搬送方向の転換地点にそれぞれ２つ、合計４つの姿勢変換機構を設ける必要があるため、装置の大型化を助長する。また、基板の姿勢変換に時間を要するため効率的な処理の妨げになるという課題がある。従って、この点を改善することが求められる。
【０００６】
本発明は、上記のような事情に鑑みて成されたものであり、互いに直交した搬送経路に沿って基板を傾斜姿勢で搬送する一方で、より少ないスペースで効率良く基板の搬送方向を転換できるようにすることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、本発明は、矩形の基板を第１搬送方向に搬送した後、この第１搬送方向と直交する第２搬送方向に搬送方向を転換して基板を搬送する方法であって、前記基板をその表面が前記第１搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第１搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送工程と、第１搬送方向に搬送される前記基板をその表面が前記第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換工程と、この姿勢変換工程で第２傾斜姿勢に姿勢変換された前記基板を当該第２傾斜姿勢に支持した状態で前記第２搬送方向に搬送する第２搬送工程と、を含み、前記姿勢変換工程では、第１搬送方向に搬送される基板の先頭側の辺を一辺として当該基板上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板の先頭下位側の頂部を通る対角線又は当該対角線と平行な軸線回りに前記先頭側の辺が第２搬送方向と平行となる位置まで基板を回動させることにより前記基板を前記第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換するようにしたものである。
【０００８】
この方法によれば、第１搬送工程後、一工程で基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に直接変換して第２搬送工程に移行することができる。そのため、従来のように基板の姿勢変換に二工程を要する方法、すなわち、第１搬送方向に搬送される傾斜姿勢（第１傾斜姿勢）の基板を一旦水平姿勢に戻してから次の傾斜姿勢（第２傾斜姿勢）に変換して第２搬送方向に基板を搬送する方法に比べると、基板の姿勢変換に要するスペースを縮小することができ、また当該姿勢変換に要する時間を短縮することができる。従って、より少ないスペースで効率良く基板の搬送方向を転換することが可能となる。
【０００９】
一方、本発明に係る姿勢変換装置は、矩形の基板をその表面が搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送方向と直交する第２搬送方向に基板を搬送する搬送手段であって基板をその表面が第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に支持した状態で搬送する第２搬送手段との間に介設され、前記第１搬送手段から第２搬送手段への基板の受渡しを行うべく基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換装置であって、前記基板を少なくとも前記第１搬送方向及び第２搬送方向に変位可能に支持する支持部を備えたテーブルと、このテーブルを揺動可能に支持する支持手段と、前記テーブルの上面が前記第１搬送方向から見て傾斜しかつ前記第１傾斜姿勢で搬送される基板を第１搬送手段から受入れる基板受入れ姿勢と前記テーブルの上面が前記第２搬送方向から見て傾斜しかつテーブル上に支持された基板を第２搬送手段へ受渡し可能とする基板受渡し姿勢とに亘って前記テーブルを揺動させる揺動手段と、を備えており、前記基板受渡し姿勢は、前記基板受入れ姿勢で前記テーブルに受入れた基板の先頭側の辺を一辺として当該基板上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板の先頭下位側の頂部を通る対角線又は当該対角線と平行な軸線回りに前記先頭側の辺が第２搬送方向と平行となる位置まで当該基板を回動させた姿勢とされているものである。
【００１０】
この姿勢変換装置によると、基板受入れ姿勢にあるテーブル上に第１傾斜姿勢で基板を受入れた後、揺動手段の作動により当該テーブルを基板受渡し姿勢に切換することにより、基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に直接変換することができる。従って、第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢への基板の姿勢変換をより少ないスペースで、しかも効率良く行うことができるようになる。
【００１１】
具体的な構成として、前記支持手段は、前記対角線と平行に設けられて前記テーブルを回動可能に支持する支持軸からなり、前記揺動手段は、前記支持軸回りに前記テーブルを回動させるように構成される。
【００１２】
この構成では、前記テーブルが支持軸回りに回動（揺動）することにより、当該テーブルが基板受入れ姿勢と基板受渡し姿勢とに変換される。そのため、簡素な構成で上記のような基板の姿勢変換を達成することができる。
【００１３】
なお、上記の構成は、第１傾斜姿勢と第２傾斜姿勢との傾斜角度（水平面に対する傾斜角度）が互いに等しい場合を前提としており、従って、第１傾斜姿勢と第２傾斜姿勢との傾斜角度が相互に異なる場合には適用が困難となる。
【００１４】
しかし、このような不都合は、水平面に対する前記支持軸の傾き角度を変更することにより前記基板受入れ姿勢又は基板受渡し姿勢における前記テーブルの傾き角度を切換える角度可変手段を備えることにより解消される。
【００１５】
すなわち、この構成によれば、第１傾斜姿勢と第２傾斜姿勢との傾斜角度が相互に異なる場合でも、角度可変手段の作動により基板受入れ時と基板受渡し時とのテーブルの傾斜角度を切換えることにより、第１搬送手段から第２搬送手段へ基板を難なく受け渡すことが可能となる。
【００１６】
また、上記の姿勢変換装置においては、前記基板受入れ姿勢で前記テーブル上に支持される基板に対して第１搬送方向の推力を付与する第１推力付与手段と、前記基板受渡し姿勢において前記テーブル上に支持される基板に対して前記第２搬送方向への推力を付与する第２推力付与手段とを備えているのが好適である。例えば、前記第１、第２推力付与手段として、傾斜姿勢の基板の下位側端部を支持し、回転により当該基板に前記推力を与える駆動ローラを設けることができる。
