電子部品の製造におけるプレート形状のサブストレートを貯蔵し及び／又は輸送するための機器
本発明の目的は、いかなるウエハ（４０）にもアクセスが簡単な状態で、実質的に水平な、密集したウエハ（４０）の貯蔵を可能にすることである。この目的を達成するために、本発明では複数の積重ねた貯蔵要素（１０）を備えてなる機器が設けられ、上記貯蔵要素（１０）は、ウエハ（４０）を置くことが可能である手段（１６）を有する。貯蔵要素（１０）は、特定の貯蔵要素（１０ａ）と特定の貯蔵要素（１０ａ）の上に配置された全ての貯蔵要素（１０）を、所定の第一高さにだけ持ち上げることができる持上げ用突出部（１４）を有し、その結果、接触間隔を作り出す。突出部（１４）は、上記貯蔵要素（１０ａ）の下に配置される貯蔵要素（１０ｂ）を、所定の第二高さにだけ持上げることに用いることもできる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品の製造において普通に見受けられるプレート形状のサブストレート、特にディスク形状のサブストレートを貯蔵するための機器に関するものである。このタイプのサブストレートは、とりわけウエハ又はテストウエハと呼ばれている。特に、複数のサブストレートは、好ましくは、本発明にしたがう機器で水平に貯蔵される。さらに、本発明は、これら貯蔵部と関連して、そのようなサブストレートの取扱いのための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品は、通常、およそ円形の半導体ディスク、いわゆるウエハから製造される。これらサブストレートは、基本的にサブストレートが表面処理される様々な処理設備に供給されなければならない。これに関して、処理設備での処理完了後、サブストレートを別の処理設備へその後直ちに供給することができなければ、大抵は、一時的にサブストレートを貯蔵する必要がある。クリーンルーム条件又はウルトラクリーンルーム条件（以下全て、クリーンルーム条件という）下で、貯蔵機器に一時的にサブストレートを貯蔵することは一般的である。クリーンルーム条件を作り出すコストは、基本的に部屋の大きさに依存するので、通常は、サブストレートをできる限り互いの間の間隔を狭くして貯蔵する取り組みがなされる。
【０００３】
互いの間の間隔をできる限り狭くしているにもかかわらず、この場合、他のサブストレートを取出すことなしに、特定の個々のウエハを貯蔵機器から取出し可能にすることが、多くの場合必要となる。それ故、そのような貯蔵機器内部での連続したサブストレートの間の間隔は、対応するサブストレートを検知し且つ取出すためにつかみ具を挿入することが可能な、今もなお存在するアクセス間隔によって制限される。
【０００４】
処理プロセスを最適にすることを可能とするために、いわゆるテストウエハが用いられる。いかなる電子部品も、一般にこのようなテストウエハから製造されない。それらは、異なった処理パラメーターでテストウエハを処理することで、また測定に基づいて、実際に処理されるウエハに用いられる処理パラメーターの値を決定することで、処理パラメーターを実験的に最適化するために用いられるだけである。既述のウエハは別にして、このタイプのテストウエハは、本発明にとってもう一つの重要な応用分野でもある。
【０００５】
さらに、工場の内部で又は外部にでさえ、容器内部のウエハを輸送することが必要となる。このためにも、それぞれの貯蔵要素の上にサブストレートを通常は配置することが可能な複数の貯蔵要素を有する輸送容器が用いられる。このタイプの輸送容器は、例えば、いわゆる正面開口式カセット一体型保管箱（ＦＯＵＰ transfort boxes）として、多くの場合、標準化されている。ここでも、できる限り互いの間隔を狭くして、サブストレートを配置することができる必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
それゆえに、本発明の目的は、好ましくは水平に貯蔵される複数のサブストレートを貯蔵することが可能であり、且つ任意に、できる限りお互いの間の間隔を狭くして輸送することが可能な機器を作り出すことにある。さらに、クリーンルーム条件を、少なくとも好適な変形において、できる限り簡単な方法で機器内部に作り出すことも可能とさせる。本発明の別の態様によれば、互いの間の間隔ができる限り狭いにもかかわらず、機器からサブストレートを取出すことを可能とする器具が設けられる。さらに、本発明の別の態様では、機器からサブストレートを取出すための又は配置するための方法に関連する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本目的は、請求項１に示されるような機器によって達成される。複数の連続する貯蔵要素の間のそれぞれの間隔、好ましくは、全ての連続する貯蔵要素の間のそれぞれの間隔が、貯蔵間隔からこの目的のために増加させられるアクセス間隔まで変えることが可能な場合には、この場合は特に有利である。この結果、貯蔵状態において、連続する貯蔵要素間、よってサブストレート間でも、できる限り短い間隔、いわゆるピッチ間隔（pitch distance）を達成可能である。貯蔵間隔は、サブストレートの表面が接触しないことを保証するために従うべき最低間隔だけに、基本的に制限される。それ故、ウエハ又は他のサブストレートの非常に密集した貯蔵が、本発明で可能となる。それにもかかわらず、本発明は、閉じた貯蔵手段に収容されるそれぞれのサブストレートに、別々にアクセスすることができる長所を可能にする。
【０００８】
本発明の好ましい実施形態では、存在する全ての連続する貯蔵要素において、これらの互いの間隔をアクセス目的のために変えることが可能である。こうして、機器に貯蔵されたサブストレートそれぞれに、別々にアクセスすることができる。本間隔は、好ましくは貯蔵要素の積重ね方向に対して並行に増加させられる。基本的には、本発明にしたがう機器を、水平又は垂直方向に、あるいはそれらの間のいかなる方向にでもサブストレートを貯蔵するために構造上デザインすることができる。
【０００９】
本発明に関連して、二つの連続する貯蔵要素の間の間隔を増加するために必要とされる相対動作を、サブストレートの水平方向の場合において、上側の貯蔵要素である貯蔵要素を持上げることによって実行することは好都合である。貯蔵要素の貯蔵間隔次第で、それの上方に配置されるいくつかの又は全部の貯蔵要素を持上げることが、ここでは必要となる。
【００１０】
別の実施形態で、アクセス間隔までの貯蔵間隔における増加は、互いと分離させられる二つの貯蔵要素の下側貯蔵要素が下方に動かされることで実行される。二つの貯蔵要素（二つの貯蔵要素の間で、アクセス間隔が達成される）の下側貯蔵要素に続いていくいくつかの貯蔵要素又は全部の貯蔵要素を、同様に下方に動かすことがここでは必要となる。
【００１１】
最後に、別の代わりの実施形態で、互いに引き離れされる二つの貯蔵要素で下側貯蔵要素を下方に移動し、且つ上側貯蔵要素を上方に動かしうる。本発明に関連して、相対動作の複数の変形が、貯蔵要素を互いから分離し、少なくとも一つの貯蔵要素の貯蔵領域にアクセス可能にするためにこのように考えられる。
【００１２】
本発明にしたがうとりわけ有利な実施形態は、次々と上に直接重ねて配置された貯蔵要素を用いて達成することができる。貯蔵要素は、リング状の形態に閉じられ、且つサブストレートをそれぞれ配置することができるそれぞれ複数の支持体を有する。支持体は、例えば、少なくともおよそ円形のリングに対して上方に曲げられ、サブストレートを貯蔵するための接触面を有する。
【００１３】
したがって、貯蔵要素それら自身を用いて機器のハウジングを具体化することもまた可能である。クリーンルーム条件をハウジング内部で作り出し、且つ保つことが可能である。そのような実施形態によって、その他に必要な付加的なハウジングを避けることができる。さらに、ハウジングにおいて、その他にさらに必要なアクセス開口部（access opening）の問題と、アクセス開口部の全面で挿入され又は取出されるサブストレートの位置調整の問題を、こうして、同様に都合よく避けることができる。それにもかかわらず、本発明の特定の実施形態において、サブストレート及び／又は貯蔵要素のための挿入／取出し開口部を設けることが可能なハウジングの周りに、貯蔵要素を配置することも好都合でありえる。
【００１４】
それは、貯蔵要素の積重ねから、貯蔵要素を別々に取出すか又は挿入することが可能である場合には、ここでは特に好まれる。他の貯蔵要素が、あらかじめ又はその後、この目的のために移動させられなければならないことなしに、積重ねのいかなる位置にでも貯蔵要素を取出し又は挿入することが可能である場合には、その際には、特有の長所が達成される。これは、例えば、貯蔵要素を他の貯蔵要素と入れ替えるために、又は貯蔵要素と共にサブストレートを輸送するために用いられ、あるいは、積重ねを減少し又は増大するためにでさえ用いられる。したがって、貯蔵容量は、非常に小さな努力で個々の条件に適合させられる。これを達成するために、それらが互いと分離可能か又は分離不能な連結を有することなしに、貯蔵要素を次々と上に積重ねることが可能である場合には、好都合でありえる。
【００１５】
そのような解決で、積重ねからその貯蔵要素とともにサブストレートを取出す可能性と、処理設備又は工場の内部でそれを輸送する可能性も存在する。したがって、取扱手段とそれぞれサブストレート自身の間の必要な接触数を著しく減じることができる。このタイプの接触は、それぞれのサブストレートを傷める危険を常に持つ。
