【課題】成膜処理の生産性の向上を図ることができ、且つキャリアの洗浄回数を減らすことができる等のキャリアの管理コストの低減に寄与する真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空処理装置は、ロードロックチャンバＬＬとプロセスチャンバＰＣの間で移送されるキャリア７と、プロセスチャンバＰＣ内に移送されたキャリア７から基板７を受け取るフック１９を備えており、基板５への真空処理はキャリア７がロードロックチャンバＬＬに退避した後に行われる。 （もっと読む）

【課題】簡単な機構で、ラックギヤとピニオンギヤとを円滑に噛み合わせることができる搬送装置、及びこれを備えた真空処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の搬送装置は、基板３を搭載して搬送軌道９上を移動するキャリア２０に設けられたラックギヤ７と、ラックギヤ７に噛合する複数のピニオンギヤ５ａ，５ｂとを備え、ラックギヤ７は、ピニオンギヤ５ａがラックギヤ７の一端で歯合するときに、ピニオンギヤ５ｂと歯合する箇所のラックギヤ７が高くなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】 FOUP固定時に被クランプ部に付与される負荷荷重が増加した場合でも該被クランプ部の変形を抑制し得るロードポート装置を提供する。
【解決手段】 FOUPの底面に対して傾斜した回転軸の周りに回動して退避位置とクランプ位置をとの両位置を取り得るクランプアームを配し、該退避位置では該クランプアームを載置台表面よりも下となるように収容し且つ該クランプ位置では載置台表面から突出して被クランプ部と係合可能となる収容凹部内に該クランプアームを収容したロードポート装置とする。 （もっと読む）

【課題】ウェハ搬送容器を外気に晒すことなく運搬可能で、ウェハ搬送容器の収容・取り出しが容易なウェハ搬送容器保護ケースを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、ウェハ搬送容器としてのＦＯＵＰ４００を収容し、積載型搬送装置によって搬送されるウェハ搬送容器保護ケースとしてのＦＯＵＰ保護ケース１００である。ＦＯＵＰ保護ケース１００は、積載型搬送装置へ積載される底板１と、底板１上に設置される防振部材２と、天面が開放された箱状であり、防振部材２を介して底板１に支持され、ウェハ搬送容器を載置して収容する下ケース４と、取っ手５１を有し、下ケース４に上方から装着されて下ケース４を密閉する上ケース５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】高温処理においても、サセプタ変形を抑制することができる基板処理技術を提供する。
【解決手段】基板が載置された載置体と、前記載置体が複数支持された載置体支持具と、前記載置体支持具が収容される反応管と、前記反応管の外側に設けられ、前記反応管内に収容された基板を加熱する加熱部とを備え、前記載置体の、前記基板と接触する面と前記載置体支持具と接触する面が、同じ粗さに表面加工されるように基板処理装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 一度に処理する被処理体の枚数が増加したとしても、弁体の昇降距離を短縮することが可能なゲートバルブを提供すること。
【解決手段】 被処理体を出し入れする複数の開口部６１ａ〜６１ｄに押圧される弁体６３と、弁体６３に設けられた押圧部６７と、開口部６１ａ〜６１ｄの開口面に対して平行にスライドするメインスライダー７０と、メインスライダー７０に設けられ、突起部７２と該突起部７２からスロープ状に傾斜する傾斜部７３とを含み、弁体６３を開口部６１ａ〜６１ｄに正対させた状態で、弁体６３の押圧部６７を押圧するカム７１と、を備え、弁体６３は、開口部６１ａ〜６１ｄを開放する開放部として機能する少なくとも１つのスリット状開口６５ａ〜６５ｃを有し、スリット状開口６５ａ〜６５ｃに隣接した部位を、開口部６１ａ〜６１ｄを閉塞する閉塞部６６ａ〜６６ｄとする。 （もっと読む）

【課題】露光用のマスクを安定に接地可能とする。
【解決手段】レチクルＲを収容するレチクルポッド２０であって、レチクルＲを収容可能なインナーポッド４１と、インナーポッド４１を収容可能なアウターポッド３９と、インナーポッド４１に設けられて、レチクルＲの接地領域８Ａに接触可能な導電性の可動な接触部１３２Ａと、インナーポッド４１のアウターポッド３９との接触部であるベースプレート５３と接触部１３２Ａとを導通する板ばね１５４とを備える。 （もっと読む）

【課題】梱包・開梱作業を容易に行うことができ、しかも、外気温が変化しても基板が汚染することを防止できる基板収納容器及び基板収納容器用梱包体を提供する。
【解決手段】基板を収納する容器本体４と、この容器本体４の開口を塞ぐ蓋体とからなる基板収納容器１であって、容器本体４の上壁７、側壁９の外面に、この外面を覆い、且つ、容器本体４の外部と内部の間における熱伝導を抑制する断熱壁３１、３２、３３を設けてなる。さらに、蓋体、背面壁８、ボトムプレート１１を覆う断熱壁３４、３５、３６を追加することで、合計６枚の断熱壁により、基板収納容器用梱包体を構成することもできる。 （もっと読む）

