【課題】 平流し方式において被処理基板の搬送中に基板上の不要な液を速やかに流し落として処理効率や処理品質を向上させる。
【解決手段】 この洗浄プロセス部２４は、一定角度に傾斜したコロ１１２を一定ピッチで並べて傾斜搬送路１１４を構成し、この傾斜搬送路１１４上を移動する傾斜姿勢の基板Ｇに対して紫外線ランプ１２２、ロールブラシ１３０、リンスノズル１３４、エアナイフ１３６等により紫外線オゾン洗浄、スクラビング洗浄、リンス処理、乾燥処理を順次施すようにしている。スクラビング洗浄やリンス処理では、傾斜姿勢の基板Ｇ上から異物や液が重力によって速やかに流し落とされる。 （もっと読む）

【課題】 平流し方式において被処理基板の搬送中に基板上の不要な液を速やかに流し落として処理効率や処理品質を向上させる。
【解決手段】 この洗浄プロセス部２４は、一定角度に傾斜したコロ１１２を一定ピッチで並べて傾斜搬送路１１４を構成し、この傾斜搬送路１１４上を移動する傾斜姿勢の基板Ｇに対して紫外線ランプ１２２、ロールブラシ１３０、リンスノズル１３４、エアナイフ１３６等により紫外線オゾン洗浄、スクラビング洗浄、リンス処理、乾燥処理を順次施すようにしている。スクラビング洗浄やリンス処理では、傾斜姿勢の基板Ｇ上から異物や液が重力によって速やかに流し落とされる。 （もっと読む）

【課題】搬送効率を向上させ得る搬送装置を提供する。
【解決手段】ベース部３１を回動させるモータ３２と、ベース部３１の中心部に挿通された中心軸３３を回動させるモータ３４と、基材１０１を保持可能に構成されると共に中心軸３３に対して接離する方向に沿ってスライド可能にベース部３１に配設されたスライダ３５ａ，３５ｂと、中心軸３３の回動に応じてスライダ３５ａ，３５ｂをスライドさせるリンク機構とを備えている。これにより、基材１０１を搬送する効率を向上させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 タクトタイムを短縮して、生産性を向上させるとともに、安価な真空処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を真空処理する真空処理室と、基板を載置して搬送する基板キャリア１２、１４と、基板を大気側と真空側との間で搬入、搬出するためにＬ／ＵＬ室３０とを具備した真空処理装置１０において、真空処理装置１０の大気側の基板搬送を行う大気側基板キャリア１２と、真空処理装置１０の真空側の基板搬送を行う真空側基板キャリア１４と、大気側基板キャリア１２及び真空側基板キャリア１４相互間で、基板を受け渡しする基板受け渡し機構とを備えた構成とした。
また、タクトタイムを短縮するには、大気側基板キャリア１２をＬ／ＵＬ室３０の基板入れ替え口の前面に２以上配置可能な構成とすると一層効果的である。 （もっと読む）

本発明は、コーティング装置を通して平らな基板を移送するための装置に関する。このコーティング装置は、例えば、数個の異なるスパッタ・カソードを備えていて、このカソードに、例えば、ガラス板のような平らな基板が真空内を順次移送される。ガラス板と接触面との間で摩擦による損傷が起こらないように、ガラス板は接触しない距離にガス圧により維持される。ガス圧は、この場合、ガス・チャネル内の比較的少ない小さな孔部により形成される。コーティング装置に大気圧を導入している間、または真空にするための排気中、ガスの孔部が小さいために、ガス・チャネルと残りのコーティング装置の間の圧力を急速に等しくすることができないので、ガス・チャネルは、残りのコーティング装置とのガスによる接続が切り離され、別のガス・ラインを有し、このガス・ラインを通してガスをガス・チャネルに導入したり、そこからポンプにより吸い出したりすることができる。
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【課題】 位置合わせを容易かつ精度よく行うことができ、さらに、被ハンドリング体への異物落下を防止するハンドリング治具の提供を目的とする。
【解決手段】 ハンドリング治具１は、グリップ２と、このグリップ２に回動自在に軸支されたレバー３と、グリップ２に取り付けられた固定アーム４と、レバー３に取り付けられた回動アーム５とからなり、フォトマスク用基板１０の主表面１１に対してグリップ２の中心軸２０が所定の距離Ｈだけ離れた状態で平行となるように、グリップ２を設けた構成としてある。 （もっと読む）