【００１６】
外側方向にハウジングをシールするために、貯蔵要素は、シール要素を備えられ、本シール要素は、貯蔵要素が互いから規定された貯蔵間隔をとるならば、貯蔵要素間で見込まれる隙間をシールする。結果として達成することが可能な外側に対する機器の有利な封入（encapsulation）は、他のシール材を用いても達成することができる。
【００１７】
重ね合わされた複数の貯蔵要素を用いて形成される塔又は積重ねは、特にアクセス間隔が二つの貯蔵要素の間に形成される時に、不安定な傾向がある。これを回避するために、機器は安定化要素を設けられる。そのような安定化要素は、例えば、貯蔵要素に取付けられ、相互の関連で貯蔵要素を正確に整列させるセンタリング要素である。貯蔵要素の隣に外側で配置され、タワーの転倒を防止する横方向案内要素は、別の可能性である。
【００１８】
本発明の別の態様にしたがって、輸送機器は、複数のサブストレートを相対的に小さな空間へ同時に輸送することが可能なそれを伴って具体化されうる。
【００１９】
既述した本発明の特性のために、本発明にしたがうそのような輸送機器で、同じ輸送容量であれば、序論で既述したいまや通例の正面開口式カセット一体型保管箱よりも著しくコンパクトな輸送容器を製造することが可能である。
【００２０】
輸送のためのコストと技術的な努力が、輸送容器の大きさとともに増大しているので、本発明で達成することが可能な、サブストレートの極めて高充填の貯蔵は、工場の外へ輸送するために設けられる輸送機器と関連して特に有利である。とはいえ、そのようなコンパクトな輸送箱の使用又は、今までと同じ寸法でサブストレートの著しく高い収容能力を有するこれら輸送箱の使用は、工場の内部でも非常に有利である。これに関連して、サブストレートともに一つの貯蔵要素だけを収容することが可能な輸送容器も有利である。搬送ベルト又は別の搬送手段上で工場内を輸送するための輸送容器を、本発明にしたがう貯蔵要素に備えてもいいし、備えなくてもよい。
【００２１】
他の有利な実施形態は、請求項、明細書及び図面から明らかである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明は、図面において全く概略的に示される例示的な実施形態に基づいて、より詳細に説明される。
【００２３】
図１で全体として１００で示される機器で、下部に置かれる貯蔵要素１０の積重ね１２が配置される（図示せず）。最下部の貯蔵リングを除いて、貯蔵リング１０のそれぞれは、積重ね領域で、その下に配置されたそれぞれの貯蔵リング１０のすぐ上に置かれている。クリーンルームが閉状態において形成されるように、上方から、下方を向いたクリーンエアの流れが、クリーンエアユニット２０から積重ね１２を通り抜ける。示された開口状態で、クリーンエアの流れは、機器内部にほこり及び粒子のない環境を保持するために用いられる。
【００２４】
貯蔵リングの積重ねを選択的な方法で開くことが可能である取扱い手段３２を、制御盤３０を経て制御することができる。ここに示された例示的な実施形態で、これは、機器と連携させられる器具５０を用いて起こる。
【００２５】
図３に示すように、ディスク形状のウエハ４０を貯蔵することができる３個の保持要素（支持具）１６が貯蔵リング１０に配置される。保持要素１６は、（貯蔵リングに対して）内側を向き、且つわずかに上方に曲げられる。これらのそれぞれは、平らで、下方に傾斜した接触面を有し、こうしてウエハ４０のための貯蔵場所を形成する。
【００２６】
図２は、貯蔵リング１０の開口状態を示す。ここで、アクセスが意図される全ての貯蔵リングは、これら貯蔵リングの上方に、所定の量だけより高く持ち上げられる。その結果、アクセス空間が形成される。しかしながら、貯蔵リング１０は、よってウエハも、このウエハが次の下のウエハに対して有する間隔が非常に狭いので、当該ウエハが、どんなことをしても下方よりつかむことができないように密集している。このような訳で、持ち上げられた部分的な積重ね１２’の下方の次の貯蔵リングも、その後又は同時に所定の量だけ持ち上げられる。この持ち上げ高さは、例えば、ウエハ４０を、曲げられた保持要素１６を通って貯蔵リングのリング形状部だけ上方に動かす高さに相当する。機器の貯蔵状態では高い充填密度であるにもかかわらず、それぞれのウエハは、この手段によって容易にアクセス可能である。図４に示されるように、対応するウエハ４０を、その取出しの後で、自動取扱器を用いて更なる取扱い方法又はプロセスへ供給することができる。
【００２７】
図５ａから図５ｄは、上述の開口手順を詳細に示す。二つの持ち上げ面５２と５４を有する器具５０は、貯蔵リングの積重ね１２の方へ特定の方位角位置（azimuthal position）に動かされ、その後、上の持ち上げ面で貯蔵リング１０ａの下方をとらえる。その後、貯蔵リング１０ａは、下の持ち上げ面が貯蔵リング１０ｂに触れるまで、特定の経路で上方に移動させられる。その後、下方の貯蔵リング１０ｂが、今度は特定の経路で持ち上げられ、それによってそれの上に置かれる全ての貯蔵リングがそれと共に更に持ち上げられる。この位置において、図５ｄから明らかなように、貯蔵リング１０ｂに置かれたウエハに、機器要素又は他のウエハから自由にアクセスすることができる。こうして、このウエハをつかみ具（gripper）６０を用いて取出すことができる。原則として、機器内部にウエハを挿入するために及び貯蔵リング１０ｂ上にウエハを保管するために、貯蔵リング１０ｂ用のアクセス空間を形成することに関して同じ方法で処理することができる。
【００２８】
示された実施形態で、器具５０は、積重ねの外周上で任意のいかなる位置をも選ぶことができるように、貯蔵要素１０の積重ね１２のまわりで回転させることができる。一方、他の実施形態において、積重ね１２を他の方法で回転又は移動させることも可能であり、器具を外周上でその位置に関して固定させること、又は小さな回転角だけで回転可能にすることも可能である。
【００２９】
ここで示された本発明にしたがう実施形態で、貯蔵リング１０の積重ね１２は、３本の垂直棒（ここでは詳細に示さず）を用いて、外側で保持されるその位置で安定させられる。これは、積重ね１２の転倒を防止する。これに代わる手段として、少なくとも１本の案内ピンで、貯蔵要素を垂直に貫いて案内することもありえる。
【００３０】
図６に示すように、突出部１４は、貯蔵リング１０で階段状に互い違いにされるので、より高い貯蔵リングの突出部のそれぞれは、例えば、突出部の幅を幾分上回って、（外周方向において）方位角方向に時計回りで互い違いにされる。本手段は、下の持ち上げ面５２が、上の持ち上げ面５４と比べて、１つの突出部の幅よりも幾分上回って左側にずらされるこの例示的な実施形態の器具５０の実施形態と連動する。
【００３１】
図７〜２８に記載の好適な実施形態で、積重ねとのかみ合い（meshing）が、ウエハ４０の取出し及び再挿入だけではなく、貯蔵リング１０の置換もまた可能となるように、横方向案内が配置される。この目的を達するために、互いから離れて置かれ、且つ貯蔵リング１０の水平な引き出しを可能にする案内要素８０が、貯蔵リング１０の両側に配置される。これらの案内要素８０は、例示的な実施形態において、回転要素又は滑動要素を設けられる。そのような機器で、設備全体を停止する必要なしに、設備の操作中でさえ同時に、保守作業を実施できるようにすることが可能である。上記保守作業は、例えば貯蔵要素を置換すること又は取出すこと、あるいは追加貯蔵要素を積重ねに与えることからなる。
【００３２】
この例示的な実施形態で、既述の拡大解決乃至展開解決（expansion solution）が使われる。この場合、機器の器具は、いずれの場合も３つの貯蔵リングと、例えば、貯蔵リング１０ｂの下に配置された貯蔵リング１０ｃとでさえかみ合う。この貯蔵リング１０ｃはそのレベルで保持されるので、自由にされたときに、応力（例えば、配置圧力によって発生させられる）では、下部にとどまる貯蔵リングの自動的な持ち上げにつながらない。
【００３３】
最後に、本発明にしたがう実施形態では、サブストレートがこのような方法で貯蔵されないか、又は、例えば基準として提示されるいわゆる“１／１ピッチ”で貯蔵要素を少しも圧縮しないこともまた可能である。その結果として、サブストレートへのアクセスは、１つ以上の隣接する貯蔵要素に対する間隔を変えることなしに可能となる。それにもかかわらず、上述の拡大乃至展開（expanding）は、下部に位置する貯蔵要素の自動的な持ち上げを防止するために、そのような配置においてまさに意味がある。
【００３４】
特に簡単な方法で、圧縮度の変更を可能とするために、両方のそれぞれの貯蔵リングに対して置かれる中間リング（図中に図示せず）を、２つの連続する貯蔵リングの間に配置することができる。貯蔵機器の内部で、連続するサブストレートの間隔を、貯蔵リングの高さを越えて変更することが可能である。この変更可能性にもかかわらず、同様の貯蔵要素を常に使用しうる。本発明にしたがう、この可能な実施形態も、本発明に関連して、貯蔵要素が完全に直接互いに続く必要が無いことを証明する。
【００３５】