【００１７】
このような構成によれば、第１搬送手段からテーブルへの基板受入れの際には、第１推力付与手段により基板に第１搬送方向の推力を与えることによってテーブル内への基板の受入れを速やかに行うことができ、また、テーブルから第２搬送手段への基板受渡しの際には、第２推力付与手段により基板に第２搬送方向の推力を与えることによってテーブル内の基板を速やかに送り出すことができるようになる。
【００１８】
一方、本発明に係る基板搬送装置は、矩形の基板をその表面が搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送方向と直交する第２搬送方向に基板を搬送する搬送手段であって基板をその表面が第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に支持した状態で搬送する第２搬送手段と、前記第１搬送手段から第２搬送手段への基板の受渡しを行うべく基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換装置と、を備えた基板搬送装置であって、前記姿勢変換装置として、上記したような姿勢変換装置を備えているものである。
【００１９】
この基板搬送装置によると、互いに直交した搬送経路に沿って基板を傾斜姿勢で搬送しながらも、第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に直接基板の姿勢を変換することができる上記のような姿勢変換装置を備えているので、当該姿勢変換に二工程を要する従来のこの種の装置に比べると、装置の大型化を有効に抑えることができ、また搬送方向の転換を迅速に行いながら基板を効率良く搬送することが可能となる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によると、互いに直交する搬送方向に亘って基板を傾斜姿勢で搬送しながらも、上記の通り基板の姿勢変換を一工程で行えるので、基板の姿勢変換に要するスペースを縮小することができ、また当該姿勢変換に要する時間を短縮することができる。従って、より少ないスペースで効率良く基板の搬送方向を転換することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明の好ましい実施の形態について図面を用いて説明する。
【００２２】
図１は、本発明に係る基板搬送装置（本発明に係る姿勢変換装置が適用される基板搬送装置）が適用される基板処理装置の概略を示す平面模式図である。この装置は、矩形のガラス基板（以下、単に基板という）に薬液処理および洗浄処理を施すものである。
【００２３】
同図に示すように基板処理装置は、インデクサ部１と、このインデクサ部１に対して平面視で「コ」字形に連結される複数の処理部を有している。具体的には、基板Ｓを特定方向（図１において右方向）に搬送しながらこの基板Ｓに洗浄処理を施す第１処理部２と、この第１処理部２の終端に連結され、当該処理部２で処理が完了した基板Ｓを前記特定方向と直交する方向（図１において上方向）に搬送しながらこの基板Ｓに薬液処理及び洗浄処理を施す第２処理部３と、第２処理部３の終端に連結され、当該処理部３で処理が完了した基板Ｓを第１処理部２における基板進行方向とは逆方向に搬送しながら仕上げ洗浄処理及び乾燥処理を基板Ｓに施す第３処理部４とを有しており、これによってインデクサ部１から取出した基板Ｓを順次各処理部２〜４を経由した後、再びインデクサ部に回収するように構成されている。
【００２４】
この基板処理装置において、前記インデクサ部１および各処理部２〜４は次のような構成を有している。なお、以下の説明においては、図１に示すように、水平面上で第１処理部１による基板Ｓの搬送方向をＸ方向、これと直交する方向をＹ方向とし、また、単に上流側、下流側という時には基板Ｓの搬送方向に基づくものとして説明を進めることにする。
【００２５】
＜ インデクサ部１ ＞
インデクサ部１は、基板Ｓを収納した基板収納カセットＣ（以下、カセットＣと略す）を載置するカセット載置部１ａと、このカセット載置部１ａに置かれたカセットＣに対して基板Ｓを出し入れするロボットＲとを有しており、ロボットＲによりカセットＣから基板Ｓを順次取り出して第１処理部２へ搬入すると共に、全処理が終了した基板ＳをロボットＲにより第３処理部４からカセットＣに戻すように構成されている。なお、カセットＣは、例えば図外の無人搬送車によりカセット載置部１ａに対して搬入・搬出されるように構成されている。
【００２６】
＜ 第１処理部２ ＞
図１及び図２（ａ）に示すように、第１処理部２は、搬入室２Ａと第１洗浄室２Ｂとを含み、各室２Ａ，２Ｂには、搬送ローラ１０が所定間隔でＸ方向に配列されている。各搬送ローラ１０は、Ｙ方向に沿って角度θの勾配を有して配列されており（図３（ａ）参照）、これにより基板Ｓをその表面が搬送方向（Ｘ方向）から見て傾斜し、詳しくは装置外側に向かって先下がりに傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行になる姿勢に支持した状態で搬送するようになっている。
【００２７】
搬入室２Ａには、これら搬送ローラ１０よりも上流側の位置に、ロボットＲから基板Ｓを受け取るための受取り機構１２と、基板Ｓの姿勢を変換するための姿勢変換機構１４とが配備されている。これら受取り機構１２及び姿勢変換機構１４は、ロボットＲによりインデクサ部１から水平姿勢で取り出された基板Ｓを受取ると共にその姿勢を上記搬送ローラ１０による搬送が可能な姿勢に変換するものである。
【００２８】
