【課題】 本発明は、露光装置においてレチクル，ウエハ，マスク等の基板を搬送する基板搬送装置に関し、基板をステージ装置に吊り下げて保持する場合において、基板をチャックに確実にロードまたはアンロードすることを目的とする。
【解決手段】 ステージに配置され基板を吸着する吸着面を下向きに有するチャックと、前記チャックの下側から前記基板の搬入または搬出を行う搬送アームと、前記搬送アーム側に配置され前記基板の前記チャックへの吸着または離脱時に前記基板を前記吸着面に弾性的に押圧する付勢手段とを有することを特徴とする。また、前記チャックに配置され前記基板の前記チャックからの離脱時に前記基板を前記搬送アーム側に押し出す押出機構を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板をステージ装置に吊り下げ保持する場合において、静電チャックから確実に基板を搬出できる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置は、ステージ１２に配置され基板５を保持する吸着面を下向きに有するチャック２と、前記チャック２の下側で前記基板５の搬入または搬出を行う搬送アーム１と、前記基板５を支持する支持片１４Ｃを前記吸着面の下側に備える基板支持部３と、前記基板支持部３を昇降させる駆動機構４と、を有し、前記基板支持部３は、前記搬入時において前記搬送アーム１から前記基板５を前記支持片１４Ｃですくい上げて前記吸着面に当接させ、前記搬出時において前記チャック２から離脱した前記基板５を前記支持片１４Ｃで支持して前記搬送アーム１に受け渡す。 （もっと読む）

【課題】 本発明は搬送構造を改善した基板搬送装置を提供する。
【解決手段】 本発明による基板搬送装置は、ベース部２０と；ベース部２０上に直線運動ができるように設置されて、回転体３２が備わっている運動部３０と；運動部３０の両側に並立設置されて、高さ調節が可能な一対のフレーム部４０ａ、４０ｂと；一対のフレーム部４０ａ、４０ｂの間に連結されて、フレーム部４０の高さ調節動作に連動して、上下直線運動する搬送部５０と；を含んで構成される。これにより、構造的な安全性を確保した状態で、簡便で精密に基板、特に大型基板を搬送させることが可能になる。 （もっと読む）

【課題】基板をステージ装置に吊り下げ保持する場合において、静電チャックから確実に基板を搬出できる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置は、ステージ１１に配置され基板５を保持する吸着面を下向きに有するチャック４と、前記基板５を上側に載置する基板載置部２を備え、前記チャック４の下側で前記基板５の搬入または搬出を行う搬送アーム１と、前記基板載置部２を隔てて配置された複数の引掛爪３と、を有し、前記引掛爪３は、前記基板載置部２に形成され前記基板５よりも上側に突出する基部３ａと前記基部３ａから前記基板載置部２に向けて張り出した爪部３ｂとを備え、前記基板載置部２と前記チャック４とは前記搬出時において上下方向に離間して、前記吸着面に吸着された前記基板５を前記爪部３ｂに押圧させることを特徴とする。 （もっと読む）

基板搬送装置は駆動セクションと該駆動セクションに作動自在に結合されたスカラアームとを有し、該駆動セクションは該スカラアームを作動する。該スカラアームは上方アームと少なくとも１つの前方アームとを有している。該前方アームは該上方アームに作動自在に搭載されてその上に基板を保持することが可能である。該上方アームは実質的に剛性であって該上方アームの所定の形態の変更を調整することが可能である。
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重力補償装置は、基本質量（１０）によって回転軸線（１３）から第１の距離を置いたところで平衡装置（１２）に及ぼされた力を、回転軸線から第２の距離を置いたところで平衡装置に反力を及ぼす力発生装置、例えばばね（１４）によって、部分的に又は全体的に補償する。第１の距離、第２の距離又はこれら両方は、所望の重力補償具合を提供するよう選択可能である。角度可変半径を有する１つ又は２つ以上の滑車を使用するのがよい。重力補償装置は、基本質量にそれほど質量を追加することはなく、設計が単純である。
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【解決手段】 物品を真空支援処理するための方法と装置が開示されており、ここでは、システムの効率と製品の品質を高めるために、段取り室（１５）と処理室（１１）を実質的に等しい低圧に維持しながら物品は両室間で移動させ、且つ、処理の前及び後に物品を移送するために磁気連結式駆動機構（４３）が使用されている。 （もっと読む）