【課題】基板を傾斜させる機構を備えつつ、このために基板処理装置の設置面積が大きくなることのない基板処理装置を提供すること。
【解決手段】基板Ｗを搬送しつつ基板Ｗに処理を施す処理部１３，１５が多段に配置された基板処理装置１のエレベータユニット１４に、基板Ｗの少なくとも一部を支持する降下基板支持台１４２と、降下基板支持台１４２を昇降させる昇降機構部１４４とを備え、エレベータユニット１４から基板Ｗを搬出する搬出コンベア機構１５１は、降下基板支持台１４２が支持する基板Ｗの傾斜姿勢とは異なる傾斜姿勢で基板Ｗを支持し、エレベータユニット１４の降下基板支持台１４２との間で基板Ｗを乗り移させる搬出基板支持台１４３を備え、降下基板支持台１４２と搬出基板支持台１４３とは、互いに上下に通り抜け可能な形状を有し、これにより降下基板支持台１４２と搬出基板支持台１４３との間で基板Ｗを乗り移させる。 （もっと読む）

【課題】構造を簡単にでき、検査作業を能率的に行える板状体検査設備を提供する。
【解決手段】板状体Ｇａ，Ｇｂの搬送経路１中で、搬送経路の側方に設けた目視検査部Ａ，Ｂに対向する部分に、昇降手段３１を介して昇降体３６を設けた。昇降体側に、搬送経路方向Ｃに沿った軸心３９ａの周りに揺動自在な揺動体４０を設け、揺動体と昇降体との間に揺動手段５０を設けた。昇降手段は昇降体を複数段階に昇降すべく構成した。揺動手段は、昇降手段により昇降体を下降している状態で、揺動体に設けた板状体支持部４１の支持面４１ａが搬送経路の搬送面１ａに対して下方に位置する水平状姿勢と、支持面が搬送面に対して上方に位置する傾斜状姿勢との間で、揺動体を複数段角度に揺動すべく構成した。搬送経路上で搬送してきた板状体を、揺動体の動作のみにより傾斜ならびに上昇できることで、構造を簡単にでき、検査作業を能率的に行える。 （もっと読む）

【課題】 少量のエアを消費するだけで、基板を効率的に乾燥させ、かつ乾燥時にミストが発生して乾燥後の基板に付着するのを確実に防止できるようにする。
【解決手段】 コンベア手段１０により基板Ｓが搬送されて、洗浄ステージ１から乾燥ステージ２に移行して乾燥ユニット２０内に導かれるが、まず加熱通路２３において、上下に設けたプレートヒータ２５，２５により基板Ｓに付着している液が加熱されて、乾燥用空気流通路２４において基板Ｓの搬送方向と直交する方向に向けて乾燥用空気が吹付けられる。 （もっと読む）

【課題】 搬送動作が単純であり、短時間で搬送態勢に入ることができる基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】 真空処理装置１００は、真空予備加熱室１０とプラズマ処理室２０とが連結されており、真空予備加熱室１０内には、基板搬送装置１１，１３が上下２段に配置され、プラズマ処理室２０内には、基板搬送装置２１が配置されている。基板搬送装置１１，１３，２１は、それぞれ揺動軸Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３廻りに揺動し、水平位置と傾斜位置をとる。被処理基板を基板搬送装置１１から基板搬送装置２１へ移送するときは、基板搬送装置１１，２１のそれぞれの搬送面を搬送ラインＬ２に一致させて搬送する。また、被処理基板を基板搬送装置２１から基板搬送装置１３へ移送するときは、基板搬送装置１３，２１のそれぞれの搬送面を搬送ラインＬ３に一致させて搬送する。 （もっと読む）