受取り機構１２は、図２（ａ）に示すように、基板Ｓを支持するための複数の支持ピン１２２と、これら支持ピン１２２を昇降駆動するエアシリンダ等のアクチュエータ１２１等から構成されている。他方、姿勢変換機構１４は、図３（ａ）（ｂ）に示すように、所定間隔でＸ方向に配列される複数本の搬送ローラ１４１と、これら搬送ローラ１４１の一端側を昇降させるエアシリンダ等のアクチュエータ１４２等とを備えており、アクチュエータ１４２の駆動により当該搬送ローラ１４１を一体に水平姿勢と傾斜姿勢とに切換えるように構成されている。なお、前記受取り機構１２は、姿勢変換機構１４の前記搬送ローラ１４１の下方位置に配置されており、前記アクチュエータ１２１の作動により支持ピン１２２が搬送ローラ１４１の上方に突出する作動位置と搬送ローラ２２の下方に退避する退避位置とに昇降するように構成されている。すなわち、インデクサ部１から搬入室２Ａへの基板Ｓの搬入時には、まず、姿勢変換機構１４の各搬送ローラ１４１が水平姿勢にセットされ、かつ受取り機構１２の各支持ピン１２２が作動位置にセットされた状態で、ロボットＲから受取り機構１２の支持ピン１２２に基板Ｓが受け渡される。そしてその後、支持ピン１２２が退避位置に下降することにより基板Ｓが搬送ローラ１４１上に移載され（図３（ａ））、さらに搬送ローラ１４１が傾斜姿勢に切換られることにより基板Ｓが搬送ローラ１０による搬送が可能な姿勢、すなわちＹ方向に沿って前記角度θの勾配を有する傾斜姿勢に変換される（図３（ｂ））。
【００２９】
一方、第１洗浄室２Ｂには、基板Ｓに洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル１６が搬送ローラ１０の上方位置に配備されている。これら洗浄液供給ノズル１６は、シャワーノズル等からなり、第１洗浄室２Ｂでは、傾斜姿勢で搬入されてくる基板Ｓに対してこれら洗浄液供給ノズル１６から洗浄液を供給することで、基板Ｓに沿って洗浄液を流下させながら洗浄処理を進めるようになっている。つまり、基板Ｓに沿って洗浄液を流下させることで、基板Ｓ上の異物等を洗浄液と共に速やかに基板外に除去すると共に基板Ｓ上の洗浄液を速やかに新たな洗浄液に置換して洗浄処理を効率的に進めるようになっている。
【００３０】
＜ 第２処理部３ ＞
第２処理部３は、図１及び図２（ｂ）に示すように、基板Ｓの搬送方向における上流側から順に、第１姿勢変換室３Ａ、薬液処理室３Ｂおよび第２姿勢変換室３Ｃが設けられている。各室３Ａ〜３Ｃには、搬送ローラ２０が所定間隔でＹ方向に配列されている。各搬送ローラ２０は、Ｘ方向に沿って角度θの勾配を有して配列されており、これによって基板Ｓをその表面が搬送方向（Ｙ方向）から見て傾斜し、詳しくは装置外側に向かって先下がりに傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行になる姿勢に支持した状態で搬送するようになっている。
【００３１】
第１姿勢変換室３Ａには、第１洗浄室２Ｂから傾斜姿勢で搬送されてくる基板Ｓ、詳しくはＹ方向に沿って角度θの勾配を有する傾斜姿勢（第１傾斜姿勢に相当する）でＸ（＋）方向（第１搬送方向に相当する）に搬送されてくる基板Ｓの進行方向をＹ（＋）方向（第２搬送方向に相当する）に９０°転換すると共に、基板Ｓの姿勢を前記搬送ローラ２０により搬送可能な姿勢、つまりＸ方向に沿って角度θの勾配を有する傾斜姿勢（第２傾斜姿勢に相当する）に変換する姿勢変換機構２２が配備されている。
【００３２】
この姿勢変換機構２２は、本発明に係る姿勢変換装置に相当するものであり、この姿勢変換機構２２の具体的な構成については後に詳述することにする。なお、当実施形態では、第１処理部２の前記搬送ローラ１０が本発明にかかる第１搬送手段に相当し、第２処理部３の前記搬送ローラ２０が本発明にかかる第２搬送手段に相当する。
【００３３】
薬液処理室３Ｂには、基板Ｓに所定の薬液を供給するための薬液供給ノズル２４が搬送ローラ２０の上方位置に配備されている。これら薬液供給ノズル２４はシャワーノズル等からなり、薬液処理室３Ｂでは、傾斜姿勢で搬入されてくる基板Ｓに対して薬液供給ノズル２４から薬液を供給することで、基板Ｓに沿って薬液を流下させながら薬液処理を進めるようになっている。つまり、基板Ｓに沿って薬液を流下させることで、基板Ｓ上の処理残渣等を薬液と共に速やかに基板外に除去すると共に基板Ｓ上の薬液を速やかに新たな薬液に置換して薬液処理を効率的に進めるようになっている。
【００３４】
第２姿勢変換室３Ｃには、薬液処理室３Ｂから傾斜姿勢（Ｘ方向に沿って角度θの勾配を有する傾斜姿勢）で搬送されてくる基板Ｓの進行方向をＸ（−）方向に９０°転換すると共に、基板Ｓの姿勢を第３処理部４の後記搬送ローラ３０により搬送可能な姿勢、つまりＹ方向に沿って角度θの勾配を有する傾斜姿勢に変換する姿勢変換機構２６が配備されている。この姿勢変換機構２６は、第１姿勢変換室３Ａに配備される前記姿勢変換機構２２と基本的な構成は共通であり、この点については姿勢変換機構２２の説明と共に後述することにする。
【００３５】
第２姿勢変換室３Ｃには、さらに薬液処理後の基板Ｓに洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル２８が姿勢変換機構２６の上方位置に配備されている。これら洗浄液供給ノズル２８は、例えばシャワーノズル等からなり、これら洗浄液供給ノズル２８によって姿勢変換中の基板Ｓに洗浄液を供給することにより、薬液処理後の基板Ｓに対して直ちに洗浄処理を施すようになっている。
【００３６】
＜ 第３処理部４ ＞
第３処理部４は、図１及び図２（ｃ）に示すように、第２洗浄室４Ａと搬出室４Ｂを含み、各室４Ａ，４Ｂには、搬送ローラ３０が所定間隔でＸ方向に配列されている。各搬送ローラ３０は、Ｙ方向に沿って角度θの勾配を有して配列されており、これにより基板Ｓをその表面が搬送方向（Ｘ方向）から見て傾斜し、詳しくは装置外側に向かって先下がりに傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行になる姿勢に支持した状態で搬送するようになっている。
【００３７】
第２洗浄室４Ａには、基板Ｓに洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル３２が搬送ローラ３０の上方位置に配備されている。これら洗浄液供給ノズル３２は、例えばシャワーノズル等からなり、第２洗浄室４Ａでは、第２姿勢変換室３Ｃから傾斜姿勢で搬入されてくる基板Ｓの上面にこれら洗浄液供給ノズル３２から洗浄液を供給することで、基板Ｓに沿って洗浄液を流下させながら基板Ｓの洗浄処理を進めるようになっている。
【００３８】
第２洗浄室４Ａにおいて洗浄液供給ノズル３２よりも下流側の位置には、上下一対の液切りナイフ３３が配備されている。これら液切りナイフ３３は、スリットノズル等からなり、洗浄液供給後の基板Ｓの上下各面に対して高圧エアや不活性ガスを吹き付けて基板Ｓに付着した洗浄液を除去することにより、当該基板Ｓに乾燥処理を施す。
【００３９】
搬出室４Ｂには、姿勢変換機構３６と受渡し機構３４とが配備されている。これら受渡し機構３４及び姿勢変換機構３６は、第２洗浄室４Ａから傾斜姿勢で搬送されてくる基板Ｓを水平姿勢に変換してロボットＲに受渡すもので、基本的な構成は、前記搬入室２Ａに配備される受取り機構１２及び姿勢変換機構１４と共通である。