【課題】輸送時に基板搬送容器格納棚の分解を必要とせず、又再組立てを必要とせず、輸送コストを低減できると共に作業性の向上を図る基板処理装置を提供する。
【解決手段】複数枚の基板２１が収納される基板搬送容器９と、該基板搬送容器を搬送する基板搬送容器搬送装置１５と、該基板搬送容器搬送装置１５により搬送された複数の基板搬送容器９が格納される基板搬送容器格納棚１１とを具備し、該基板搬送容器格納棚１１を高さ方向に伸縮可能とした。 （もっと読む）

【課題】突起部によって持ち上げられた第１の半導体ウェハがウェハキャリアから落下することを抑制する。
【解決手段】架台２００は、ウェハキャリア１００を、ウェハキャリア１００の差込口が上に向く方向に保持する。架台２００には、突起部２０４が設けられている。突起部２０４は、第１の半導体ウェハ１０をウェハキャリア１００から一部がはみ出るまで押し上げる。本実施形態において突起部２０４は、第１の半導体ウェハ１０の隣に位置する第２の半導体ウェハ１０には接しない。そしてウェハ押上装置のアダプタ部材２１０は、ウェハキャリア１００の上に取り外し可能に設けられ、第１の半導体ウェハ１０のうちウェハキャリア１００からはみ出た部分を保持する。 （もっと読む）

【課題】開口角度を安定して再現でき、高いクランプ力を長期間にわたって維持することが可能で、更にクランプアームやプッシュピンの変形や劣化が起こりにくい基板クランプ装置を提供する。
【解決手段】基板の保持、解除をクランプアームの開閉によって行う基板クランプ装置であって、土台に設けられたブラケットと、ブラケット略両端に、それぞれ設けられた回転軸と、上記回転軸の一端を介して回転自在に取り付けられたクランプアーム押込み部と、上記回転軸の他の一端を介して回転自在に取り付けられたクランプ枝部と、上記クランプアーム押込み部及び上記クランプ枝部と、上記回転軸とは別の回転軸を介して取り付けられ、基板を保持するクランプアーム部と、を備えたことを特徴とする基板クランプ装置。 （もっと読む）

【課題】装置寸法の増加を抑制しつつも、収納器の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理ユニット１１と収納器収容・搬送ユニット７との間に収納器収容ユニット９を備え、搬送ロボット１９によりロードポート５と棚配列３３との間の搬送を行う。搬送ロボット３１により、棚配列３３と棚配列６９と載置部２７との間における搬送とを行う。ロードポート５と棚配列３３との間の搬送と、棚配列６９と、棚配列３３と、載置部２７との間の搬送とをほぼ並行できる。よって、ＦＯＵＰ３の搬送効率を向上させて、スループットを向上できる。その上、収納器収容・搬送ユニット７と基板処理ユニット１１との間に収納器収容ユニット９を配置するだけであり、装置寸法の増加を抑制でき、ＦＯＵＰ３の収容数を増やして装置の高スループットを生かすことができる。 （もっと読む）

【課題】蓋体の内部空間を介してＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気が基板搬送領域に混入することを抑えることができる技術を提供すること。
【解決手段】開閉ドアにより開閉される搬送口の口縁部に、ＦＯＵＰの基板取り出し口の口縁部を密着させた状態で、前記開閉ドアに設けられるパージガス吐出部を前記蓋体の前面側の開口部を介して蓋体の内部空間に進入させ、当該内部空間にパージガスを吐出し、その雰囲気を当該開口部とは異なる開口部からＦＯＵＰと前記開閉ドアとの間に形成される閉塞空間へと強制的に排出させる。それによって前記内部空間を介してＦＯＵＰの搬送領域の雰囲気が、基板搬送領域に持ち込まれることを防ぐ。 （もっと読む）

【課題】複数の処理槽のそれぞれに複数の基板を良好に一括搬送することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、搬送ロボット１０と、処理部４０とを有している。処理部４０は、複数の処理槽４１、４２を有しており、処理槽４１には処理液として洗浄液が、処理槽４２には処理液として薬液が貯留される。搬送ロボット１０は、単一の搬送ユニットとして構成されている。搬送ロボット１０は、本体部１２と、本体部１２から離隔して配置された各処理槽４１、４２に向かって伸びるアーム部１３とを有している。ここで、各処理槽４１、４２は、搬送ロボット１０の可動範囲内となるように、複数の基板の搬送空間８に配置されている。これにより、搬送ロボット１０は、複数の基板を、各処理槽４１、４２の配置によらず、任意の順番で、各処理槽４１、４２に対応して貯留された処理液に、浸漬することができる。 （もっと読む）

