【課題】バラスト抵抗の幅を広げることなく、バラスト抵抗の許容電流量を大きくする
【解決手段】バラスト抵抗２００を構成する抵抗２１０の少なくとも一つは、第１抵抗２１２及び第２抵抗２１４を有している。第１抵抗２１２は、保護素子１００内で電流が流れる方向である第１の方向（図１ではＸ方向）に延伸している。第２抵抗２１４は、第１抵抗２１２に並列に接続され、第１の方向に延伸している。そして第２抵抗２１４は、第１抵抗２１２と同一直線上に位置している。 （もっと読む）

【課題】ＶＩＡホールを高密度に形成したとしても半導体素子が割れやすくなるのを防止し、素子の形成歩留りを向上させることができる半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置は、基板１１０と、基板の第１表面に配置され、それぞれ複数のフィンガーを有するゲート電極１２４、ソース電極１２０およびドレイン電極１２２と、ソース電極１２０の下部に配置されたＶＩＡホールＳＣと、基板の第１表面とは反対側の第２表面に配置され、ＶＩＡホールを介してソース電極に接続された接地電極とを備え、ＶＩＡホールＳＣは、基板１１０を形成する化合物半導体結晶のへき開方向とは異なる方向に沿って配置される。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路における抵抗の比精度の改善にある。
【解決手段】第１抵抗Ｒ１の第１抵抗体１０は、長さＬ、幅Ｗを有する。第１コンタクト１２ａは、第１抵抗体１０の一端に形成され、第２コンタクト１２ｂは、第１抵抗体１０の他端に形成される。第２抵抗Ｒ２の第２抵抗体１０は、長さＬ／２、幅Ｗを有する。第２抵抗体１０の一端には、Ｎ個の第１コンタクト１２ａが形成され、第２抵抗体１０の他端には、Ｎ個の第２コンタクト１２ｂが形成される。 （もっと読む）

【課題】パワー半導体素子において、周辺の電界強度を緩和する構造を小さな面積で実現する。
【解決手段】周辺領域Ｑにおいては、半導体層との間に周辺層間絶縁層（絶縁層）を介して複数の多結晶シリコン層７０が、ソース電極３０から端部ドレイン電極４１の間にかけて設けられる。多結晶シリコン層７０には、その長手方向が水平方向から傾斜した（傾斜角θ、０＜θ＜９０°）傾斜部が設けられている。多結晶シリコン層７０の傾斜部においては、ｐ型領域７１と、ｎ型領域７２とが長手方向に交互に多数形成されている。 （もっと読む）

【課題】インダクタの下方の層間絶縁膜への水の浸入を抑制し、かつ、インダクタ性能の低下を抑制する。
【解決手段】半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板上に設けられた層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜の上部に設けられたインダクタと、前記半導体基板上に設けられ、前記インダクタの下方の前記層間絶縁膜を前記半導体基板の平面方向で囲む第一の金属壁と、前記半導体基板上に設けられ、前記第一の金属壁で囲まれた領域の外側の前記層間絶縁膜を前記半導体基板の平面方向で挟む一対の第二の金属壁と、を備え、前記第一の金属壁は、前記第一の金属壁の両端部を非接触の状態とする開口を有し、前記第二の金属壁は、前記第一の金属壁の両端部にそれぞれの一端を連結するとともに、前記第一の金属壁で囲まれた領域の外側の位置に開口を有する。 （もっと読む）

【課題】 より簡易な設計手法で作製可能なテスト回路を提供する。
【解決手段】 テスト回路１００は、基板と、基板上に形成された配線部及び被試験デバイス部１０とを備える構成とする。テスト回路１００では、被試験デバイス本体のパターン形成面内における回転中心位置Ｏと複数の接続電極１３ａ〜１３ｄのそれぞれとを結ぶ直線Ｌ１の延在方向が、配線２１の延在方向に対して所定の角度で傾いている。さらに、被試験デバイス本体及び複数の接続電極１３ａ〜１３ｄをパターン形成面内で９０度回転させた際にも、複数の接続電極１３ａ〜１３ｄ及び複数の配線２１〜２４間の接続が維持されるような位置に複数の接続電極１３ａ〜１３ｄが配置される。 （もっと読む）