【００４０】
すなわち、搬出室４Ｂからの基板Ｓの搬出時には、まず、姿勢変換機構３６の各搬送ローラ（図示省略）が傾斜姿勢にセットされ、かつ受渡し機構３４の各支持ピン３４２が退避位置にセットされた状態で、第２洗浄室４Ａから搬出室４Ｂに基板Ｓが搬入される。そして、姿勢変換機構３６の各搬送ローラが傾斜姿勢から水平姿勢に切換られることにより基板Ｓの姿勢が水平姿勢に変換され、その後、アクチュエータ３４１の作動により受渡し機構３４の各支持ピン３４２が作動位置にセットされることにより、基板Ｓが搬送ローラから持ち上げられ、さらにこの状態で当該受渡し機構３４からロボットＲに基板Ｓが水平姿勢で受渡されることにより、当該ロボットＲによって基板Ｓが搬出室４Ｂから搬出されてインデクサ部１のカセットＣに収容されるようになっている。
【００４１】
図４〜図７は、第１姿勢変換室３Ａに配備される姿勢変換機構２２を示している。
【００４２】
同図に示すように、姿勢変換機構２２は、基板Ｓを支持するための支持テーブル２２１と、この支持テーブル２２１を揺動させる揺動機構とを含んでいる。
【００４３】
支持テーブル２２１は、基板Ｓの一辺（長辺）よりも若干長い一辺を有する正方形のテーブルで、揺動機構を介して第１姿勢変換室３Ａ内のベース２２０上に支持されている。
【００４４】
支持テーブル２２１は、図５に示すように、平面視でその一辺がＸ（又はＹ）方向に沿うように配置され、その対角線に沿って角度θだけ傾斜した状態で前記ベース２２０上に支持されると共に前記対角線と平行な軸周りに揺動（回動）可能に設けられている。
【００４５】
すなわち、支持テーブル２２１の下方には、当該支持テーブル２２１の対角線、具体的には支持テーブル２２１のうちＸ（＋）方向末端であってかつＹ（−）方向末端に位置する頂部を通る対角線に沿って支持軸２４０（本発明にかかる支持手段に相当する）が設けられている。この支持軸２４０は、図４及び図６に示すように、その一端（Ｘ（＋）方向一端；以下、支持軸２４０の先端という）がベース２２０上のブラケット２４２に対してピン２１４を介して支持される一方、他端（支持軸２４０の後端という）がベース２２０上に固定される昇降用エアシリンダ２４４のロッド２４５先端にピン２４６を介して連結されることにより、前記対角線に沿ってその後端側から先端側に向かって先下がりの傾斜姿勢でベース２２０上に支持されると共に、前記昇降用エアシリンダ２４４の作動に伴にその先端を支点として傾斜角度の切換えが可能に設けられている。なお、支持軸２４０の傾斜角度は、前記搬送ローラ１０，２０の傾斜角度、すなわち搬送時の基板Ｓの傾斜角度θに保持されている。
【００４６】
そして、この支持軸２４０に対して複数（図示の例では２つ）のロータリーアクチュエータ２４８（本発明にかかる揺動手段に相当する）を介して前記支持テーブル２２１が支持されている。ロータリーアクチュエータ２４８は、ステータ部とその内側に回転可能に支持されるロータ部とを有し、空気圧によりステータ部に対してロータ部を回転駆動する所謂空気圧モータからなり、当該実施形態では、ロータ部が支持軸２４０の外周面に固定される一方、ステータ部が前記支持テーブル２２１下面においてその対角線に沿う位置に固定されている。
【００４７】
これにより、支持テーブル２２１がその対角線に沿って角度θの勾配を有した状態でベース２２０上に支持されると共に各ロータリーアクチュエータ２４８の作動に伴い支持軸２４０回り、つまり前記対角線と平行な軸周りに揺動（回動）可能となっている。そしてこの構成により、支持テーブル２２１のうちＹ（−）方向側の一辺２２１ｂが水平になる位置、つまり上流側の搬送ローラ１０による基板搬送方向と平行となる位置まで支持テーブル２２１を支持軸２４０回りに回動（揺動）させると、図４及び図６に示すように、支持テーブル２２１が上流側の搬送ローラ１０と同角度θに傾斜した状態で搬送ローラ１０に並び、その結果、搬送ローラ１０から支持テーブル２２１上への基板Ｓの受入れが可能となる（図２（ａ）参照）。一方、支持テーブル２２１のうちＸ（＋）方向側の一辺２２１ａが水平になる位置、つまり下流側の搬送ローラ２０による搬送方向と平行となる位置まで支持テーブル２２１を支持軸２４０回りに回動させると、図８及び図９に示すように、支持テーブル２２１が搬送ローラ２０と同角度θに傾斜した状態で当該搬送ローラ２０に並び、その結果、支持テーブル２２１から搬送ローラ２０への基板Ｓの受渡しが行えるようになっている。なお、以下の説明では、図４及び図６に示す支持テーブル２２１の状態を「基板受入れ姿勢」と呼び、図８及び図９に示す支持テーブル２２１の状態を「基板受渡し姿勢」と呼ぶことにする。
【００４８】
前記支持テーブル２２１の上面には、図４及び図５に示すように、基板Ｓを支持するための複数の支持部２２２がマトリクス状に配置されている。これら支持部２２２は、回転自在に保持された球体によって基板Ｓを支持する例えばボールキャスタからなり、これによって支持テーブル２２１は、基板Ｓをその面に沿った任意の方向に変位可能な状態で支持し得るように構成されている。
【００４９】
支持テーブル２２１の上面には、さらにその端部であって前記辺２２１ｂに沿った位置に、複数の受入れローラ２２４（受入れ側ローラ群と呼ぶ）が当該辺２２１ｂに沿って等間隔で設けられると共に、同端部であって前記辺２２１ａに沿った位置に、複数の受渡しローラ２２６（受渡し側ローラ群と呼ぶ）が当該辺２２１ａに沿って等間隔で設けられている。
【００５０】
これらローラ２２４，２２６は、それぞれ傾斜姿勢で支持テーブル２２１上に支持された基板Ｓの下位側端部を受けると共に当該基板Ｓに対して基板搬送方向の推力を与えるものであり、当実施形態では、当該受入れローラ２２４及び後記受入れモータ２３０等が本発明にかかる第１推力付与手段に相当し、受渡しローラ２２６及び後記受渡しモータ２３２等が本発明にかかる第２推力付与手段に相当する。
【００５１】