【課題】熱応力によって割れの危険がなく、かつ自動搬送に適したサセプタカバー、及び該サセプタカバーを備えた気相成長装置を得る。
【解決手段】本発明に係るサセプタカバーは、チャンバー２３内に公転可能に設置されると共に、薄膜を堆積させる基板２５が自転可能に載置される複数の基板載置部４７を有するサセプタ２７を備えた気相成長装置１７におけるサセプタ２７に設置されるサセプタカバー１であって、サセプタカバー１は、外形が円形であって、基板載置部４７に対応する部位に開口部５が周方向に連続して設けられてなり、隣接する開口部５の間の部位において内周側１ａと外周側１ｂに２分割されてなり、内周側１ａと外周側１ｂとが、内周部１ａ側又は外周部１ｂ側のいずれか一方を持ち上げると、他方も持ち上げられるような係合部７によって係合されてなることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】半導体製造ラインにおいて、ＦＯＵＰ内へＮ２ガスを供給して、Ｎ２ガスパージを十分に行うことができ、且つパージ時間も短くすることができるノズルユニットを提供する。
【解決手段】上部にブリージングフィルターユニットの通気開口に密着するノズル先端部３６、下部に半球面シール部３７を備えると共に、上部と下部をガス通路３８が貫通した構造のノズル３５と、上部に前記ノズル３５の半球面シール部３７を受けて保持するための凹型半球面シール部４３を備え、且つ中心にガス通路４５を備えたノズル受け４２、更に、前記ノズル３５の可動性を維持したまま、該ノズル３５をノズル受け４２に保持すべく、ノズル３５とノズル受け４２にＯリング溝４６および保持用Ｏリング４７をそれぞれ設けてＮ２ガスパージ装置におけるノズルユニットを形成する。 （もっと読む）

【課題】 基板収納容器を自動で梱包可能であり、簡単な構造で、輸送時の振動や衝撃に対して確実にウェーハを保護できる基板収納容器の輸送箱を提供する。
【解決手段】 上部に開口部を有し基板収納容器を収納可能なコンテナと、該コンテナの開口部を閉鎖する上蓋とを有し、前記コンテナの内底部には、基板収納容器を載置する支承部材が設けられ、該支承部材の上面に、基板収納容器を所定の位置に誘導する位置決め機構と、輸送時の振動を吸収するための防振部材とが設けられ、前記開口部の上縁に第一の固定手段を有し、前記上蓋が、該第一の固定手段と係合する第二の固定手段と、基板収納容器を上部から固定する手段とを有していることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】大型の平板状基板を個別に安全かつ清浄さを保ち、簡便な方法で収納・開梱するための基板収納ケースを提供すること。
【解決手段】平板状の基板を略水平に載置するための複数の基板受けピンを設け縁辺部に側壁を付設した下底部と、前記下底部の側壁と係合する縁辺部を有する蓋部と、からなる基板収納ケースであって、下底部の所定の位置に接続して基板の各辺の端部を保持するための基板保持治具を設けてあり、前記基板保持治具の内、少なくとも１コーナーを挟む２辺に関わる２つの基板保持治具が、基板の中央に向けて基板端部を押し付ける方向にスライドできるスライド式基板保持治具であり、前記スライド式基板保持治具に対向する蓋部の所定の位置に、スライド式基板保持治具をスライドさせる押し込み治具を蓋部に垂直に設け、蓋部を閉めた時に押し込み治具がスライド式基板保持治具を基板の中央方向に押し付ける機構を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハ又は基板を支持するための新規な装置を提供する。
【解決手段】基板容器は、基板を包囲するハウジングを備え、ハウジングはハウジングの包囲体の中にアクセスするための容器ドアを有する。ハウジングの中に配置された支持構造体は前記包囲体の中に延びる複数のタインを有する。タインは外縁を有する。複数のタインは水平方向に配置される。基板の張り出し部分はタインの外縁を越えて延び、基板に係合するアクセス領域を形成する。タインは基板を支持するための支持パッドを含む。タインのうちの１つの支持パッドのうちの１つは前記アクセス領域のうちの一方の側に配置され、タインのうちの１つの支持パッドのうちの他の１つは前記アクセス領域のうちの他方の側に配置される。 （もっと読む）

【課題】ワークの交換時間を短くして、装置の利用効率を上げること。
【解決手段】ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを複数用意し、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５に対して着脱可能とし、基台５に、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄの内の一つを装着してワークステージ４を構成する。ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５から分離し、例えばワークトレイ６Ａに複数のワークＷを載せて基台５上に置き、ワークＷに対して一枚毎にアライメントを行い、光照射部１からの光をマスクＭを介してワークＷに対して照射し、逐次露光処理を行う。ワークトレイ６ＡのワークＷの露光処理をしている間に、他のワークトレイ６Ｂ〜６Ｄ上に未処理のワークＷを載せる作業を行い、上記露光処理が終わると、ワークトレイ６Ａを取り外し、未処理のワークが載せられたワークトレイ６Ｂ〜６Ｄを基台５に載せて露光処理を行う。また、同時にワークトレイ６Ａから露光済みのワークＷを回収する。 （もっと読む）