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Fターム[5F031JA15]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 検出 (10,411) | 手段(センサ) (4,555) | 検出時に検出対象物とセンサが相対的に移動 (857) | ウエハ等の検出対象物が回転 (150)

Fターム[5F031JA15]に分類される特許

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【課題】被搬送物に収納された平板状部材の収納状態を精度良く検出することができる搬送車を提供する。
【解決手段】搬送車1は、所定の方向に沿って走行可能に設けられた走行台車3と、走行台車3に対して上下方向の軸中心に回転可能に設けられたターンテーブル9と、ターンテーブル9に設置され、カセットWを載置すると共に、カセットWの移動を行う移載装置11と、カセットWにおけるガラス基板Gの収納状態を検出光Lにより検出すると共に、その光軸方向が走行台車3の走行方向に沿い且つターンテーブル9と伴に回転しない位置に設置されたマッピングセンサ13と、移載装置11によりカセットWを取り込み、ターンテーブル9を回転させてカセットWを回転させた後に、マッピングセンサ13がカセットWにおけるガラス基板Gの収納状態を検出するように制御するコントローラ15とを備える。 (もっと読む)


【課題】周縁部に少なくとも2つの直線部が形成される略円形の基板を精度良く位置合わせすることが可能な基板位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】周縁部に少なくとも2つの直線部が形成される概ね円形の基板を位置合わせする基板位置合わせ方法であって、基板を保持して回転する保持回転部により前記基板を自転させながら、前記基板の周縁部に向けて発せられた光を受光した受光部から信号を取得し、取得した信号の強度と前記基板の回転角度とを関連付ける工程と、前記信号の強度の変化に基づいて、前記2つの直線部に対応すべき2つの回転角度区間を検出する工程と、前記信号の強度に関連付けられた前記回転角度に基づいて、前記2つの回転角度区間の角度差を求める工程と、前記角度差が所定の範囲内に収まるか否かを判定する工程と、前記判定する工程において前記角度差が所定の範囲内に収まると判定された場合に、前記2つの回転角度区間が、対応する前記2つの直線部に相当すると決定する工程とを含む基板位置合わせ方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理装置において、シングルアーム型の搬送装置を採用しつつ高スループットを実現する。
【解決手段】ドライエッチング装置1の搬送装置15は、処理前のトレイ3をストック部13のカセット62の主棚部67b,68bから回転ステージ33に搬送し、回転ステージ33でのアラインメント処理後のトレイ3をカセット62の仮置き棚部67c,68cを経てプラズマ処理部11へ搬送する。また、搬送装置15は、処理後のトレイ3をプラズマ処理部11からストック部13のカセット62の主棚部67b,68bに搬送する。 (もっと読む)


【課題】真空処理室に設けられる基板載置台の表面部の状態の確認や当該表面部の交換を行うことによる真空処理の停止時間を短くすると共に、前記表面部の状態を精度高く管理すること。
【解決手段】基板が搬送される常圧雰囲気の常圧搬送室と、常圧搬送室とロードロック室を介して接続される真空処理室と、前記真空処理室に設けられ、本体部と、当該本体部に対して着脱自在な表面部とを有する基板載置台と、前記ロードロック室または常圧搬送室に設けられ、前記表面部を収納するための保管部と、常圧搬送室からロードロック室を介して真空処理室へ基板を搬送し、また前記保管部と前記真空処理室の本体部との間で前記表面部を搬送するための搬送機構と、を備えるように基板処理装置を構成する。これによって真空処理室の大気開放を防ぐと共に表面部の状態の確認が容易になるので当該表面部を精度高く管理することができる。 (もっと読む)


【課題】サセプタの交換の際にサセプタの位置ずれの問題が生じない気相成長装置を得る。
【解決手段】本発明に係る気相成長装置は、サセプタ3が着脱可能に設置されて気相成長を行う反応炉5と、サセプタ3を搬送する搬送ロボット7と、搬送ロボット7及び反応炉5が収容されるグローボックス9と、グローボックス9内に設置されてサセプタ3の交換時にサセプタ3を一時的に載置する交換テーブル11と、グローボックス9の側壁に設けられてサセプタ3の交換を行う交換ボックス13とを備えた気相成長装置1であって、交換テーブル11は、サセプタ3が載置されると回転して所定の回転位置で停止することでサセプタ3の回転方向の位置を決める位置決め装置15を備えてなることを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】スループットを低下させることなく、時間のロス無しに基板のアライメントを可能とした基板処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の基板処理装置は、基板2を出し入れする仕込/取出室3と、前記基板に対して所定の真空処理を行う処理室と、前記仕込/取出室と前記処理室との間における前記基板の受け渡しを行う搬送室と、を備えた基板処理装置であって、前記仕込/取出室は、真空排気可能なチャンバ11と、前記チャンバ内に配され、前記基板が載置される支持部12と、前記支持部上に載置された前記基板の位置ずれ量を検出する測定部と、前記測定部によって検出された前記基板の位置ずれ量に応じて、前記基板の位置を修正するアライメント部と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板を押圧する際の荷重を適切に制御し、基板同士の接合を適切に行う。
【解決手段】接合装置は、下面に上ウェハWを吸着保持する上部チャック230と、上部チャック230の下方に設けられ、上面に下ウェハWを載置して吸着保持する下部チャック231と、を有している。上部チャック230には、上ウェハWの中心部を押圧する押動部材250が設けられている。押動部材250は、上ウェハWの中心部と当接して当該上ウェハWの中心部にかかる荷重を制御するアクチュエータ部251と、アクチュエータ部251を鉛直方向に移動させるシリンダ部252とを有している。アクチュエータ部251には、当該アクチュエータ部251に対して所定の圧力の空気を供給する電空レギュレータが設けられている。 (もっと読む)