図２９に示される本発明にしたがう実施形態では、貯蔵リング１０の複数の積重ね１２が設けられている。図２９に示される眺めで、個々の貯蔵リングは、それぞれの積重ね１２の形でそれら全体としてでしか示されていない。例えば一番上の貯蔵リング上に載せることができる上部カバープレート１１０を、それぞれの積重ね１２に配置することができる（図３０も参照）。さらに、積重ね１２のそれぞれは、下部ボトムプレート１１１の上にそのそれぞれの下側貯蔵リングを配置させうる。貯蔵要素に加えて、ボトムプレート１１１とカバープレート１１０は、全部で、基本的に密閉容器を形成する。
【００３６】
ボトムプレート１１１のそれぞれは、Ｚ方向に（例えば、垂直に）搬送させることが可能な心棒乃至軸に固定され、その結果として、全ての貯蔵リング１０を、Ｚ方向に２つの固定式のアーム１１２の間に、直接搬送することができる。二つのアーム１１２のそれぞれは、開口器具１１４（詳細は以下で説明する）を具備し、本開口器具を用いて、特定のサブストレート又は特定の貯蔵リング１０にアクセスするために、それぞれの積重ね１２をあらゆる任意の位置で開口することができる。別の実施形態では、開口器具を搬送することが可能であり、少なくとも１つの積重ねが、固定式で配置される。
【００３７】
ウエハの面に対して並行して回転可能な二つのアーム１１２の一つに配置される二つの開口器具のそれぞれ一方が、図３１と３２に基づいて詳細に説明される。図３２から特に明らかなように、それぞれの開口器具１１４は、下側つかみ部及び上側つかみ部１１６、１１７を有する。上側つかみ部１１７は、ここでは、複数の重ねられたつかみ要素１１７’で具体化される。連続するつかみ要素１１７’は、それら自身の間に溝１１８を形成し、その幅は、貯蔵リング１０の外周領域におけるその高さ（図３３の斜視断面図に同様に示される）よりも大きい。連続する溝１１８の間の間隔は、連続する貯蔵リング１０の間の間隔に相応するので、外周領域部を有する貯蔵リングを、それぞれの溝１１８に配置することができる。
【００３８】
原則として、下側つかみ部１１６は、同様に具体化される一方で、中間つかみ部１１９だけが、段をつけられた接触面を有する。
【００３９】
ウエハを取出すために又は挿入するために、特定の貯蔵リング１０にアクセスできるようにするならば、その時は最初に、全ての積重ね１２（図２９）が、Z方向に一緒に搬送される。したがって、アクセスを意図される貯蔵リング１０ｂは、中間つかみ部１１９も配置される同位置に、Z方向でもたらされる。引き続いて、２つのアーム１１２を積重ね１２の方へ回転させることができるので、外周部を有する貯蔵リング１０ｂは、中間つかみ部１１９の接触面上に直接配置される。この貯蔵リング１０ｂの上方に続く貯蔵リングは、上側つかみ部の溝に配置される一方、下方に続く貯蔵リング１０は下側つかみ部１１６の溝に配置される。
【００４０】
ボトムプレート１１１の領域に配置される貯蔵リング１０にアクセスするつもりならば、その時は、図３２に示されるように、ボトムプレート自身が、下側つかみ部１１６におけるその横棒（bars）に配置される。同様のことが、その外周上に相応する横棒を設けられるカバープレート１１２と上部つかみ部１１７にも当てはまる。
【００４１】
二つの連続する貯蔵リングの間のアクセス間隔を作り出すために、このために必要とされる相対動作は、積重ねだけにおいて、又は開口器具だけにおいて、又は積重ねと開口器具のそれぞれ両方の部分的な動作においてなされる。これらの可能な実施形態の一つにおいて、上側つかみ部１１７は、所定の小さな経路Ｓ１だけＺ方向に上方に動かされ、下側つかみ部１１６は、同様に所定の経路Ｓ２だけ下方に下げられる。経路Ｓ１の量は、経路Ｓ２の量よりもここでは大きい。それに反して、中間つかみ部１１９は、その最初のＺ位置に保持される。この結果として、図３２に示されるような状況が生じる。自動取扱機を用いて取扱うために、取出されるべきウエハは、現状では、次の上側の貯蔵リング１０と次の下側のウエハの両方に対して十分な間隔を有する。次の下側のウエハは、ウエハがアクセスされている貯蔵リング１０ｂの面におよそ配置される。
【００４２】
貯蔵リング１０とそれらのウエハを自由にするために又は分離するために、基本的に相対動作だけが、自由にされる貯蔵リング１０ｂとその上に配置された貯蔵リング（及び／又は状況に応じて、その下に配置される貯蔵リングも）の間でなされるので、他の可能な動作配置（motion distributions）は、以下に説明される。当然ながら、相対動作は、ここで示されたこれらの方法と異なった方法で実現しえる。
【００４３】
こうして、例えば、分離処理の間に、アクセスされるべき貯蔵リング１０ｂの上方に配置される部分的な積重ね１２’（上側の部分的な積重ね）だけを、その現在のZ位置に保持することが可能である。上側の部分的な積重ね１２’に対する間隔は、中央つかみ部１１９（よって貯蔵リング１０ｂも）及びそれの下に配置される下側の部分的な積重ね１２’’の、Z方向で下方を向いた搬送動作によって作り出される。中間つかみ部１１９の動作を、例えば、止め具との接触によって止めることができる。他方で、下側つかみ部１１６が、止め具に接触するか又は別の方法でその動作を止めるまで、貯蔵リング１０ｂの下に配置される下側の部分的な積重ね１２’’は、下側つかみ部１１６を用いてこの動作を続けることができる。したがって、貯蔵リング１０ｂに配置されるサブストレート１２１の下に、サブストレート１２１と貯蔵リング１０ｂの間でつかみ具を動かすための十分な空間も存在する。
【００４４】
別の実施形態では、上側の部分的な積重ね１２’は、今度は、上側つかみ部１１７を用いてZ位置に固定位置で保持される。例えば、ボトムプレート１１１が下方に動かされるアクセス空間は、残りの貯蔵リング１０の、Z方向において下方を向いた動作を用いて作り出される。貯蔵リングと下側の部分的な積重ねの動作経路の異なる制限を用いて、間隔がこれらの間に作り出される。
【００４５】
Z方向における下方又は上方を向いた全ての動作を、例えば、油圧駆動手段、空圧駆動手段、電気駆動手段及びバネ弾性駆動手段のような駆動手段を用いて及び／又は重力を利用することを用いて、完全に又は部分的に実施することができる。これらのタイプの駆動手段は、一つの貯蔵要素にアクセスした後で、貯蔵機器の機能上安全な閉口を可能にもする。
【００４６】
本発明にしたがうこれらの例示的な実施形態と関連して好適に用いられる貯蔵リング１０の更なる詳細が、図３３と３４から明らかになる。したがって、貯蔵リングは、およそ円形だけである。もっと正確に言えば、それらは、９０°ずつ互い違いにされ、且つ基本的に直線で走る四つの切断部１２２を有する。直線で走っているので、つかみ部の溝に又はそれらの接触面上に、より大きな接触面でこれら切断部を配置することが可能となる。
【００４７】
さらに、貯蔵リングは、できるだけ正確に貯蔵リング１０を次々と上に重ねて積重ねることを可能にするために用いられる複数のセンタリングドーム１２３を有する。この場合、センタリングドーム１２３は、積重ね方向で隣接する貯蔵リング１０のそれぞれのセンタリングドーム１２３とかみ合う。センタリングドーム１２３のおかげで、互いに正確な位置あわせのために又はボトムプレート１１１に関して正確な位置あわせのために、別途、貯蔵リングに加えて必要になるであろう手段を回避することができる。
【００４８】
図３０で示されているように、クリーンルーム条件が、少なくとも貯蔵リング１０と、下部のボトムプレート１１１に加えてカバープレート１１０からなる貯蔵容器内部に作り出すことができる。クリーンルーム条件を作り出すためにここで意図された手段は、詳細に示されない。周囲環境と比較して高い圧力下である雰囲気であって、例えば窒素雰囲気又はウルトラクリーンエア雰囲気を、これらの手段を使って貯蔵容器内部に作り出すことができる。貯蔵容器内部からの目標とされるそれぞれのガス放出を、貯蔵容器の所定の漏洩で達成することができ、外部から貯蔵容器内部への粒子の進入を防止することができる。これらの漏洩を、例えば、シールを省くことを用いて、又は貯蔵リング間の不完全なシールを用いて達成することができる。
【００４９】
図３５は、本発明にしたがう輸送容器２００を示し、本輸送容器は、次々と上に直接積重ねられて配置された貯蔵リング１０とボトムプレート２１１及びカバープレート２１０から成る。貯蔵リングは、カバープレートとボトムプレートと共に、シール要素（図示せず）を今度は有しているので、それらは、サブストレート用のシールされた輸送容器２００を形成する。輸送容器２００をロック手段（locking means）、例えば、それぞれカバープレート２１０とボトムプレート２１１の両方の周りをつかむ二つのクランプ（詳細は示さず）で、偶発的な開口から守ることができる。本発明の有利な変形において、連続する貯蔵リング１０を詳細には示さない方法で、互いに連結することができる。したがって、貯蔵リング１０の間の間隔における増加を特に簡単な方法で達成することができ、同時に、貯蔵要素間の結合を達成することができる。そのような連結は、例えば、はさみのような連結タイプでありえる。
【００５０】
本発明の変形で、外部のシール可能な輸送ボックスへ、示された輸送容器２００を入れることもまた準備しえる。この場合、外部の影響に対するシールは、外部輸送ボックスを用いて実施される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明に従う機器の側面図を示す。
【図２】図１の詳細図を示す。
【図３】図１の詳細な上面図を示す。
【図４】図１に従う機器の上面図を示す。
【図５−ａ】ウエハの取出し又は挿入のための機器の開口のシーケンスを示す。
