【課題】基板をステージ装置に吊り下げ保持する場合において、静電チャックから確実に基板を搬出できる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置は、ステージ１２に配置され基板５を保持する吸着面を下向きに有するチャック２と、前記チャック２の下側で前記基板５の搬入または搬出を行う搬送アーム１と、前記基板５を支持する支持片１４Ｃを前記吸着面の下側に備える基板支持部３と、前記基板支持部３を昇降させる駆動機構４と、を有し、前記基板支持部３は、前記搬入時において前記搬送アーム１から前記基板５を前記支持片１４Ｃですくい上げて前記吸着面に当接させ、前記搬出時において前記チャック２から離脱した前記基板５を前記支持片１４Ｃで支持して前記搬送アーム１に受け渡す。 （もっと読む）

【課題】 被処理体が熱伸縮しても面内温度の均一性を高く維持しつつパーティクルの発生を抑制することが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】 被処理体Ｗに対して所定の熱処理を施す熱処理装置４において、前記被処理体を収容可能になされた処理容器６と、前記被処理体を加熱する加熱手段２６と、前記処理容器内へ所定のガスを供給するガス供給手段１０と、前記処理容器内の雰囲気を排気する排気手段１８と、前記被処理体を支持する支持手段３６とを備え、前記支持手段は、前記被処理体の裏面の周辺部と接触して支持する少なくとも３本の支持ピン部４６を有すと共に、前記支持ピン部の先端の接触面の面積は、０．０７〜０．６４ｍｍ^２ の範囲内に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、露光装置においてレチクル，ウエハ，マスク等の基板を搬送する基板搬送装置に関し、基板をステージ装置に吊り下げて保持する場合において、基板をチャックに確実にロードまたはアンロードすることを目的とする。
【解決手段】 ステージに配置され基板を吸着する吸着面を下向きに有するチャックと、前記チャックの下側から前記基板の搬入または搬出を行う搬送アームと、前記搬送アーム側に配置され前記基板の前記チャックへの吸着または離脱時に前記基板を前記吸着面に弾性的に押圧する付勢手段とを有することを特徴とする。また、前記チャックに配置され前記基板の前記チャックからの離脱時に前記基板を前記搬送アーム側に押し出す押出機構を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
上下２段に基板が保持されている状態でも、上下の基板の有無をそれぞれ個別に検出可能とする。
【解決手段】
上下２段に基板保持棚４，５を有し、該基板保持棚にそれぞれ基板３５が保持される基板保持台３と、上段の基板保持棚の上方に配置され検出光１１を射出して反射光の有無を検出して上段の基板保持棚の基板の有無を検出する上光センサ８と、下段の基板保持棚の下方に配置され検出光５６を射出して反射光の有無を検出して下段の基板保持棚の基板の有無を検出する下光センサ４７とを具備する。
（もっと読む）

【課題】 インライン型半導体製造装置を採用して、基板処理室内の基板滞留を防止しつつ、高スループット化を図る。
【解決手段】 インライン型半導体製造装置は、真空ロボットＶＲを有する複数の基板処理モジュールＭＤと、１台の大気ロボットＡＲを有する大気ローダＬＭとを備える。基板処理モジュールは、プロセスチャンバＰＭとバキュームロックチャンバＶＬとからなる。制御手段ＣＮＴは、チャンバＰＭからチャンバＶＬに処理済みウェハが搬出されたら、チャンバＶＬが真空圧から大気圧に戻される工程と並行して、ロードポートＬＰから未処理ウェハを大気ローダＬＭに搬出させ、アライナユニットＡＵでアライメントを行わせ、チャンバＶＬの前で待機させる。処理済みウェハが冷却完了したら、待機させていた未処理ウェハをチャンバＶＬに搬入させ、処理済みウェハをロードポートＬＰに搬出させるよう制御する。 （もっと読む）

基板搬送装置は駆動セクションと該駆動セクションに作動自在に結合されたスカラアームとを有し、該駆動セクションは該スカラアームを作動する。該スカラアームは上方アームと少なくとも１つの前方アームとを有している。該前方アームは該上方アームに作動自在に搭載されてその上に基板を保持することが可能である。該上方アームは実質的に剛性であって該上方アームの所定の形態の変更を調整することが可能である。
（もっと読む）