【課題】装置の小型化、制御の簡略化を図ることができるようにすること。
【解決手段】アライメント装置10は、半導体ウエハWを支持する支持手段12と、この支持手段12上の半導体ウエハWの外方に位置して面方向の移動を規制可能なガイド手段16と、半導体ウエハWを浮上させる浮上手段14と、半導体ウエハWと支持手段12とを相対変位させる変位手段15と、半導体ウエハWのVノッチNの位置を検出する検出手段13とを備えて構成されている。支持手段12に支持された半導体ウエハWを浮上させてから半導体ウエハWと支持手段12とを相対変位させることで、VノッチNと支持手段12等との重なりを解消することができる。 (もっと読む)


【課題】板状部材を処理する効率を向上することができるようにすること。
【解決手段】支持装置10は、半導体ウエハWが載置される載置面16を有する載置手段11と、半導体ウエハWの外縁側を検査する検査手段12と、半導体ウエハWの外縁に当接可能な複数の当接手段22と、当接手段22を回転して半導体ウエハWを周方向に回転可能な回動モータ23と、載置面16と平行な方向に当接手段22を移動可能な移動手段26とを備えて構成されている。各当接手段22は、回動モータ23を介して回転することにより、半導体ウエハWを周方向に回転すると同時に、半導体ウエハWを載置面16に離間接近する方向に移動可能に設けられている。 (もっと読む)


【課題】ワーク厚みのバラつきや樹脂の量の増減にかかわらず、樹脂を適切に押し広げること。
【解決手段】本実施の形態に係る樹脂塗布装置1は、ステージ602の上面に供給された液状樹脂Lを押圧部604における押圧面634に保持したワークWで上から押圧し液状樹脂LをワークW下面に広げる樹脂塗布装置1であって、押圧部604には、移動部606によるワークWのステージ602への接近によってワークW下面に液状樹脂Lが押し広げられる際に押圧面634が受ける圧力を検出する圧力センサ633が備えられ、制御部は圧力センサ633が検出した圧力に基づいて移動部606の動作を制御する構成とした。 (もっと読む)


【課題】位置センサを備えることなく押圧手段を所定位置にセットアップでき、装置全体にかかるコストを低減すること。
【解決手段】本実施の形態に係るワーク保持装置は、気体供給部637によって供給される気体を吸引口から噴出しながら保持部(保持板624)とステージ602との間の距離を変化させ、このときの圧力変化のマップを圧力センサ633によって検出し、圧力センサ633の検出する圧力の値と前記マップに基づいて保持部とステージ602との間の距離を算出する構成とした。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェハ又は基板を支持するための新規な装置を提供する。
【解決手段】基板容器は、基板を包囲するハウジングを備え、ハウジングはハウジングの包囲体の中にアクセスするための容器ドアを有する。ハウジングの中に配置された支持構造体は前記包囲体の中に延びる複数のタインを有する。タインは外縁を有する。複数のタインは水平方向に配置される。基板の張り出し部分はタインの外縁を越えて延び、基板に係合するアクセス領域を形成する。タインは基板を支持するための支持パッドを含む。タインのうちの1つの支持パッドのうちの1つは前記アクセス領域のうちの一方の側に配置され、タインのうちの1つの支持パッドのうちの他の1つは前記アクセス領域のうちの他方の側に配置される。 (もっと読む)


【課題】ワーク内部にレーザー光線を集光して改質層を形成する加工装置において、厚さが規格外のワークが搬入されたことを加工前に検出する。
【解決手段】ワーク1を保持手段40に搬入して保持した状態で、光学式の測定手段70により、ワーク1の上面1aの高さ位置を測定する第一の測定工程と基準面に設定した保護テープ10の粘着面10aの高さ位置を測定する第二の測定工程とを行い、第一の測定工程と第二の測定工程とによって得られた値の差分によってワーク1の上面1aから基準面までの距離を検出し、該距離に基づいて、搬入されたワーク1の厚さが規格外であるか否かを判断する。 (もっと読む)