これらローラ２２４，２２６は、それぞれ支持テーブル２２１の上面に対して垂直な軸回りに回転可能に支持されると共に、ローラ群毎に、各ローラ２２４，２２６が同一方向に一体的に回転駆動されるように構成されている。すなわち、図７に示すように、支持テーブル２２１にはこれを貫通しかつ同テーブル２２１に回転可能に保持されるローラ軸が設けられ、支持テーブル２２１の上面側において当該ローラ軸にローラ２２４，２２６が固定される一方、支持テーブル２２１の下面側において前記ローラ軸にプーリ２２４ａ，２２６ａが固定されている。そして、支持テーブル２２１の下面（裏面）に受入れモータ２３０及び受渡しモータ２３２が固定されると共に複数のテンションプーリ２２５、２２７が設けられ、受入れモータ２３０の出力軸に固定されるプーリ（不図示）と前記各プーリ２２４ａ，２２５とに亘って駆動ベルト２３１が掛け渡される一方、受渡しモータ２３２の出力軸に固定されるプーリ２３２ａと前記各プーリ２２６ａ，２２７とに亘って駆動ベルト２３３が掛け渡されている。この構成により、受入れモータ２３０の作動により受入れ側ローラ群の各受入れローラ２２４が同一方向に一体に回転駆動される一方、受渡しモータ２３２の作動により受渡し側ローラ群の各受渡しローラ２２６が同一方向に一体に回転駆動されるようになっている。なお、図６及び図９では、便宜上、駆動ベルト２３１，２３３の図示を省略している。
【００５２】
上記各ローラ２２４，２２６は、図５に示すように、支持テーブル２２１上に基板Ｓが支持されかつ両ローラ２２４，２２６に当該基板Ｓの直交する二辺Ｓ１，Ｓ２がそれぞれ当接した状態で、当該二辺Ｓ１，Ｓ２により形成される基板Ｓの頂角が支持テーブル２２１の対角線上に位置するように設けられている。これにより支持テーブル２２１が支持軸２４０回りに揺動すると、前記二辺Ｓ１，Ｓ２のうち搬送ローラ１０による搬送方向（Ｘ方向）先頭側に位置する辺Ｓ１を一辺として当該基板Ｓ上に形成した仮想正方形の対角線Ｄと平行な軸線（つまり支持軸２４０）回りに基板Ｓが揺動するようになっている。
【００５３】
以上のような姿勢変換機構２２によると、次のようにして基板Ｓの姿勢が変換される。
【００５４】
まず、図４及び図６に示すように、ロータリーアクチュエータ２４８の作動により支持テーブル２２１が上記基板受入れ姿勢にセットされる。これにより第１洗浄室２Ｂから傾斜姿勢で搬送されてくる基板Ｓが支持テーブル２２１上に受入れられる（図４の二点鎖線矢印参照）。この際、前記受入れローラ２２４が駆動され、支持テーブル２２１上に移動してくる基板Ｓの下端部が当該受入れローラ２２４により支持されることにより当該基板Ｓに搬送方向（Ｘ（＋）方向）の推力が与えられ、その結果、支持テーブル２２１への基板Ｓの受入れが速やかに行われる。そして、進行方向先端の一辺Ｓ１が受渡しローラ２２６に当接する位置にまで基板Ｓが送られると（図５に示す状態）、受入れローラ２２４の駆動が停止されて支持テーブル２２１への基板Ｓの受入れが完了する。
【００５５】
基板Ｓの受入れが完了すると、ロータリーアクチュエータ２４８の作動により支持テーブル２２１が揺動し、図８及び図９に示すように、支持テーブル２２１の姿勢が基板受入れ姿勢から上記基板受渡し姿勢に切換えられ、これに伴い基板Ｓの姿勢がＸ方向に勾配を有する傾斜姿勢に変換されることとなる。このように支持テーブル２２１の姿勢が切換られると、前記基板Ｓは、搬送ローラ１０による搬送方向（Ｘ方向）先頭側に位置する辺Ｓ１を一辺として当該基板Ｓ上に形成した仮想正方形の対角線Ｄ（図５参照）と平行な軸線、つまり支持軸２４０回りに前記先頭側の辺Ｓ１が搬送ローラ２０による搬送方向（Ｙ方向）と平行となる位置まで回動し、これによって基板Ｓの姿勢がＸ方向に沿って勾配を有しかつ前記先頭側の辺Ｓ１が下端に位置するような傾斜姿勢に変換されることとなる。
【００５６】
こうして基板Ｓの姿勢が変換されると、受渡しローラ２２６が駆動されて基板Ｓに搬送方向、つまりＹ（＋）方向の推力が与えられ、これによって基板Ｓが支持テーブル２２１から搬送ローラ２０上へ送り出され、当該姿勢変換機構２２による基板Ｓの姿勢変換動作が完了することとなる。
【００５７】
なお、ここでは、第１姿勢変換室３Ａに配備される姿勢変換機構２２の構成について説明したが、第２姿勢変換室３Ｃに配備される姿勢変換機構２６も基本的には同様の構成である。すなわち、詳細図を省略するが、姿勢変換機構２６は、薬液処理後、搬送ローラ２０により傾斜姿勢（Ｘ方向に勾配を有する傾斜姿勢）で搬送されてくる基板Ｓを基板受入れ姿勢にセットされた支持テーブル２６１（図２（ｂ）参照）上に受入れた後、当該支持テーブル２６１を基板受渡し姿勢に変換し、これにより基板Ｓの姿勢を搬送ローラ３０により搬送可能な傾斜姿勢（Ｙ方向に勾配を有する傾斜姿勢）に変換した後、当該基板Ｓを支持テーブル２６１から搬送ローラ３０に受渡すように構成されている。
【００５８】
次に、この基板処理装置における基板Ｓの一連の処理について説明する。
【００５９】
まず、インデクサ部１においてカセットＣから取り出された基板Ｓは、ロボットＲにより水平姿勢のまま第１処理部２（搬入室２Ａ）に搬入されて受取り機構１２に受渡される。そして、姿勢変換機構１４により水平姿勢から傾斜姿勢に姿勢変換された後、搬送ローラ１０の駆動により搬送されて第１洗浄室２Ｂに搬入され、この第１洗浄室２Ｂ内を所定速度で移動する間にその表面に洗浄液供給ノズル１６から洗浄液が供給されることにより洗浄処理が施される。
【００６０】
第１洗浄室２Ｂを通過した基板Ｓは、次に第２処理部３の第１姿勢変換室３Ａに搬入されて搬送ローラ１０から姿勢変換機構２２に受渡される。そして、当該姿勢変換機構２２により、基板Ｓの姿勢がＹ方向に沿って勾配を有する傾斜姿勢からＸ方向に沿って勾配を有する傾斜姿勢に変換されると共に基板Ｓの搬送方向が直交する方向に転換される。
【００６１】
姿勢変換後、基板Ｓは姿勢変換機構２２から搬送ローラ２０に受渡され、搬送ローラ２０の駆動により搬送されて薬液処理室３Ｂに搬入され、この第１洗浄室２Ｂ内を所定速度で移動する間にその表面に薬液供給ノズル２４から薬液が供給されることにより薬液処理が施される。
【００６２】
薬液処理室３Ｂを通過した基板Ｓは、次に第２姿勢変換室３Ｃに搬入されて搬送ローラ２０から姿勢変換機構２６に受け渡される。そして、当該姿勢変換機構２６により基板Ｓの姿勢がＸ方向に沿って勾配を有する傾斜姿勢からＹ方向に沿って勾配を有する傾斜姿勢に変換されると共に基板Ｓの搬送方向が直交する方向に転換される。なお、この姿勢変換動作中、基板Ｓには洗浄液供給ノズル２８から洗浄液が供給され、これにより薬液処理後の基板Ｓに対して洗浄処理が速やかに開始される。
【００６３】
こうして姿勢変換された基板Ｓは、姿勢変換機構２６から搬送ローラ３０に受渡され、搬送ローラ３０の駆動により搬送されて第２洗浄室４Ａに搬入される。そして、この第２洗浄室４Ａ内を所定速度で移動する間にその表面に洗浄液供給ノズル３２から洗浄液が供給されることによりさらに洗浄処理が施される。