【図５−ｂ】ウエハの取出し又は挿入のための機器の開口のシーケンスを示す。
【図５−ｃ】ウエハの取出し又は挿入のための機器の開口のシーケンスを示す。
【図５−ｄ】ウエハの取出し又は挿入のための機器の開口のシーケンスを示す。
【図６】本発明にしたがう機器要素と本発明にしたがう器具を伴う図解フローチャートを示す。
【図７】本発明の好適な実施形態にしたがう貯蔵機器の全体図を示す。
【図８】図７に記載の例示的な実施形態にしたがって本発明にしたがう機器の詳細図を示す。
【図９】図８にしたがう詳細な斜視図を示す。
【図１０】図７にしたがう設備機器の上面図を示す。
【図１２】図１０にしたがう詳細図を示す。
【図１３】図７に記載の例示的な実施形態にしたがう貯蔵リングの斜視図を示す。
【図１４】図１３にしたがう貯蔵リングの上面図を示す。
【図１５】図１３にしたがう貯蔵リングの側面図を示す。
【図１６】ウエハが保管された状態で、図１５にしたがう詳細図を示す。
【図１７】図７に記載の実施形態にしたがう案内要素の上面図を示す。
【図１８】図１７にしたがう斜視図を示す。
【図１９】図１７にしたがう側面図を示す。
【図２０】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するシーケンスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２１】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するシーケンスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２２】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するシーケンスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２３】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するシーケンスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２４】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２５】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２６】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２７】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２８】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２９】本発明にしたがう機器の別の例示的な実施形態の斜視図を示す。
【図３０】本発明に従う貯蔵要素を伴った図２９からの積重ねを示す。
【図３１】アクセスのための貯蔵要素の分離の間の二つの異なった状態を示す。
【図３２】アクセスのための貯蔵要素の分離の間の二つの異なった状態を示す。
【図３３】アクセス状態での積重ねの斜視図を示す。
【図３４】貯蔵リング上に配置されたウエハを伴う貯蔵リングの詳細な斜視図を示す。
【図３５】本発明にしたがう輸送容器を示す。
【符号の説明】
【００５２】
１０ 貯蔵要素
１２ 積重ね
１４ 突出部
１６ 貯蔵手段
２０ クリーンエアユニット
３０ 制御盤
４０ ウエハ
５０ 器具
５２ 持上げ面
５４ 持上げ面
８０ 案内要素
１１０ カバープレート
１１１ ボトムプレート
１１２ アーム
１１４ 開口器具
１１６ 下側つかみ部
１１７ 上側つかみ部
１１８ 溝
１１９ 中央つかみ部
１２１ サブストレート
１２２ 切断部
１２３ センタリングドーム
２００ 輸送容器
２１０ カバープレート
２１１ ボトムプレート
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子部品の製造において普通に見受けられるプレート形状のサブストレート、特にディスク形状のサブストレートを貯蔵するための機器に関するものである。このタイプのサブストレートは、とりわけウエハ又はテストウエハと呼ばれている。特に、複数のサブストレートは、好ましくは、本発明にしたがう機器で水平に貯蔵される。さらに、本発明は、これら貯蔵部と関連して、そのようなサブストレートの取扱いのための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品は、通常、およそ円形の半導体ディスク、いわゆるウエハから製造される。これらサブストレートは、基本的にサブストレートが表面処理される様々な処理設備に供給されなければならない。これに関して、処理設備での処理完了後、サブストレートを別の処理設備へその後直ちに供給することができなければ、大抵は、一時的にサブストレートを貯蔵する必要がある。クリーンルーム条件又はウルトラクリーンルーム条件（以下全て、クリーンルーム条件という）下で、貯蔵機器に一時的にサブストレートを貯蔵することは一般的である。クリーンルーム条件を作り出すコストは、基本的に部屋の大きさに依存するので、通常は、サブストレートをできる限り互いの間の間隔を狭くして貯蔵する取り組みがなされる。
【０００３】
互いの間の間隔をできる限り狭くしているにもかかわらず、この場合、他のサブストレートを取出すことなしに、特定の個々のウエハを貯蔵機器から取出し可能にすることが、多くの場合必要となる。それ故、そのような貯蔵機器内部での連続したサブストレートの間の間隔は、対応するサブストレートを検知し且つ取出すためにつかみ具を挿入することが可能な、今もなお存在するアクセス間隔によって制限される。
【０００４】
処理プロセスを最適にすることを可能とするために、いわゆるテストウエハが用いられる。いかなる電子部品も、一般にこのようなテストウエハから製造されない。それらは、異なった処理パラメーターでテストウエハを処理することで、また測定に基づいて、実際に処理されるウエハに用いられる処理パラメーターの値を決定することで、処理パラメーターを実験的に最適化するために用いられるだけである。既述のウエハは別にして、このタイプのテストウエハは、本発明にとってもう一つの重要な応用分野でもある。
【０００５】
さらに、工場の内部で又は外部にでさえ、容器内部のウエハを輸送することが必要となる。このためにも、それぞれの貯蔵要素の上にサブストレートを通常は配置することが可能な複数の貯蔵要素を有する輸送容器が用いられる。このタイプの輸送容器は、例えば、いわゆる正面開口式カセット一体型保管箱（ＦＯＵＰ transfort boxes）として、多くの場合、標準化されている。ここでも、できる限り互いの間隔を狭くして、サブストレートを配置することができる必要がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
それゆえに、本発明の目的は、好ましくは水平に貯蔵される複数のサブストレートを貯蔵することが可能であり、且つ任意に、できる限りお互いの間の間隔を狭くして輸送することが可能な機器を作り出すことにある。さらに、クリーンルーム条件を、少なくとも好適な変形において、できる限り簡単な方法で機器内部に作り出すことも可能とさせる。本発明の別の態様によれば、互いの間の間隔ができる限り狭いにもかかわらず、機器からサブストレートを取出すことを可能とする器具が設けられる。さらに、本発明の別の態様では、機器からサブストレートを取出すための又は配置するための方法に関連する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本目的は、請求項１に示されるような機器によって達成される。複数の連続する貯蔵要素の間のそれぞれの間隔、好ましくは、全ての連続する貯蔵要素の間のそれぞれの間隔が、貯蔵間隔からこの目的のために増加させられるアクセス間隔まで変えることが可能な場合には、この場合は特に有利である。この結果、貯蔵状態において、連続する貯蔵要素間、よってサブストレート間でも、できる限り短い間隔、いわゆるピッチ間隔（pitch distance）を達成可能である。貯蔵間隔は、サブストレートの表面が接触しないことを保証するために従うべき最低間隔だけに、基本的に制限される。それ故、ウエハ又は他のサブストレートの非常に密集した貯蔵が、本発明で可能となる。それにもかかわらず、本発明は、閉じた貯蔵手段に収容されるそれぞれのサブストレートに、別々にアクセスすることができる長所を可能にする。
【０００８】
本発明の好ましい実施形態では、存在する全ての連続する貯蔵要素において、これらの互いの間隔をアクセス目的のために変えることが可能である。こうして、機器に貯蔵されたサブストレートそれぞれに、別々にアクセスすることができる。本間隔は、好ましくは貯蔵要素の積重ね方向に対して並行に増加させられる。基本的には、本発明にしたがう機器を、水平又は垂直方向に、あるいはそれらの間のいかなる方向にでもサブストレートを貯蔵するために構造上デザインすることができる。
【０００９】
本発明に関連して、二つの連続する貯蔵要素の間の間隔を増加するために必要とされる相対動作を、サブストレートの水平方向の場合において、上側の貯蔵要素である貯蔵要素を持上げることによって実行することは好都合である。貯蔵要素の貯蔵間隔次第で、それの上方に配置されるいくつかの又は全部の貯蔵要素を持上げることが、ここでは必要となる。