【解決手段】ワークピース移送装置は、減圧状況下でワークピースを処理するためのイオン注入機に使用される。ワークピース移送装置は、注入チャンバの内部領域と流体連通する脱気可能なロードロック装置を含んでいる。ロードロック装置は、ワークピースと整合する開口を有するワークピースを支持するためのサポート表面を含んでいる。ワークピース移送装置はさらに、注入チャンバ内に、２つの自由度を有するリンケージによって支持された台を備えたワークピースサポートを含んでいる。リンケージは、処理に先だって、サポート表面の開口を横切って通過するよう台を移動させて、ワークピースをサポート表面から取り上げる。台は、ワークピースを注入チャンバ内で処理するための位置に保持する。その後、リンケージは、台をサポート表面の開口を横切るように通過させて、後の処理のためにワークピースをサポート表面上に配置する。 （もっと読む）

リフトアセンブリは基板を基板サポートから持ち上げ、かつ該基板を移送することができる。該リフトアセンブリは、該基板サポートの周辺に嵌合するようにサイズ設定されたフープと、該フープ上に搭載された１対のアーチ状フィンとを有しており、各アーチ状フィンは半径方向内側に延びる出っ張りを有する１対の対向端を備えており、各出っ張りは基板を持ち上げるための隆起した突起を有しており、該基板は実質的に該隆起した突起のみに接触して、該１対のフィンが該基板サポートから該基板を持ち上げるのに使用される場合に、該出っ張りとの接触を最小化することができる。該リフトアセンブリおよび他のプロセスチャンバコンポーネントは、（i）炭素および水素と（ii）シリコンおよび酸素の相互リンクネットワークを有するダイアモンド状コーティングを有することができる。該ダイアモンド状コーティングは、約０．３未満の摩擦係数と、少なくとも約８ＧＰａの硬度と、約５×１０^１２原子／ｃｍ^２未満の金属の金属濃度レベルとを有する接触表面を有する。該接触表面は、直接的または間接的に基板に接触する場合に、基板の汚染を削減する。 （もっと読む）

【課題】 ドラム型基板ホルダーの外周面に対して基板の取り付け、取り外しを、簡易な構成で容易に行うことができる薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 ドラム型基板ホルダー５を水平方向の回転軸を回転中心にして成膜室内に水平状態で回転自在に支持し、基板１２を固定保持した基板固定治具１３をアームでドラム型基板ホルダー５の外周面上に水平に搬送することで、ドラム型基板ホルダー５の外周面の角部５ａに設けた固定装置１４で基板固定治具１３の端部１３ｂを固定することができる。 （もっと読む）

本発明は、人の手を介することなく、自動的に正常状態にある基板を回収することができる基板処理装置を提供することを目的とする。基板１２を多段に保持する基板保持具２６と、この基板保持具２６に基板１２を移載する基板移載機３４とからなり、基板保持具２６の基板保持状態は検知部６０により検知される。検知部６０は、フォトセンサ６４ａ，６４ｂを有し、このフォトセンサ６４ａ，６４ｂから検知された検知波形が正常波形と比較され、少なくとも異常と判断された基板１２以外の基板１２を基板移載機３４にて移載するよう制御する制御部６６が設けられている。 （もっと読む）

半導体ウェーハを取り扱ういろいろなエンドエフェクタの設計が開示されている。例えば、比較的低温でウェーハを取り扱うエンドエフェクタが、比較的高温でウェーハを取り扱うエンドエフェクタとともに開示されている。いずれのエンドエフェクタも、ウェーハの縁部で該ウェーハに単に接触するように構成されている、独自に設計された支持部材を含んでいる。エンドエフェクタは、また、ウェーじゃ検出システムを含み得る。比較的低温でウェーハを取り扱うエンドエフェクタは、また、ウェーハを位置決めするばかりでなく、エンドエフェクタに取り付けられているロボット・アームにより引き起こされるエンドエフェクタの加速または減速中、エンドエフェクタ上のウェーハを保持するのに使用される押し装置を含み得る。設計されているように、エンドエフェクタは、非常に薄い外形を有し、簡単に操縦しやすいエンドエフェクタを作り得る。