【課題】スループットを向上させることが可能なアライメント装置及び半導体製造装置を提供する。
【解決手段】アライメント装置30は、上から順に配置され昇降する第1〜第4の基板支持部52a〜52dと、第1〜第3の基板を回転させる第1〜第3の吸着部76a〜76cを有し、アライメント位置へと進入する進退部56と、第4の基板を回転させる第4の吸着部76dを有する基部64と、第1〜第4の基板の端部が突き当てられる被突き当て部及び第1〜第4の基板を被突き当て部に対して突き当てる突き当て部を有する基板位置決め部58と、第1〜第4の基板の切り欠き92の位置をそれぞれ検出する第1〜第4の検出器62a〜62dとを備え、第1〜第4の基板支持部52a〜52dのうち、いずれか2つの第1の組及び残りの第2の組がそれぞれ共に昇降する。 (もっと読む)


【課題】保持テーブルの回転によるワークの位置ずれを抑制でき、ワークの位置を精度よく検出できる研削装置を提供すること。
【解決手段】研削装置の検出手段における保持テーブル8aは、上面中央に吸引口8lを有する基台部8gと、基台部8g上に吸引口8lを囲むように配設された環状部材8hと、基台部8g上の環状部材8hの内側に配設された中央部材8iと、を有し、環状部材8hは非通気性と弾性とを有しワークW表面に貼着された保護テープの凹凸を吸収できる厚みであり、中央部材8iは通気性と弾性とを有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】基板が収容されるチャンバに対して基板位置検出装置を高い位置決め精度で取り付けなくても、基板の位置を高い精度で検出できる基板位置検出装置を提供する。
【解決手段】サセプタを動かして基板載置部を撮像装置の撮像領域に位置させる工程と、処理容器内において撮像装置の撮像領域内に位置するように設けられる2つの第1位置検出マークであって、2つの第1位置検出マークの第1垂直二等分線がサセプタの回転中心を通る2つの第1位置検出マークを検出する工程と、サセプタにおいて基板載置部に対して設けられる2つの第2位置検出マークであって、2つの第2位置検出マークの第2垂直二等分線がサセプタの回転中心と基板載置部の中心とを通る2つの第2位置検出マークを検出する工程と、検出した2つの第1位置検出マーク及び2つの第2位置検出マークに基づいて基板載置部が所定の範囲に位置するかを判定する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】ウエハ表面から保護テープを精度よく剥離する保護テープ剥離方法および保護テープ剥離装置を提供する。
【解決手段】バックグラインド域を囲焼する環状凸部を裏面に残存形成されたウエハWの当該環状凸部を第1保持テーブル6aで吸着保持するとともに、環状凸部の内壁に近接する外周壁を有する第2保持テーブル6bを環状凸部内側の扁平凹部に挿入し、その扁平面を吸着保持した状態で、ウエハWの表面の保護テープに剥離用の粘着テープTを貼付け、当該粘着テープTを剥離することにより,ウエハWの表面から保護テープを一体にして剥離する。 (もっと読む)


【課題】作業員の作業負担を軽減して、位置合わせ作業に要する時間を短くすると共に、十分な位置合わせ精度を得ることができる位置合わせ方法を提供すること。
【解決手段】研削装置1の稼働前のメンテナンス時に、搬入搬出アーム13の搬入動作を調整する方法であって、搬入搬出アーム13の搬入動作の開始点をカセット6内のウェーハWの任意の位置に合わせ、終点位置を仮置きテーブル35の中心位置に合わせるステップと、搬入搬出アーム13により仮置きテーブル35上に搬入されたウェーハWの中心位置を検出し、当該ウェーハWの中心位置と仮置きテーブル35の中心位置とから仮置きテーブル35に対するウェーハWの位置ズレ量を算出するステップと、ウェーハWの位置ズレ量に基づいて搬入動作の始点位置を、カセット6内のウェーハWの任意の位置から中心位置に補正するステップとを有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】処理済ウエハを搬送するときにも未処理ウエハより速度を上げて搬送可能とし,これによって従来以上に処理全体のスループットを向上させる。
【解決手段】ローダアーム機構200のピックを基板保持可能範囲を拡大して位置ずれが発生してもウエハを保持できるようにし,トランスファアーム機構300を搬送制御する際,そのピック上に未処理ウエハWがあるか否かを判断し,未処理ウエハなしと判断した場合は,ピック上にウエハなしの場合のみならず,処理済ウエハありの場合についても,ピック上に未処理ウエハありと判断した場合よりも速い速度で搬送制御する。 (もっと読む)


【課題】表面に露出する発泡して接着力を失うとともに、表面に凹凸のある両面粘着テープを半導体ウエハの表面から精度よく剥離除去する両面粘着テープ剥離方法および両面粘着テープ剥離装置を提供する。
【解決手段】両面粘着テープ3を介して支持板の貼り合わされたウエハ1に対して当該両面粘着テープ3を加熱し、支持板側の加熱剥離性の粘着層を発泡膨張させて接着力を失わせて支持板を分離した後、吸引孔33の設けられた剥離ローラ24を両面粘着テープ3に吸引しながら転動させ、ウエハ1から両面粘着テープ3を剥離する。 (もっと読む)


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