【００１０】
別の実施形態で、アクセス間隔までの貯蔵間隔における増加は、互いと分離させられる二つの貯蔵要素の下側貯蔵要素が下方に動かされることで実行される。二つの貯蔵要素（二つの貯蔵要素の間で、アクセス間隔が達成される）の下側貯蔵要素に続いていくいくつかの貯蔵要素又は全部の貯蔵要素を、同様に下方に動かすことがここでは必要となる。
【００１１】
最後に、別の代わりの実施形態で、互いに引き離れされる二つの貯蔵要素で下側貯蔵要素を下方に移動し、且つ上側貯蔵要素を上方に動かしうる。本発明に関連して、相対動作の複数の変形が、貯蔵要素を互いから分離し、少なくとも一つの貯蔵要素の貯蔵領域にアクセス可能にするためにこのように考えられる。
【００１２】
本発明にしたがうとりわけ有利な実施形態は、次々と上に直接重ねて配置された貯蔵要素を用いて達成することができる。貯蔵要素は、リング状の形態に閉じられ、且つサブストレートをそれぞれ配置することができるそれぞれ複数の支持体を有する。支持体は、例えば、少なくともおよそ円形のリングに対して上方に曲げられ、サブストレートを貯蔵するための接触面を有する。
【００１３】
したがって、貯蔵要素それら自身を用いて機器のハウジングを具体化することもまた可能である。クリーンルーム条件をハウジング内部で作り出し、且つ保つことが可能である。そのような実施形態によって、その他に必要な付加的なハウジングを避けることができる。さらに、ハウジングにおいて、その他にさらに必要なアクセス開口部（access opening）の問題と、アクセス開口部の全面で挿入され又は取出されるサブストレートの位置調整の問題を、こうして、同様に都合よく避けることができる。それにもかかわらず、本発明の特定の実施形態において、サブストレート及び／又は貯蔵要素のための挿入／取出し開口部を設けることが可能なハウジングの周りに、貯蔵要素を配置することも好都合でありえる。
【００１４】
それは、貯蔵要素の積重ねから、貯蔵要素を別々に取出すか又は挿入することが可能である場合には、ここでは特に好まれる。他の貯蔵要素が、あらかじめ又はその後、この目的のために移動させられなければならないことなしに、積重ねのいかなる位置にでも貯蔵要素を取出し又は挿入することが可能である場合には、その際には、特有の長所が達成される。これは、例えば、貯蔵要素を他の貯蔵要素と入れ替えるために、又は貯蔵要素と共にサブストレートを輸送するために用いられ、あるいは、積重ねを減少し又は増大するためにでさえ用いられる。したがって、貯蔵容量は、非常に小さな努力で個々の条件に適合させられる。これを達成するために、それらが互いと分離可能か又は分離不能な連結を有することなしに、貯蔵要素を次々と上に積重ねることが可能である場合には、好都合でありえる。
【００１５】
そのような解決で、積重ねからその貯蔵要素とともにサブストレートを取出す可能性と、処理設備又は工場の内部でそれを輸送する可能性も存在する。したがって、取扱手段とそれぞれサブストレート自身の間の必要な接触数を著しく減じることができる。このタイプの接触は、それぞれのサブストレートを傷める危険を常に持つ。
【００１６】
外側方向にハウジングをシールするために、貯蔵要素は、シール要素を備えられ、本シール要素は、貯蔵要素が互いから規定された貯蔵間隔をとるならば、貯蔵要素間で見込まれる隙間をシールする。結果として達成することが可能な外側に対する機器の有利な封入（encapsulation）は、他のシール材を用いても達成することができる。
【００１７】
重ね合わされた複数の貯蔵要素を用いて形成される塔又は積重ねは、特にアクセス間隔が二つの貯蔵要素の間に形成される時に、不安定な傾向がある。これを回避するために、機器は安定化要素を設けられる。そのような安定化要素は、例えば、貯蔵要素に取付けられ、相互の関連で貯蔵要素を正確に整列させるセンタリング要素である。貯蔵要素の隣に外側で配置され、タワーの転倒を防止する横方向案内要素は、別の可能性である。
【００１８】
本発明の別の態様にしたがって、輸送機器は、複数のサブストレートを相対的に小さな空間へ同時に輸送することが可能なそれを伴って具体化されうる。
【００１９】
既述した本発明の特性のために、本発明にしたがうそのような輸送機器で、同じ輸送容量であれば、序論で既述したいまや通例の正面開口式カセット一体型保管箱よりも著しくコンパクトな輸送容器を製造することが可能である。
【００２０】
輸送のためのコストと技術的な努力が、輸送容器の大きさとともに増大しているので、本発明で達成することが可能な、サブストレートの極めて高充填の貯蔵は、工場の外へ輸送するために設けられる輸送機器と関連して特に有利である。とはいえ、そのようなコンパクトな輸送箱の使用又は、今までと同じ寸法でサブストレートの著しく高い収容能力を有するこれら輸送箱の使用は、工場の内部でも非常に有利である。これに関連して、サブストレートともに一つの貯蔵要素だけを収容することが可能な輸送容器も有利である。搬送ベルト又は別の搬送手段上で工場内を輸送するための輸送容器を、本発明にしたがう貯蔵要素に備えてもいいし、備えなくてもよい。
【００２１】
他の有利な実施形態は、請求項、明細書及び図面から明らかである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明は、図面において全く概略的に示される例示的な実施形態に基づいて、より詳細に説明される。
【００２３】
図１で全体として１００で示される機器で、下部に置かれる貯蔵要素１０の積重ね１２が配置される（図示せず）。最下部の貯蔵リングを除いて、貯蔵リング１０のそれぞれは、積重ね領域で、その下に配置されたそれぞれの貯蔵リング１０のすぐ上に置かれている。クリーンルームが閉状態において形成されるように、上方から、下方を向いたクリーンエアの流れが、クリーンエアユニット２０から積重ね１２を通り抜ける。示された開口状態で、クリーンエアの流れは、機器内部にほこり及び粒子のない環境を保持するために用いられる。
【００２４】
貯蔵リングの積重ねを選択的な方法で開くことが可能である取扱い手段３２を、制御盤３０を経て制御することができる。ここに示された例示的な実施形態で、これは、機器と連携させられる器具５０を用いて起こる。
【００２５】
図３に示すように、ディスク形状のウエハ４０を貯蔵することができる３個の保持要素（支持具）１６が貯蔵リング１０に配置される。保持要素１６は、（貯蔵リングに対して）内側を向き、且つわずかに上方に曲げられる。これらのそれぞれは、平らで、下方に傾斜した接触面を有し、こうしてウエハ４０のための貯蔵場所を形成する。
【００２６】
図２は、貯蔵リング１０の開口状態を示す。ここで、アクセスが意図される全ての貯蔵リングは、これら貯蔵リングの上方に、所定の量だけより高く持ち上げられる。その結果、アクセス空間が形成される。しかしながら、貯蔵リング１０は、よってウエハも、このウエハが次の下のウエハに対して有する間隔が非常に狭いので、当該ウエハが、どんなことをしても下方よりつかむことができないように密集している。このような訳で、持ち上げられた部分的な積重ね１２’の下方の次の貯蔵リングも、その後又は同時に所定の量だけ持ち上げられる。この持ち上げ高さは、例えば、ウエハ４０を、曲げられた保持要素１６を通って貯蔵リングのリング形状部だけ上方に動かす高さに相当する。機器の貯蔵状態では高い充填密度であるにもかかわらず、それぞれのウエハは、この手段によって容易にアクセス可能である。図４に示されるように、対応するウエハ４０を、その取出しの後で、自動取扱器を用いて更なる取扱い方法又はプロセスへ供給することができる。
【００２７】
図５ａから図５ｄは、上述の開口手順を詳細に示す。二つの持ち上げ面５２と５４を有する器具５０は、貯蔵リングの積重ね１２の方へ特定の方位角位置（azimuthal position）に動かされ、その後、上の持ち上げ面で貯蔵リング１０ａの下方をとらえる。その後、貯蔵リング１０ａは、下の持ち上げ面が貯蔵リング１０ｂに触れるまで、特定の経路で上方に移動させられる。その後、下方の貯蔵リング１０ｂが、今度は特定の経路で持ち上げられ、それによってそれの上に置かれる全ての貯蔵リングがそれと共に更に持ち上げられる。この位置において、図５ｄから明らかなように、貯蔵リング１０ｂに置かれたウエハに、機器要素又は他のウエハから自由にアクセスすることができる。こうして、このウエハをつかみ具（gripper）６０を用いて取出すことができる。原則として、機器内部にウエハを挿入するために及び貯蔵リング１０ｂ上にウエハを保管するために、貯蔵リング１０ｂ用のアクセス空間を形成することに関して同じ方法で処理することができる。
【００２８】
示された実施形態で、器具５０は、積重ねの外周上で任意のいかなる位置をも選ぶことができるように、貯蔵要素１０の積重ね１２のまわりで回転させることができる。一方、他の実施形態において、積重ね１２を他の方法で回転又は移動させることも可能であり、器具を外周上でその位置に関して固定させること、又は小さな回転角だけで回転可能にすることも可能である。
【００２９】
ここで示された本発明にしたがう実施形態で、貯蔵リング１０の積重ね１２は、３本の垂直棒（ここでは詳細に示さず）を用いて、外側で保持されるその位置で安定させられる。これは、積重ね１２の転倒を防止する。これに代わる手段として、少なくとも１本の案内ピンで、貯蔵要素を垂直に貫いて案内することもありえる。