本発明は、半導体製造装置内でウエハを配列するものである。特に、本発明の１以上の特徴は、ウエハを配列装置内で適切に方向付けることを可能とする、ウエハ上に配列されたノッチのような、配列マーキングを迅速にかつ効率的に見出すことに関連する。従来のシステムのようでなく、上記ノッチは、ウエハを確実に保持せず、また回転せずに、設けられる。裏側汚染に相当する照射は、それによって軽減され、また、ウエハを配置することに関連する複雑さやコストは、それによって減少する。
（もっと読む）

【課題】
従来技術による保管装置の荷物搬入出用ポートは、保管棚部に隣接した専用スペースを設けて設置されるため、保管棚部から突出し、ポートの上方および下方には無駄空間が形成される。
【解決手段】
ストッカ１の側面にポート２を設け、ストッカ１へのＦＯＵＰ４の搬入出はこのポート２を介して実行する。ポート２の上方および下方にはＦＯＵＰ収納用棚セグメント３３が設けられおり、ポート２は見掛け上、棚セグメント３３の1つがポートに置換されただけの様相をなし、ポートとしての突出部が無い。
ポート２は内側面シャッタ機構８０、外側面シャッタ機構８１とＦＯＵＰを載置するステージ３０より構成される。内側面シャッタ機構８０はシート部材１１で構成される内側シャッタの開閉動作を司り、外側面シャッタ機構８１はシート部材２１で構成される外側シャッタの開閉動作を司る。 （もっと読む）

イオンビーム注入装置は、ビームラインに沿って移動するイオンビームを発生させるためのイオンビーム源と、イオンビームと交差するように加工物が配置されて、イオンビームによって加工物の表面にイオンを注入するための真空室、即ち、注入チャンバーとを含む。さらに、イオンビーム注入装置は、注入チャンバーに連結され、加工物24を支持する加工物支持構造体100を含む。加工物支持構造体は、加工物24を支持するための回転可能な受け台204を含む静電チャック202を有する。さらに、加工物支持構造体は、受け台に連結されて回転可能な第１リール262と、第１リールに連結された冷却ラインおよび電気導体等の設備を担持する屈曲性の中空コードとを含む。その結果、受け台が第１方向に回転すると、第１リールの回りに巻き取られる屈曲可能なコードの長さが増加し、また、受け台が第１方向と反対の方向に回転するとき、第１リールの巻き取られる屈曲可能なコードの長さが減少する。
（もっと読む）

投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送装置は、前記基板を支持する基板支持部材と、前記基板支持部材と、前記基板の裏面のうち少なくとも一部の領域との少なくとも一方に付着した前記液体を除去する液体除去機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】カセット内のウェハの情報を収集するための画像センサを備える撮像システムを提供すること。
【解決手段】カセット内のウェハが、カセットを開放する必要なくマッピングされる。カセットは、特定のタイプの放射に対して少なくとも部分的に透過性である。放射源が、カセットの透過性または透明な部分を通ってカセット内に方向付けられ、前記放射に対して感受性の高い画像センサが、カセットの内部のウェハから反射された放射を検知する。第２の放射源および第２のカメラが、好ましくは、異なる角度から追加のウェハの画像のために提供される。これらの画像を処理することによって、ウェハの特定の方向おおよびカセットの装填状態を判定することができる。 （もっと読む）

一般的に、第１の態様において、本発明の特徴は、ステージ上のアライメント・マークの箇所を決定するための方法であって、干渉計とミラーとの間の経路に沿って測定ビームを送ることであって、少なくとも干渉計またはミラーがステージ上に載置される、測定ビームを送ること、測定ビームを他のビームと組み合わせて、ステージの箇所についての情報を含む出力ビームを生成すること、出力ビームから、第１の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_１を測定すること、第１の測定軸に実質的に平行な第２の測定軸に沿って、ステージの箇所ｘ_２を測定すること、ミラーの表面変化を異なる空間周波数に対して特徴付ける所定の情報から補正項Ψ_３を計算することであって、補正項に対する異なる空間周波数からの寄与を、異なる仕方で重み付けする、補正項Ψ_３を計算すること、第１の測定軸に平行な第３の軸に沿って、アライメント・マークの箇所を、ｘ_１、ｘ_２、および補正項に基づいて決定すること、を含む方法である。
（もっと読む）