【００６４】
次に、基板Ｓは第２洗浄室４Ａから搬出室４Ｂに搬出される。そして、第２洗浄室４Ａからの搬出時、液切りナイフ３３により基板Ｓの上下各面に高圧エア等が吹き付けられて洗浄液が除去されることにより当該基板Ｓに乾燥処理が施される。
【００６５】
こうして基板Ｓが搬出室４Ｂに搬入されると、まず、姿勢変換機構３６により基板Ｓの姿勢が水平姿勢に戻され、その後、受渡し機構３４により基板ＳがロボットＲに受渡されることにより当該ロボットＲにより基板ＳがカセットＣに収容される。これによって当該基板処理装置による一連の基板Ｓの処理が終了することとなる。
【００６６】
以上のような基板処理装置によると、インデクサ部１に対して「コ」字形の搬送路を構成し、インデクサ部１から取出した基板Ｓを各処理部２〜４を経由してインデクサ部１に戻すように構成されているので、基板処理装置に対する基板Ｓの搬入出をインデクサ部１に統一して無人搬送車によるカセット搬送を合理的に行うことができる上、その全工程に亘って基板Ｓを傾斜姿勢で搬送しながら洗浄等の処理を基板Ｓに施すように構成されているので、当該洗浄等の処理を、洗浄液等を基板Ｓに沿って流下させながら効率的に進めることができる。
【００６７】
しかも、この基板処理装置では、基板Ｓの進行方向を９０°転換する必要がある第１洗浄室２Ｂと薬液処理室３Ｂとの間、および薬液処理室３Ｂと第２洗浄室４Ａとの間に上記のような姿勢変換機構２２，２６を配備し、方向転換前の基板Ｓの姿勢（Ｙ方向（Ｘ方向）に沿って勾配を有する傾斜姿勢）を単一の姿勢変換機構２２（２６）によって直接方向転換後の姿勢（Ｘ方向（Ｙ方向）に沿って勾配を有する姿勢）に変換するので、従来のこの種の装置に比べると、より少ないスペースで効率良く基板Ｓの搬送方向を転換することができる。すなわち、傾斜姿勢で搬送される基板を姿勢変換機構により一旦水平姿勢に戻し、この水平姿勢の基板を別の姿勢変換機構に移し替えてから基板Ｓを次の傾斜姿勢に変換する従来のこの種の装置では、進行方向の転換地点にそれぞれ２つ、合計４つの姿勢変換機構を並べて配置する必要があるため、姿勢変換機構の占有スペースが大きくなり、また、姿勢変換に多くの時間を要することとなる。これに対して上記実施形態の装置によれば、上記の通り単一の姿勢変換機構２２（２６）で基板Ｓの姿勢を直接方向転換後の姿勢に変換できるので、従来装置に比べると基板Ｓの姿勢変換に要するスペースを縮小することができ、また、当該姿勢変換に要する時間も大幅に短縮することができる。従って、より少ないスペースで効率良く基板Ｓの搬送方向を転換することが可能となる。
【００６８】
特に、上記実施形態の姿勢変換機構２２（２６）は、ロータリーアクチュエータ２４８を介して支持軸２４０に支持テーブル２２１を揺動可能に装着し、前記ロータリーアクチュエータ２４８の作動により支持テーブル２２１を揺動させるように構成されているため、極めて簡単な構成で上記のような作用効果を享受することができるという利点がある。
【００６９】
なお、上記の基板処理装置では、方向転換前の基板Ｓの傾斜角度と方向転換後の基板Ｓの傾斜角度、例えば第１洗浄室２Ｂにおいて搬送ローラ１０により搬送される基板Ｓの傾斜角度と薬液処理室３Ｂにおいて搬送ローラ２０により搬送される基板Ｓの傾斜角度とが等しい場合について説明したが、上記姿勢変換機構２２（２６）によると、方向転換前後の基板Ｓの傾斜角度が異なる場合についても対応できるという利点がある。
【００７０】
すなわち、方向転換前後の基板Ｓの傾斜角度が異なる場合には、まず、支持テーブル２２１を基板受入れ姿勢にセットした後、昇降用エアシリンダ２４４（本発明にかかる角度可変手段に相当する）を作動させて支持軸２４０の傾斜角度を変更し、これにより支持テーブル２２１の傾斜角度を方向転換前の基板Ｓの傾斜角度に一致させて当該基板Ｓを支持テーブル２２１上に受入れる。その後、支持テーブル２２１を基板受渡し姿勢に切換えると共に昇降用エアシリンダ２４４を作動させて支持軸２４０の傾斜角度を変更して支持テーブル２２１の傾斜角度を方向転換後の基板Ｓの傾斜角度に一致させ、支持テーブル２２１上の基板Ｓを下流側に送り出す。このようにすれば、方向転換前後の基板Ｓの傾斜角度が異なる場合でも、難なく対応することができる。
【００７１】
ところで、上述した基板処理装置は、本発明に係る基板搬送装置（本発明に係る姿勢変換装置が適用される基板搬送装置）が適用される基板処理装置の一例であり、基板処理の全体構成、基板搬送装置の構成及び姿勢変換装置の具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
【００７２】
例えば、上記実施形態では、支持テーブル２２１を、ロータリーアクチュエータ２４８を介して支持軸２４０に回動可能に支持し、当該ロータリーアクチュエータ２４８の駆動により支持テーブル２２１を支持軸２４０回りに回動（揺動）させているが、上記ロータリーアクチュエータ２４８の代わりに支持テーブル２２１の下面をエアシリンダ等のアクチュエータにより支持し、当該アクチュエータの駆動により前記支持軸２４０回りに支持テーブル２２１を揺動させるように構成してもよい。また、支持軸２４０を設けることなく、支持テーブル２２１の下面をエアシリンダ等の複数の昇降用アクチュエータにより支持し、当該アクチュエータを個別に制御することによって支持テーブル２２１の姿勢を切換えるように構成してもよい。つまり、上記基板受入れ姿勢と基板受渡し姿勢とに亘って支持テーブル２２１を揺動させることができれば、支持テーブル２２１を揺動させるための具体的な構成は実施形態のものに限定されるものではなく、適宜変更可能である。
【００７３】
また、上記実施形態では、基板Ｓを傾斜姿勢で搬送しながら当該基板Ｓに洗浄処理、薬液処理及び乾燥処理を順次施すように基板処理装置が構成されているが、具体的な処理内容も実施形態のもに限定されるものではなく、適宜変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明に係る基板搬送装置（本発明に係る姿勢変換装置が適用される基板搬送装置）が適用される基板処理装置の概略を示す平面模式図である。
【図２】図１に示す基板処理装置の概略を側面視で示す図であり、（ａ）は第１処理部から第２処理部の部分を示す側面図、（ｂ）は第２処理部を示す側面図、（ｃ）は第２処理部から第３処理部の部分を示す側面図である。