【００３０】
図６に示すように、突出部１４は、貯蔵リング１０で階段状に互い違いにされるので、より高い貯蔵リングの突出部のそれぞれは、例えば、突出部の幅を幾分上回って、（外周方向において）方位角方向に時計回りで互い違いにされる。本手段は、下の持ち上げ面５２が、上の持ち上げ面５４と比べて、１つの突出部の幅よりも幾分上回って左側にずらされるこの例示的な実施形態の器具５０の実施形態と連動する。
【００３１】
図７〜２８に記載の好適な実施形態で、積重ねとのかみ合い（meshing）が、ウエハ４０の取出し及び再挿入だけではなく、貯蔵リング１０の置換もまた可能となるように、横方向案内が配置される。この目的を達するために、互いから離れて置かれ、且つ貯蔵リング１０の水平な引き出しを可能にする案内要素８０が、貯蔵リング１０の両側に配置される。これらの案内要素８０は、例示的な実施形態において、回転要素又は滑動要素を設けられる。そのような機器で、設備全体を停止する必要なしに、設備の操作中でさえ同時に、保守作業を実施できるようにすることが可能である。上記保守作業は、例えば貯蔵要素を置換すること又は取出すこと、あるいは追加貯蔵要素を積重ねに与えることからなる。
【００３２】
この例示的な実施形態で、既述の拡大解決乃至展開解決（expansion solution）が使われる。この場合、機器の器具は、いずれの場合も３つの貯蔵リングと、例えば、貯蔵リング１０ｂの下に配置された貯蔵リング１０ｃとでさえかみ合う。この貯蔵リング１０ｃはそのレベルで保持されるので、自由にされたときに、応力（例えば、配置圧力によって発生させられる）では、下部にとどまる貯蔵リングの自動的な持ち上げにつながらない。
【００３３】
最後に、本発明にしたがう実施形態では、サブストレートがこのような方法で貯蔵されないか、又は、例えば基準として提示されるいわゆる“１／１ピッチ”で貯蔵要素を少しも圧縮しないこともまた可能である。その結果として、サブストレートへのアクセスは、１つ以上の隣接する貯蔵要素に対する間隔を変えることなしに可能となる。それにもかかわらず、上述の拡大乃至展開（expanding）は、下部に位置する貯蔵要素の自動的な持ち上げを防止するために、そのような配置においてまさに意味がある。
【００３４】
特に簡単な方法で、圧縮度の変更を可能とするために、両方のそれぞれの貯蔵リングに対して置かれる中間リング（図中に図示せず）を、２つの連続する貯蔵リングの間に配置することができる。貯蔵機器の内部で、連続するサブストレートの間隔を、貯蔵リングの高さを越えて変更することが可能である。この変更可能性にもかかわらず、同様の貯蔵要素を常に使用しうる。本発明にしたがう、この可能な実施形態も、本発明に関連して、貯蔵要素が完全に直接互いに続く必要が無いことを証明する。
【００３５】
図２９に示される本発明にしたがう実施形態では、貯蔵リング１０の複数の積重ね１２が設けられている。図２９に示される眺めで、個々の貯蔵リングは、それぞれの積重ね１２の形でそれら全体としてでしか示されていない。例えば一番上の貯蔵リング上に載せることができる上部カバープレート１１０を、それぞれの積重ね１２に配置することができる（図３０も参照）。さらに、積重ね１２のそれぞれは、下部ボトムプレート１１１の上にそのそれぞれの下側貯蔵リングを配置させうる。貯蔵要素に加えて、ボトムプレート１１１とカバープレート１１０は、全部で、基本的に密閉容器を形成する。
【００３６】
ボトムプレート１１１のそれぞれは、Ｚ方向に（例えば、垂直に）搬送させることが可能な心棒乃至軸に固定され、その結果として、全ての貯蔵リング１０を、Ｚ方向に２つの固定式のアーム１１２の間に、直接搬送することができる。二つのアーム１１２のそれぞれは、開口器具１１４（詳細は以下で説明する）を具備し、本開口器具を用いて、特定のサブストレート又は特定の貯蔵リング１０にアクセスするために、それぞれの積重ね１２をあらゆる任意の位置で開口することができる。別の実施形態では、開口器具を搬送することが可能であり、少なくとも１つの積重ねが、固定式で配置される。
【００３７】
ウエハの面に対して並行して回転可能な二つのアーム１１２の一つに配置される二つの開口器具のそれぞれ一方が、図３１と３２に基づいて詳細に説明される。図３２から特に明らかなように、それぞれの開口器具１１４は、下側つかみ部及び上側つかみ部１１６、１１７を有する。上側つかみ部１１７は、ここでは、複数の重ねられたつかみ要素１１７’で具体化される。連続するつかみ要素１１７’は、それら自身の間に溝１１８を形成し、その幅は、貯蔵リング１０の外周領域におけるその高さ（図３３の斜視断面図に同様に示される）よりも大きい。連続する溝１１８の間の間隔は、連続する貯蔵リング１０の間の間隔に相応するので、外周領域部を有する貯蔵リングを、それぞれの溝１１８に配置することができる。
【００３８】
原則として、下側つかみ部１１６は、同様に具体化される一方で、中間つかみ部１１９だけが、段をつけられた接触面を有する。
【００３９】
ウエハを取出すために又は挿入するために、特定の貯蔵リング１０にアクセスできるようにするならば、その時は最初に、全ての積重ね１２（図２９）が、Z方向に一緒に搬送される。したがって、アクセスを意図される貯蔵リング１０ｂは、中間つかみ部１１９も配置される同位置に、Z方向でもたらされる。引き続いて、２つのアーム１１２を積重ね１２の方へ回転させることができるので、外周部を有する貯蔵リング１０ｂは、中間つかみ部１１９の接触面上に直接配置される。この貯蔵リング１０ｂの上方に続く貯蔵リングは、上側つかみ部の溝に配置される一方、下方に続く貯蔵リング１０は下側つかみ部１１６の溝に配置される。
【００４０】
ボトムプレート１１１の領域に配置される貯蔵リング１０にアクセスするつもりならば、その時は、図３２に示されるように、ボトムプレート自身が、下側つかみ部１１６におけるその横棒（bars）に配置される。同様のことが、その外周上に相応する横棒を設けられるカバープレート１１２と上部つかみ部１１７にも当てはまる。
【００４１】
二つの連続する貯蔵リングの間のアクセス間隔を作り出すために、このために必要とされる相対動作は、積重ねだけにおいて、又は開口器具だけにおいて、又は積重ねと開口器具のそれぞれ両方の部分的な動作においてなされる。これらの可能な実施形態の一つにおいて、上側つかみ部１１７は、所定の小さな経路Ｓ１だけＺ方向に上方に動かされ、下側つかみ部１１６は、同様に所定の経路Ｓ２だけ下方に下げられる。経路Ｓ１の量は、経路Ｓ２の量よりもここでは大きい。それに反して、中間つかみ部１１９は、その最初のＺ位置に保持される。この結果として、図３２に示されるような状況が生じる。自動取扱機を用いて取扱うために、取出されるべきウエハは、現状では、次の上側の貯蔵リング１０と次の下側のウエハの両方に対して十分な間隔を有する。次の下側のウエハは、ウエハがアクセスされている貯蔵リング１０ｂの面におよそ配置される。
【００４２】
貯蔵リング１０とそれらのウエハを自由にするために又は分離するために、基本的に相対動作だけが、自由にされる貯蔵リング１０ｂとその上に配置された貯蔵リング（及び／又は状況に応じて、その下に配置される貯蔵リングも）の間でなされるので、他の可能な動作配置（motion distributions）は、以下に説明される。当然ながら、相対動作は、ここで示されたこれらの方法と異なった方法で実現しえる。
【００４３】
こうして、例えば、分離処理の間に、アクセスされるべき貯蔵リング１０ｂの上方に配置される部分的な積重ね１２’（上側の部分的な積重ね）だけを、その現在のZ位置に保持することが可能である。上側の部分的な積重ね１２’に対する間隔は、中央つかみ部１１９（よって貯蔵リング１０ｂも）及びそれの下に配置される下側の部分的な積重ね１２’’の、Z方向で下方を向いた搬送動作によって作り出される。中間つかみ部１１９の動作を、例えば、止め具との接触によって止めることができる。他方で、下側つかみ部１１６が、止め具に接触するか又は別の方法でその動作を止めるまで、貯蔵リング１０ｂの下に配置される下側の部分的な積重ね１２’’は、下側つかみ部１１６を用いてこの動作を続けることができる。したがって、貯蔵リング１０ｂに配置されるサブストレート１２１の下に、サブストレート１２１と貯蔵リング１０ｂの間でつかみ具を動かすための十分な空間も存在する。
【００４４】
別の実施形態では、上側の部分的な積重ね１２’は、今度は、上側つかみ部１１７を用いてZ位置に固定位置で保持される。例えば、ボトムプレート１１１が下方に動かされるアクセス空間は、残りの貯蔵リング１０の、Z方向において下方を向いた動作を用いて作り出される。貯蔵リングと下側の部分的な積重ねの動作経路の異なる制限を用いて、間隔がこれらの間に作り出される。
【００４５】
Z方向における下方又は上方を向いた全ての動作を、例えば、油圧駆動手段、空圧駆動手段、電気駆動手段及びバネ弾性駆動手段のような駆動手段を用いて及び／又は重力を利用することを用いて、完全に又は部分的に実施することができる。これらのタイプの駆動手段は、一つの貯蔵要素にアクセスした後で、貯蔵機器の機能上安全な閉口を可能にもする。
【００４６】
本発明にしたがうこれらの例示的な実施形態と関連して好適に用いられる貯蔵リング１０の更なる詳細が、図３３と３４から明らかになる。したがって、貯蔵リングは、およそ円形だけである。もっと正確に言えば、それらは、９０°ずつ互い違いにされ、且つ基本的に直線で走る四つの切断部１２２を有する。直線で走っているので、つかみ部の溝に又はそれらの接触面上に、より大きな接触面でこれら切断部を配置することが可能となる。