【課題】この発明は処理槽を形成する板材を厚くせずに、その剛性を向上させることができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を処理するための処理装置であって、
板材によって上面が開口した箱型状に形成され一側面に基板の搬入口２、他側面に搬出口３が形成された処理槽１と、処理槽の上部の外周面に沿って一体的に設けられ処理槽を形成する板材を補強する補強フレーム７と、補強フレームに回動可能に取り付けられ処理槽の上面開口を開閉する蓋部材１６とを具備する。 （もっと読む）

【課題】この発明は基板を傾斜させて搬送しながら処理する際、傾斜方向の下側となる面を支持ローラで確実に支持することができる処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板の幅寸法よりも小さな幅寸法で形成されて並設されるとともに基板に対してそれぞれ所定の処理を行う複数の処理室３〜５と、基板の高さ寸法よりも短い長さ寸法に設定され各処理室内に上下方向に所定間隔で平行に設けられた複数の取り付け部材１１と、それぞれの取り付け部材に回転可能に設けられ処理室内に所定の角度で傾斜して送り込まれる基板の傾斜方向の下側の面を支持する支持ローラ１５と、
各処理室内に回転駆動可能に設けられ支持ローラによって傾斜方向の下側の面が支持される基板の下端を支持し回転駆動されることで基板を所定方向に搬送する駆動ローラと２２を具備する。 （もっと読む）

【課題】 氷の微粒子を含む処理液を基板の表面へ供給して基板の処理を行う場合に、処理むらを生じることなく均一な処理が可能であり、基板上に形成された被膜にダメージを与えることもない装置を提供する。
【解決手段】 基板Ｗを傾斜姿勢に支持して水平方向へ搬送するローラコンベアと、基板の主面へ氷の微粒子を含む処理液を供給するノズル１２と、基板の主面に接触もしくは近接し往復移動して基板の主面上で氷の微粒子を含む処理液を掻き混ぜる平面ブラシ１４とを備えて装置を構成した。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造工程において、製造効率及び歩留まりを向上させることができるウエハ立替機、及びウエハ処理システムを提供すること
【解決手段】ウエハ立替機１０は、ウエハ２０を下方から支持するように構成された第１装置３０と、ウエハ２０を収容するように構成された第２装置４０との間で、ウエハ２０を移し替えるためのウエハ立替機１０である。ここで、第１装置３０は、ウエハ２０の直径Ｒより小さな第１幅Ｗ１を有し、第２装置４０は、ウエハ２０の直径Ｒより大きな第２幅Ｗ２を有している。ウエハ立替機１０は、ウエハ２０を支持する第１支持部材１１と、ウエハ２０を支持し第１支持部材１１と同体に移動する第２支持部材１２とを備える。これら第１支持部材１１と第２支持部材１２の間隔Ｄは、第１幅Ｗ１より大きく、第２幅Ｗ２より小さい。つまり、第１支持部材１１と第２支持部材１２の間隔Ｄは、上記第１装置３０が第１支持部材１１と第２支持部材１２の間を通り抜けることが可能なように設定される。 （もっと読む）

【課題】 ウエハカセットなどのウエハ保持容器を経て搬送するウエハへの前記ウエハ保持容器でのパーティクルの付着をなくし、配線ショート等のパターン形成不良の発生を防止する。
【解決手段】 複数のウエハ処理工程間でウエハ４を保管するウエハ保管装置２０を、ウエハ４をウエハ表面４ａが上下方向に沿う向きに保持するウエハカセット１と、ウエハカセット１内に上下方向の気流を流す気流取り入れ口２３ａ，排気口２４ａなどからなる気流発生機構と、ウエハカセット１の上流部で前記気流に対してイオン化を行うイオン化機構２２とを備えた構造とする。これにより、ウエハカセット１内の雰囲気中のパーティクルや、複数枚保持されたウエハ４の内の他のウエハ４に付着していたパーティクルが、重力作用によってウエハ表面４ａに落下すること、および、ウエハ表面４ａへ静電吸着することを防止可能である。 （もっと読む）