【図３】搬入室に配備される基板の姿勢変換機構を示す斜視概略図であり、（ａ）は基板を水平姿勢に支持した状態、（ｂ）は基板を傾斜姿勢に変換した状態をそれぞれ示す。
【図４】第１姿勢変換室に配備される基板の姿勢変換機構を示す斜視図（支持テーブルが基板受入れ姿勢にセットされた状態）である。
【図５】姿勢変換機構を示す平面図である。
【図６】姿勢変換機構に組込まれる揺動機構を示す図４のVI方向矢視図である。
【図７】姿勢変換機構に組込まれる揺動機構および受入れ及び受渡しローラの駆動機構を示す図４のVII方向矢視図である。
【図８】姿勢変換機構を示す斜視図（支持テーブルが基板受渡し姿勢にセットされた状態）である。
【図９】姿勢変換機構を示す側面図（図６に対応する側面図）である。
【図１０】従来の基板搬送装置の概略を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７５】
１ インデクサ部
２ 第１処理部
３ 第２処理部
４ 第３処理部
２Ａ 搬入室
２Ｂ 第１洗浄室
３Ａ 第１姿勢変換室
３Ｂ 薬液処理室
３Ｃ 第２姿勢変換室
４Ａ 第２洗浄室
４Ｂ 搬出室
２２，２６ 姿勢変換機構
２２１，２６１ 支持テーブル
Ｃ カセット
Ｒ ロボット
Ｓ 基板
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形の基板を第１搬送方向に搬送した後、この第１搬送方向と直交する第２搬送方向に搬送方向を転換して基板を搬送する方法であって、
前記基板をその表面が前記第１搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第１搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送工程と、
第１搬送方向に搬送される前記基板をその表面が前記第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換工程と、
この姿勢変換工程で第２傾斜姿勢に姿勢変換された前記基板を当該第２傾斜姿勢に支持した状態で前記第２搬送方向に搬送する第２搬送工程と、を含み、
前記姿勢変換工程では、第１搬送方向に搬送される基板の先頭側の辺を一辺として当該基板上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板の先頭下位側の頂部を通る対角線又は当該対角線と平行な軸線回りに前記先頭側の辺が第２搬送方向と平行となる位置まで基板を回動させることにより前記基板を前記第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換することを特徴とする基板搬送方法。
【請求項２】
矩形の基板をその表面が搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送方向と直交する第２搬送方向に基板を搬送する搬送手段であって基板をその表面が第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に支持した状態で搬送する第２搬送手段との間に介設され、前記第１搬送手段から第２搬送手段への基板の受渡しを行うべく基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換装置であって、
前記基板を少なくとも前記第１搬送方向及び第２搬送方向に変位可能に支持する支持部を備えたテーブルと、
このテーブルを揺動可能に支持する支持手段と、
前記テーブルの上面が前記第１搬送方向から見て傾斜しかつ前記第１傾斜姿勢で搬送される基板を第１搬送手段から受入れる基板受入れ姿勢と前記テーブルの上面が前記第２搬送方向から見て傾斜しかつテーブル上に支持された基板を第２搬送手段へ受渡し可能とする基板受渡し姿勢とに亘って前記テーブルを揺動させる揺動手段と、を備えており、
前記基板受渡し姿勢は、前記基板受入れ姿勢で前記テーブルに受入れた基板の先頭側の辺を一辺として当該基板上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板の先頭下位側の頂部を通る対角線又は当該対角線と平行な軸線回りに前記先頭側の辺が第２搬送方向と平行となる位置まで当該基板を回動させた姿勢とされていることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項３】
請求項２に記載の姿勢変換装置において、
前記支持手段は、前記対角線と平行に設けられて前記テーブルを回動可能に支持する支持軸からなり、前記揺動手段は、前記支持軸回りに前記テーブルを回動させることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項４】
請求項３に記載の姿勢変換装置において、
水平面に対する前記支持軸の傾き角度を変更することにより前記基板受入れ姿勢又は基板受渡し姿勢における前記テーブルの傾き角度を切換える角度可変手段を備えていることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項５】
請求項２乃至４の何れか一項に記載の姿勢変換装置において、
前記基板受入れ姿勢で前記テーブル上に支持される基板に対して第１搬送方向の推力を付与する第１推力付与手段と、前記基板受渡し姿勢において前記テーブル上に支持される基板に対して前記第２搬送方向への推力を付与する第２推力付与手段とを備えていることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項６】
請求項５に記載の姿勢変換装置において、
前記第１、第２推力付与手段は、傾斜姿勢の基板の下位側端部を支持し、回転により当該基板に前記推力を与える駆動ローラであることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項７】
矩形の基板をその表面が搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送方向と直交する第２搬送方向に基板を搬送する搬送手段であって基板をその表面が第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に支持した状態で搬送する第２搬送手段と、前記第１搬送手段から第２搬送手段への基板の受渡しを行うべく基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換装置と、を備えた基板搬送装置であって、