【００４７】
さらに、貯蔵リングは、できるだけ正確に貯蔵リング１０を次々と上に重ねて積重ねることを可能にするために用いられる複数のセンタリングドーム１２３を有する。この場合、センタリングドーム１２３は、積重ね方向で隣接する貯蔵リング１０のそれぞれのセンタリングドーム１２３とかみ合う。センタリングドーム１２３のおかげで、互いに正確な位置あわせのために又はボトムプレート１１１に関して正確な位置あわせのために、別途、貯蔵リングに加えて必要になるであろう手段を回避することができる。
【００４８】
図３０で示されているように、クリーンルーム条件が、少なくとも貯蔵リング１０と、下部のボトムプレート１１１に加えてカバープレート１１０からなる貯蔵容器内部に作り出すことができる。クリーンルーム条件を作り出すためにここで意図された手段は、詳細に示されない。周囲環境と比較して高い圧力下である雰囲気であって、例えば窒素雰囲気又はウルトラクリーンエア雰囲気を、これらの手段を使って貯蔵容器内部に作り出すことができる。貯蔵容器内部からの目標とされるそれぞれのガス放出を、貯蔵容器の所定の漏洩で達成することができ、外部から貯蔵容器内部への粒子の進入を防止することができる。これらの漏洩を、例えば、シールを省くことを用いて、又は貯蔵リング間の不完全なシールを用いて達成することができる。
【００４９】
図３５は、本発明にしたがう輸送容器２００を示し、本輸送容器は、次々と上に直接積重ねられて配置された貯蔵リング１０とボトムプレート２１１及びカバープレート２１０から成る。貯蔵リングは、カバープレートとボトムプレートと共に、シール要素（図示せず）を今度は有しているので、それらは、サブストレート用のシールされた輸送容器２００を形成する。輸送容器２００をロック手段（locking means）、例えば、それぞれカバープレート２１０とボトムプレート２１１の両方の周りをつかむ二つのクランプ（詳細は示さず）で、偶発的な開口から守ることができる。本発明の有利な変形において、連続する貯蔵リング１０を詳細には示さない方法で、互いに連結することができる。したがって、貯蔵リング１０の間の間隔における増加を特に簡単な方法で達成することができ、同時に、貯蔵要素間の結合を達成することができる。そのような連結は、例えば、はさみのような連結タイプでありえる。
【００５０】
本発明の変形で、外部のシール可能な輸送ボックスへ、示された輸送容器２００を入れることもまた準備しえる。この場合、外部の影響に対するシールは、外部輸送ボックスを用いて実施される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明に従う機器の側面図を示す。
【図２】図１の詳細図を示す。
【図３】図１の詳細な上面図を示す。
【図４】図１に従う機器の上面図を示す。
【図５−ａ】ウエハの取出し又は挿入のための機器の開口のシーケンスを示す。
【図５−ｂ】ウエハの取出し又は挿入のための機器の開口のシーケンスを示す。
【図５−ｃ】ウエハの取出し又は挿入のための機器の開口のシーケンスを示す。
【図５−ｄ】ウエハの取出し又は挿入のための機器の開口のシーケンスを示す。
【図６】本発明にしたがう機器要素と本発明にしたがう器具を伴う図解フローチャートを示す。
【図７】本発明の好適な実施形態にしたがう貯蔵機器の全体図を示す。
【図８】図７に記載の例示的な実施形態にしたがって本発明にしたがう機器の詳細図を示す。
【図９】図８にしたがう詳細な斜視図を示す。
【図１０】図７にしたがう設備機器の上面図を示す。
【図１２】図１０にしたがう詳細図を示す。
【図１３】図７に記載の例示的な実施形態にしたがう貯蔵リングの斜視図を示す。
【図１４】図１３にしたがう貯蔵リングの上面図を示す。
【図１５】図１３にしたがう貯蔵リングの側面図を示す。
【図１６】ウエハが保管された状態で、図１５にしたがう詳細図を示す。
【図１７】図７に記載の実施形態にしたがう案内要素の上面図を示す。
【図１８】図１７にしたがう斜視図を示す。
【図１９】図１７にしたがう側面図を示す。
【図２０】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するシーケンスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２１】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するシーケンスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２２】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するシーケンスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２３】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するシーケンスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２４】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２５】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２６】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２７】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２８】上側貯蔵リングを持ち上げ、処理されるべき貯蔵リングを自由にし、器具で同様に下方にある貯蔵リングを下方に保持するプロセスを示す。（貯蔵リングは、それぞれの場合で図示せず。）
【図２９】本発明にしたがう機器の別の例示的な実施形態の斜視図を示す。
【図３０】本発明に従う貯蔵要素を伴った図２９からの積重ねを示す。
【図３１】アクセスのための貯蔵要素の分離の間の二つの異なった状態を示す。
【図３２】アクセスのための貯蔵要素の分離の間の二つの異なった状態を示す。
【図３３】アクセス状態での積重ねの斜視図を示す。
【図３４】貯蔵リング上に配置されたウエハを伴う貯蔵リングの詳細な斜視図を示す。
【図３５】本発明にしたがう輸送容器を示す。
【符号の説明】
【００５２】
１０ 貯蔵要素
１２ 積重ね
１４ 突出部
１６ 貯蔵手段
２０ クリーンエアユニット
３０ 制御盤
４０ ウエハ
５０ 器具
５２ 持上げ面
５４ 持上げ面
８０ 案内要素
１１０ カバープレート
１１１ ボトムプレート
１１２ アーム
１１４ 開口器具
１１６ 下側つかみ部
１１７ 上側つかみ部
１１８ 溝
１１９ 中央つかみ部
１２１ サブストレート
１２２ 切断部
１２３ センタリングドーム
２００ 輸送容器
２１０ カバープレート
２１１ ボトムプレート
【特許請求の範囲】
【請求項１】
とりわけ電子部品の製造で、見受けられるようなプレート形状のサブストレート、特にウエハ又はテストウエハを貯蔵するための機器にして、
・当該機器は、積重ね方向に、複数の連続する貯蔵要素を有し、当該貯蔵要素のそれぞれは、少なくとも一つのサブストレートを収容するために設けられ、
・当該貯蔵要素のそれぞれは、サブストレートを保管するための手段を設けられ、
・当該貯蔵要素は、貯蔵要素の積重ね内部にそれぞれ貯蔵要素を配置するために設けられる積重ね領域を有する機器。
【請求項２】
貯蔵要素を、互いに直接積重ねることが可能であることを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項３】
貯蔵要素の積重ね領域で、二つの連続する貯蔵要素間に増加間隔を作り出すために貯蔵要素を取扱うことが可能であり、その結果として、一つの貯蔵要素が、サブストレートの取出し又は保管のためにアクセス可能となることを特徴とする請求項１又は２に記載の機器。
【請求項４】
増加間隔を作り出すために、二つの貯蔵要素間で相対動作を実施することが可能であることを特徴とする請求項１〜３の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項５】
貯蔵要素が、少なくともおよそ内蔵式の貯蔵リングとして具体化されることを特徴とする請求項１〜４の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項６】
保管するための手段が、内部方向且つ上方向に向いた突出部として具体化され、それを用いて、貯蔵要素のリング部の上にサブストレートを保管することが可能であることを特徴とする請求項１〜５の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項７】
突出部が、水平方向を向いた接触面を有していることを特徴とする請求項６に記載の機器。
【請求項８】
次々と上に重ねて配置された貯蔵要素が、少なくとも側方密閉空間を、好ましくは完全密閉空間を形成することを特徴とする請求項１〜７の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項９】