半導体ウェーハを取り扱ういろいろなエンドエフェクタの設計が開示されている。例えば、比較的低温でウェーハを取り扱うエンドエフェクタが、比較的高温でウェーハを取り扱うエンドエフェクタとともに開示されている。いずれのエンドエフェクタも、ウェーハの縁部で該ウェーハに単に接触するように構成されている、独自に設計された支持部材を含んでいる。エンドエフェクタは、また、ウェーじゃ検出システムを含み得る。比較的低温でウェーハを取り扱うエンドエフェクタは、また、ウェーハを位置決めするばかりでなく、エンドエフェクタに取り付けられているロボット・アームにより引き起こされるエンドエフェクタの加速または減速中、エンドエフェクタ上のウェーハを保持するのに使用される押し装置を含み得る。設計されているように、エンドエフェクタは、非常に薄い外形を有し、簡単に操縦しやすいエンドエフェクタを作り得る。

（もっと読む）

ウエハを主清浄ステーションへと搬送する複数の搬送ローラを備えた搬送装置と、ウエハを搬送する搬送ローラと清浄する清浄ローラとを備え、該清浄ローラ組に清浄用媒体を供給する供給源が設けられた主清浄ステーションと、ロボットがウエハを取り上げて乾燥ステーションへと搬送する取り出しステーションと、主清浄化ステーションと取り出しステーションとの間の水クッション搬送ラインと、主清浄ステーションと取り出しステーションとの間に位置する停止ステーションと、搬送装置の搬送ローラの速度および主清浄ステーションの搬送ローラ組の速度の速度比を予め設定し、停止ステーションにウエハが存在しなくなるまでは供給ステーションへの搬送を許さず、取り出しステーションにウエハが存在しない場合にのみ、ウエハを取り出しステーションへと解放する制御装置と、を備えることを特徴とするＣＭＰプロセスを用いたウエハ清浄装置。
（もっと読む）

【課題】移載機ハンドの移載ポートに対する正確な移載位置を、人間の感覚に頼ることなく短時間で教示することができる無人搬送車の移載機ハンドのティーチング方法を提供すること。
【解決手段】移載機ハンドＨの移載機ポート１に対する移載位置を教示するに際し、移載機ハンドＨ側に所定の距離でターゲットＴを検出する位置検出センサ６を配設するとともに、移載機ポート１側に移載位置に合わせてターゲットＴを配設し、前記位置検出センサ６によってターゲットＴを検出することにより移載位置を教示する。 （もっと読む）

【課題】基板を処理する処理槽と、処理槽に沿って設けられた搬送路と、搬送路上を移動して基板を搬送する基板搬送装置とからなる基板処理装置で、基板処理装置の設置面積を拡大することなく、基板処理のスループットを向上することが可能な基板処理装置及び基板処理装置における基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】同一搬送路上を移動可能な少なくとも２以上の基板搬送装置を具備し、基板を搬送する前記基板搬送装置は、互いに複数の処理槽を重複して移動可能するようにする。また、スケジューラにより生成されたスケジューリングデータで同時に複数の処理槽での基板搬送が生じた場合には、基板搬送分担処理条件と照合してスケジューリングデータを決定するようにする。 （もっと読む）

【課題】トレイとテストヘッドの構成を簡略化し、消耗部品を排除した搬送装置を実現する。
【解決手段】検査対象デバイスをトレイに収納し、このトレイをソケットがある位置まで搬送し、検査対象デバイスをソケットと接続される位置に位置決めする搬送装置において、トレイとソケットにアライメントマークをそれぞれ付け、これらのアライメントマークの位置を撮像手段で画像認識することによって非接触でトレイとテストヘッド間の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】 リニア増幅器とＰＷＭ増幅器を効率よく組み合わせた出力電流制御装置、この出力電流制御装置を使用したステージ装置および露光装置を提供すること。
【解決手段】 出力電流に応じてリニア増幅器１０５とＰＷＭ増幅器１０４とを使い分け、出力電流検出器Ｒ５、１０７と比較器１０６とを共通に使用する。 （もっと読む）

【課題】 ティーチング基準位置における位置合わせを、精度良く且つ効率的に行なうことができる搬送システムの搬送位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】 被搬送体Ｗを保持するフォーク４８を有する搬送アーム部２０と、この搬送アーム部を移動させる移動機構３０と、搬送アーム部の移動エリア内に配置された少なくとも１つ以上の容器載置台２４と、被搬送体の偏心量と偏心方向と切り欠き目印６４の回転位置を光学的センサ６２により検出する方向位置決め装置３６と、全体の動作を制御する制御部７２とを備えて位置合わせを行なう搬送システムの搬送位置合わせ方法において、マニュアルにより被搬送体を正確に位置合わせして載置したり、被搬送体を受け取りに行き、これを方向位置決め装置に搬送してその偏心量或いは切り欠き目印の回転誤差を求めることにより真に正しい適正位置座標を得ることができる。 （もっと読む）