前記姿勢変換装置として、請求項２乃至６の何れか一項に記載の姿勢変換装置を備えていることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項１】
矩形の基板を第１搬送方向に搬送した後、この第１搬送方向と直交する第２搬送方向に搬送方向を転換して基板を搬送する方法であって、
前記基板をその表面が前記第１搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第１搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送工程と、
第１搬送方向に搬送される前記基板をその表面が前記第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換工程と、
この姿勢変換工程で第２傾斜姿勢に姿勢変換された前記基板を当該第２傾斜姿勢に支持した状態で前記第２搬送方向に搬送する第２搬送工程と、を含み、
前記姿勢変換工程では、第１搬送方向に搬送される基板の先頭側の辺を一辺として当該基板上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板の先頭下位側の頂部を通る対角線又は当該対角線と平行な軸線回りに前記先頭側の辺が第２搬送方向と平行となる位置まで基板を回動させることにより前記基板を前記第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換することを特徴とする基板搬送方法。
【請求項２】
矩形の基板をその表面が搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送方向と直交する第２搬送方向に基板を搬送する搬送手段であって基板をその表面が第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に支持した状態で搬送する第２搬送手段との間に介設され、前記第１搬送手段から第２搬送手段への基板の受渡しを行うべく基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換装置であって、
前記基板を少なくとも前記第１搬送方向及び第２搬送方向に変位可能に支持する支持部を備えたテーブルと、
このテーブルを揺動可能に支持する支持手段と、
前記テーブルの上面が前記第１搬送方向から見て傾斜しかつ前記第１傾斜姿勢で搬送される基板を第１搬送手段から受入れる基板受入れ姿勢と前記テーブルの上面が前記第２搬送方向から見て傾斜しかつテーブル上に支持された基板を第２搬送手段へ受渡し可能とする基板受渡し姿勢とに亘って前記テーブルを揺動させる揺動手段と、を備えており、
前記基板受渡し姿勢は、前記基板受入れ姿勢で前記テーブルに受入れた基板の先頭側の辺を一辺として当該基板上に形成した仮想正方形の対角線のうち当該基板の先頭下位側の頂部を通る対角線又は当該対角線と平行な軸線回りに前記先頭側の辺が第２搬送方向と平行となる位置まで当該基板を回動させた姿勢とされていることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項３】
請求項２に記載の姿勢変換装置において、
前記支持手段は、前記対角線と平行に設けられて前記テーブルを回動可能に支持する支持軸からなり、前記揺動手段は、前記支持軸回りに前記テーブルを回動させることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項４】
請求項３に記載の姿勢変換装置において、
水平面に対する前記支持軸の傾き角度を変更することにより前記基板受入れ姿勢又は基板受渡し姿勢における前記テーブルの傾き角度を切換える角度可変手段を備えていることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項５】
請求項２乃至４の何れか一項に記載の姿勢変換装置において、
前記基板受入れ姿勢で前記テーブル上に支持される基板に対して第１搬送方向の推力を付与する第１推力付与手段と、前記基板受渡し姿勢において前記テーブル上に支持される基板に対して前記第２搬送方向への推力を付与する第２推力付与手段とを備えていることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項６】
請求項５に記載の姿勢変換装置において、
前記第１、第２推力付与手段は、傾斜姿勢の基板の下位側端部を支持し、回転により当該基板に前記推力を与える駆動ローラであることを特徴とする姿勢変換装置。
【請求項７】
矩形の基板をその表面が搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が搬送方向と平行となる第１傾斜姿勢に支持した状態で第１搬送方向に搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送方向と直交する第２搬送方向に基板を搬送する搬送手段であって基板をその表面が第２搬送方向から見て傾斜しかつその一辺が第２搬送方向と平行となる第２傾斜姿勢に支持した状態で搬送する第２搬送手段と、前記第１搬送手段から第２搬送手段への基板の受渡しを行うべく基板の姿勢を第１傾斜姿勢から第２傾斜姿勢に変換する姿勢変換装置と、を備えた基板搬送装置であって、
前記姿勢変換装置として、請求項２乃至６の何れか一項に記載の姿勢変換装置を備えていることを特徴とする基板搬送装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１０−５２８４４（Ｐ２０１０−５２８４４Ａ）
【公開日】平成２２年３月１１日（２０１０．３．１１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２１６５１１（Ｐ２００８−２１６５１１）
【出願日】平成２０年８月２６日（２００８．８．２６）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年３月１１日（２０１０．３．１１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年８月２６日（２００８．８．２６）
【出願人】（０００２０７５５１）大日本スクリーン製造株式会社 (2,640)
【Ｆターム（参考）】
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