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本発明の目的は、いかなるウエハ（４０）にもアクセスが簡単な状態で、実質的に水平な、密集したウエハ（４０）の貯蔵を可能にすることである。この目的を達成するために、本発明では複数の積重ねた貯蔵要素（１０）を備えてなる機器が設けられ、上記貯蔵要素（１０）は、ウエハ（４０）を置くことが可能である手段（１６）を有する。貯蔵要素（１０）は、特定の貯蔵要素（１０ａ）と特定の貯蔵要素（１０ａ）の上に配置された全ての貯蔵要素（１０）を、所定の第一高さにだけ持ち上げることができる持上げ用突出部（１４）を有し、その結果、接触間隔を作り出す。突出部（１４）は、上記貯蔵要素（１０ａ）の下に配置される貯蔵要素（１０ｂ）を、所定の第二高さにだけ持上げることに用いることもできる。
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【課題】占有スペースやコストを大幅に削減することができ、しかもスループットを向上させることが可能な被処理体の処理システムを提供する。
【解決手段】第１の大気圧搬送室４と、第１の大気圧搬送室内に設けられた第１の搬送機構２０と、第１の大気圧搬送室にロードロック室を介して直交するように設けた第１の真空搬送室６と、第１の真空搬送室内に設けた第２の搬送機構３６と、第１の大気圧搬送室に接続した大気圧バッファ搬送室８と、大気圧バッファ搬送室内に設けたバッファ用搬送機構４４と、大気圧バッファ搬室に直列に接続した第２の大気圧搬送室１０と、第２の大気圧搬送室内に設けた第３の搬送機構５４と、第１の真空搬送室に接続した真空処理室１２Ａ〜１２Ｃと、第２の大気圧搬送室にロードロック室を介して接続した真空処理室１２Ｄ、１２Ｅとを備えて処理システムを形成する。 （もっと読む）

【課題】複数のクリーンルーム間で電子部品を遣り取りする場合の搬送効率アップによる生産性向上を図る。
【解決手段】 複数のクリーンルームの少なくとも１つに設けられるクレーン付のストッカー 21 と、該ストッカーの受渡領域に載置されるコンテナ 22 と、クリーンルーム内で移動する第一の搬送車 23 と、一般通路用のカバー付の第二の搬送車とを含んで構成し、ストッカー 21 と第一の搬送車 23 と第二の搬送車のそれぞれに、ストッカーと第一の搬送車間及び第一と第二の搬送車間で前記コンテナ 22 が自動的に受渡しできる移載手段 211,231 を設ける。 （もっと読む）

【課題】 占有スペースをそれ程大きくすることなく、簡単なプロセスを含めた多種多様な処理を行う。
【解決手段】 被処理体Ｗに対して所定の処理を行う複数の処理装置３２Ａ〜３２Ｆと、前記複数の処理装置に共通に接続された共通搬送室３４と、前記共通搬送室内に設けられて前記処理装置との間で前記被処理体を搬送するための第１及び第２の２つの搬送手段４０、４２と、前記共通搬送室内であって前記２つの搬送手段のそれぞれの搬送範囲が重なる範囲内に設置されて、両側がゲートバルブ５８Ａ、５８Ｂによって開閉されて密閉空間となるバッファ部５０、５２と、前記共通搬送室に接続されて真空引き可能になされたロードロック室３６Ａ、３６Ｂと、前記ロードロック室に接続された導入側搬送室３８と、前記導入側搬送室内に設けられて、前記被処理体を複数収容するカセットと前記ロードロック室との間で前記被処理体を搬送する導入側搬送手段１２４とを備えた。 （もっと読む）

【課題】アームの熱膨脹収縮により生じるハンド部材の偏位量を許容範囲内に収めることができるアーム回動形のワーク搬送用ロボットを提供する。
【解決手段】固定プーリ８，２７と、一端が固定プーリ８，２７に対して回動自在に支持されたアーム１３，２６と、アーム１３，２６の他端に回転自在に支持された回転プーリ１５，２９と、固定プーリと回転プーリとの間に張設されたベルト１７，３０とを備えたアーム機構を多段に設けて、最終段のアーム機構の回転プーリ２９にハンド部材４０を取り付けたワーク搬送用ロボットにおいて、アーム１３，２６の熱膨脹収縮によりハンド部材４０に生じる偏位を許容範囲に収めるように、テンションローラ２２，３５からベルト１７，３０に与える張力を調整するようにした。 （もっと読む）

【課題】 ティーチング基準位置における位置合わせを、精度良く且つ効率的に行なうことができる搬送システムの搬送位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 被搬送体Ｗを保持するフォーク４８を有する搬送アーム部２０と、この搬送アーム部を移動させる移動機構３０と、搬送アーム部の移動エリア内に配置された少なくとも１つ以上の容器載置台２４と、被搬送体の偏心量と偏心方向と切り欠き目印６４の回転位置を光学的センサ６２により検出する方向位置決め装置３６と、全体の動作を制御する制御部７２とを備えて位置合わせを行なう搬送システムの搬送位置合わせ方法において、マニュアルにより被搬送体を正確に位置合わせして載置したり、被搬送体を受け取りに行き、これを方向位置決め装置に搬送してその偏心量或いは切り欠き目印の回転誤差を求めることにより真に正しい適正位置座標を得ることができる。 （もっと読む）