少なくも２個の処理ユニットの複数の少なくも１個の直線状に配列されたアレイを備え、各処理ユニットにおいて１個の枚葉ウエハ形物品を処理でき、更に、かかる各処理ユニットにおいて１個の枚葉ウエハ形物品を処理し得る前記処理ユニット、少なく１個の枚葉ウエハ形物品を内部に貯蔵している少なくも１個のカセットを保持するためのカセット保持ユニット、及びカセットからウエハ形物品を取り上げてこれを処理ユニットの一つの中に置くための輸送システムを備えたウエハ形物品の処理用の装置が明らかにされる。本装置は、直線状トラック上に取り付けられた輸送ユニットを備える。前記輸送ユニットは、枚葉ウエハ形物品を、直線状トラックと平行な実質的に垂直な平面内に保持する。
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【課題】搬送ローラーのローラー取り付け位置や、搬送ローラーに取り付けたローラーの径を、工程毎に異ならせることにより、基板についた傷の位置から工程を特定して、傷の原因を容易に除去可能にする平面基板搬送方法及び装置を提供する。
【解決手段】フラット表示パネル用の平面基板４を搬送ローラー１で搬送するに際し、平面基板４の搬送経路を複数の仮想ブロックに分割し、分割した仮想ブロックの搬送経路毎に異なる位置および／または異なる径Ｄのローラー３を取付けた搬送ローラー１を配置するとともに、同一仮想ブロック内の搬送経路には同じ位置に同じ径Ｄのローラー３を取付けた搬送ローラー１を配置し、平面基板搬送後に基板４の搬送ローラー接触面の傷Ｆを検査し、傷Ｆの位置または傷Ｆの間隔π×Ｄから傷Ｆの原因となった搬送ローラー１が配置された仮想ブロックの搬送経路を特定する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、立位姿勢で搬送される板状部材を所定の処理のため姿勢変更する際の、板状部材の損傷を防止することは勿論のこと、支持手段の損傷も防止して信頼性の向上を図った板状部材の搬送装置および搬送方法と、フラットパネルディスプレイの製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】取付けフレーム８に、回転駆動機構１０が設けられるとともに、この回転駆動機構に連結され取付けフレームに所定間隔を存して設けられ立位姿勢にしたガラス基板Ｇの下端縁を支持して搬送可能な複数の支持ローラ（回転支持部材）９を備え、この取付けフレームを支持ローラおよび回転駆動機構ごと昇降駆動する昇降駆動機構１２を備え、この昇降駆動機構を取付けフレームに取付けられる支持ローラおよび回転駆動機構ごと前後方向に移動変位させる前後移動機構１５を具備する。 （もっと読む）

【課題】 大型で厚さが薄いガラス基板を、破損することなく水平から鉛直状態へ姿勢変更して鉛直状態での搬送を可能にする。
【解決手段】 基板搬送装置１０は、平面形状が矩形の基板１１を略水平な状態で保持する基板保持手段１２と、基板１１の一辺１１ａを成す部分を把持する把持手段１３と、把持手段１３によって把持され基板保持手段１２によって略水平に保持される基板１１が、略水平な状態から略鉛直な状態になるように把持手段１３を移動させる基板引起し手段１４とを備える。この基板搬送装置１０は、基板１１を水平から鉛直へと姿勢を変更し、搬送手段１５によって鉛直状態で搬送する。 （もっと読む）

本発明は、半導体製造装置内でウエハを配列するものである。特に、本発明の１以上の特徴は、ウエハを配列装置内で適切に方向付けることを可能とする、ウエハ上に配列されたノッチのような、配列マーキングを迅速にかつ効率的に見出すことに関連する。従来のシステムのようでなく、上記ノッチは、ウエハを確実に保持せず、また回転せずに、設けられる。裏側汚染に相当する照射は、それによって軽減され、また、ウエハを配置することに関連する複雑さやコストは、それによって減少する。
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