クリーンエアを作り出すための手段にして、クリーンルーム雰囲気を密閉空間に作り出すことが可能である手段によって特徴付けられる請求項８に記載の機器。
【請求項１０】
クリーンルーム手段で、機器内部に超過圧力を作り出すことが可能であることを特徴とする請求項９に記載の機器。
【請求項１１】
機器内部から外側への所定のガス放出のための手段によって特徴付けられる請求項８又は９に記載の機器。
【請求項１２】
積重ねられた貯蔵要素の正確な位置調整及び／又は安定性増加のための手段によって特徴付けられる請求項１〜１１の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項１３】
一つの貯蔵要素に形成される少なくとも一つのセンタリング手段にして、安定性を増加するために、積重ね方向に後続する貯蔵要素のセンタリング手段と協働するセンタリング手段によって特徴付けられる請求項１２に記載の機器。
【請求項１４】
貯蔵要素間の相対動作を作り出すための器具であって、上側貯蔵要素と接触するための第一接触面と、下側貯蔵要素と接触するための第二接触面とを設けられる器具にして、貯蔵要素間の間隔を増加させるために、少なくとも一つの貯蔵要素と少なくとも一つの接触面の間で相対動作を実施することが可能である動作手段が設けられる器具によって特徴付けられる請求項１〜１３の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項１５】
器具の二つの接触面が、貯蔵要素の積重ね方向で互い違いにされることを特徴とする請求項１４に記載の機器。
【請求項１６】
二つの接触面の相対的な可動性によって特徴付けられる請求項１４又は１５の一項又は両項に記載の機器。
【請求項１７】
器具が、ディスク形状のサブストレートの面に対して平行な面で移動可能であることを特徴とする請求項１〜１６の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項１８】
ロック可能な空間にてサブストレートを輸送するための輸送容器であって、当該輸送容器は貯蔵要素を有し、当該貯蔵要素のそれぞれに、サブストレートを配置することが可能な輸送容器にして、請求項１〜１３の少なくとも一項に記載の機器によって特徴付けられる輸送容器。
【請求項１９】
半導体部品の製造のために設けられるようなディスク形状のサブストレート、特にウエハを取扱うための方法にして、分離可能な貯蔵要素の積重ね内部で特定の貯蔵要素に、二つの接触面を有する器具を近づけるために、第一相対動作は、特定の貯蔵要素が第一接触面と接触させられ、且つ隣接する貯蔵要素が第二接触面と接触させられることで実施され、その後、第二相対動作は、積重ね方向における二つの貯蔵要素間の間隔を、器具を用いて増加させることで実施される方法。
【請求項１】
とりわけ電子部品の製造で、見受けられるようなプレート形状のサブストレート、特にウエハ又はテストウエハを貯蔵するための機器にして、
・当該機器は、積重ね方向に、複数の連続する貯蔵要素を有し、当該貯蔵要素のそれぞれは、少なくとも一つのサブストレートを収容するために設けられ、
・当該貯蔵要素のそれぞれは、サブストレートを保管するための手段を設けられ、
・当該貯蔵要素は、貯蔵要素の積重ね内部にそれぞれ貯蔵要素を配置するために設けられる積重ね領域を有する機器。
【請求項２】
貯蔵要素を、互いに直接積重ねることが可能であることを特徴とする請求項１に記載の機器。
【請求項３】
貯蔵要素の積重ね領域で、二つの連続する貯蔵要素間に増加間隔を作り出すために貯蔵要素を取扱うことが可能であり、その結果として、一つの貯蔵要素が、サブストレートの取出し又は保管のためにアクセス可能となることを特徴とする請求項１又は２に記載の機器。
【請求項４】
増加間隔を作り出すために、二つの貯蔵要素間で相対動作を実施することが可能であることを特徴とする請求項１〜３の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項５】
貯蔵要素が、少なくともおよそ内蔵式の貯蔵リングとして具体化されることを特徴とする請求項１〜４の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項６】
保管するための手段が、内部方向且つ上方向に向いた突出部として具体化され、それを用いて、貯蔵要素のリング部の上にサブストレートを保管することが可能であることを特徴とする請求項１〜５の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項７】
突出部が、水平方向を向いた接触面を有していることを特徴とする請求項６に記載の機器。
【請求項８】
次々と上に重ねて配置された貯蔵要素が、少なくとも側方密閉空間を、好ましくは完全密閉空間を形成することを特徴とする請求項１〜７の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項９】
クリーンエアを作り出すための手段にして、クリーンルーム雰囲気を密閉空間に作り出すことが可能である手段によって特徴付けられる請求項８に記載の機器。
【請求項１０】
クリーンルーム手段で、機器内部に超過圧力を作り出すことが可能であることを特徴とする請求項９に記載の機器。
【請求項１１】
機器内部から外側への所定のガス放出のための手段によって特徴付けられる請求項８又は９に記載の機器。
【請求項１２】
積重ねられた貯蔵要素の正確な位置調整及び／又は安定性増加のための手段によって特徴付けられる請求項１〜１１の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項１３】
一つの貯蔵要素に形成される少なくとも一つのセンタリング手段にして、安定性を増加するために、積重ね方向に後続する貯蔵要素のセンタリング手段と協働するセンタリング手段によって特徴付けられる請求項１２に記載の機器。
【請求項１４】
貯蔵要素間の相対動作を作り出すための器具であって、上側貯蔵要素と接触するための第一接触面と、下側貯蔵要素と接触するための第二接触面とを設けられる器具にして、貯蔵要素間の間隔を増加させるために、少なくとも一つの貯蔵要素と少なくとも一つの接触面の間で相対動作を実施することが可能である動作手段が設けられる器具によって特徴付けられる請求項１〜１３の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項１５】
器具の二つの接触面が、貯蔵要素の積重ね方向で互い違いにされることを特徴とする請求項１４に記載の機器。
【請求項１６】
二つの接触面の相対的な可動性によって特徴付けられる請求項１４又は１５の一項又は両項に記載の機器。
【請求項１７】
器具が、ディスク形状のサブストレートの面に対して平行な面で移動可能であることを特徴とする請求項１〜１６の少なくとも一項に記載の機器。
【請求項１８】
ロック可能な空間にてサブストレートを輸送するための輸送容器であって、当該輸送容器は貯蔵要素を有し、当該貯蔵要素のそれぞれに、サブストレートを配置することが可能な輸送容器にして、請求項１〜１３の少なくとも一項に記載の機器によって特徴付けられる輸送容器。
【請求項１９】
半導体部品の製造のために設けられるようなディスク形状のサブストレート、特にウエハを取扱うための方法にして、分離可能な貯蔵要素の積重ね内部で特定の貯蔵要素に、二つの接触面を有する器具を近づけるために、第一相対動作は、特定の貯蔵要素が第一接触面と接触させられ、且つ隣接する貯蔵要素が第二接触面と接触させられることで実施され、その後、第二相対動作は、積重ね方向における二つの貯蔵要素間の間隔を、器具を用いて増加させることで実施される方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図２１】
【図２２】
【図２３】
【図２４】
【図２５】
【図２６】
【図２７】
【図２８】
【図２９】
【図３０】
【図３１】
【図３２】
【図３３】
【図３４】
【図３５】
【公表番号】特表２００７−５２９１０９（Ｐ２００７−５２９１０９Ａ）
【公表日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−５１９７３９（Ｐ２００６−５１９７３９）
【出願日】平成１６年７月８日（２００４．７．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＣＨ２００４／０００４２８
【国際公開番号】ＷＯ２００５／００６４０７
【国際公開日】平成１７年１月２０日（２００５．１．２０）
【出願人】（５０６０１１６２９）テック・セム アーゲー (4)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１９年１０月１８日（２００７．１０．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年７月８日（２００４．７．８）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＣＨ２００４／０００４２８
【国際公開番号】ＷＯ２００５／００６４０７
【国際公開日】平成１７年１月２０日（２００５．１．２０）
【出願人】（５０６０１１６２９）テック・セム アーゲー (4)
【Ｆターム（参考）】
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