【課題】Ｙ方向に隣接する２つの回路ブロックに対しＸ方向に延在する制御線からタイミング信号を同時に供給する。
【解決手段】例えば、Ｙ方向に配列されたポートＰＴ１，ＰＴ２と、ポートＰＴ１，ＰＴ２にそれぞれ接続された回路Ｃ１，Ｃ２と、Ｘ方向に延在し回路Ｃ１，Ｃ２それぞれに含まれるサブ回路ＳＣ１，ＳＣ２を共通に制御する制御線ＣＴＬ１を備える。サブ回路ＳＣ１，ＳＣ２のＹ方向における中間座標である座標Ｙ１は、ポートＰＴ１，ＰＴ２のＹ方向における中間座標Ｙ０とは異なる。制御線ＣＴＬ１からサブ回路ＳＣ１，ＳＣ２へのＹ方向における距離は互いに等しい。本発明によれば回路Ｃ１，Ｃ２の動作タイミングを正確に一致させることが可能となる。しかも、複数の制御線を必要とする場合であっても、制御線ごとに対応するサブ回路までの距離を一定とすることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】より小さな単位に切り離しも可能なマルチコア半導装置において、前記より小さな単位に切り離した場合に相互接続配線を伝って生じる可能性のある水の侵入を阻止する。
【解決手段】半導体装置は、素子領域を有する半導体基板と、前記素子領域に形成され、第１の開口部を有する内側シールリングと、前記素子領域に形成され、第２の開口部を有する外側シールリングと、前記半導体基板上に形成された、各々配線層を含む複数の層間絶縁膜を積層した積層体よりなる多層配線構造と、前記多層配線構造に含まれる第１の層間絶縁膜とその上の第２の層間絶縁膜の間に形成された耐湿膜と、前記耐湿膜の下側および上側のいずれか一方である第１の側を延在し、前記第１の開口部を通過する第１の部分と、前記耐湿膜の下側および上側の他方である第２の側を延在し、前記第２の開口部を通過する第２の部分と、前記第１の部分と前記第２の部分とを、前記耐湿膜を貫通して接続するビアプラグとを含む配線パターンと、を有する。 （もっと読む）

【課題】電源ノイズを抑制する。
【解決手段】電源電圧Ｖｄｄまたは基準電圧Ｖｓｓが印加される主配線（第１基準電圧幹線ＶＳＳ１）と、複数の副配線（基準電圧枝線ＶＳＳＢ）と、複数の基準電圧枝線ＶＳＳＢに接続されている複数の回路セル（不図示）と、入力される制御信号に応じて、複数の基準電圧枝線ＶＳＳＢのうち、所定の回路セルが接続されている基準電圧枝線ＶＳＳＢと第１基準電圧幹線ＶＳＳ１との接続および遮断を制御する電源スイッチセルＳＷ１,ＳＷ２,…と、複数の基準電圧枝線ＶＳＳＢを相互に接続する補助配線５０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】配線抵抗を低減し導通損失による効率低下を改善した半導体装置、ＤＣ−ＤＣコンバータ及び受像器を提供する。
【解決手段】第１の導電体と、半導体素子搭載部と、半導体素子と、第１の接続部と、第２の接続部とを備えた半導体装置が提供される。前記第１の導電体は、前記半導体素子搭載部の周囲に設けられている。前記半導体素子は、前記半導体素子搭載部に設けられ、第１のスイッチ素子と、前記第１のスイッチ素子と並列的に設けられた第２のスイッチ素子とを有する。前記第１の接続部と前記第２の接続部とは、前記第１のスイッチ素子と前記第２のスイッチ素子との境界を延長した仮想的な境界線よりも前記第１のスイッチ素子の側に設けられ、前記第１のスイッチ素子と前記第２のスイッチ素子とに電気的に接続され、前記第１の導電体と電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】複数の回路ブロックの特性を正確に一致させる。
【解決手段】例えば、端子３１Ａ，３１Ｂと、これら端子間に設けられた回路１１０Ａ，１１０Ｂを備える。回路１１０Ａは端子３１Ａに接続され、端子３１Ａから端子３１Ｂへ向かって配置されたセル１２０Ａ，１３０Ａ，１４０Ａを含む。回路１１０Ｂは端子３１Ｂに接続され、端子３１Ｂから端子３１Ａへ向かって配置されたセル１２０Ｂ，１３０Ｂ，１４０Ｂを含む。セル１２０Ａ，１２０Ｂのレイアウトは、形状、サイズ及び向きがトランジスタレベルで同一である。セル１３０Ａ，１３０Ｂ及びセル１４０Ａ，１４０Ｂのレイアウトは、形状及びサイズが同一であり、トランジスタの向きが１８０°相違している。これにより各セルを対称配置しつつ、センシティブなセル１２０Ａ，１２０Ｂにおいては電流方向の違いによる特性差が生じない。 （もっと読む）

【課題】ダブルパターニングによるトランジスタの特性ばらつきを抑える。
【解決手段】並列に配置される複数のゲート電極パターン１０〜１５を交互に、ダブルパターニングの第１の露光工程で形成する第１のパターン及び第２の露光工程で形成する第２のパターンとして設定し（ステップＳ１）、第１のパターンと第２のパターンとを並列に接続したトランジスタ対を含む回路をレイアウトすることで（ステップＳ２）、ダブルパターニングによるトランジスタの特性ばらつきが抑えられる。 （もっと読む）

【課題】ビアホールの数を少なくしてもループ発振などの特性劣化が生じにくい半導体電力増幅器を提供する。
【解決手段】半導体電力増幅器は、ゲート電極Ｇと、ドレイン電極Ｄと、前記ゲートフィンガー電極に対向して配置されるソースフィンガー電極横手方向の両サイドに引き出される２つのソース電極Ｓと、を有するユニットＦＥＴと、前記ユニットＦＥＴが、前記ソース電極間を結ぶ略直線方向に複数個並列配置され、隣り合うユニットＦＥＴ間に存在する２つのソース電極の両方を共通して高周波グランド面と接続する第１の接地インダクタンス値を有する第１のビアホール１８Ｋと、隣り合うユニットＦＥＴが存在しない側のソース電極上に配置され、接地インダクタンスを等しくするために前記高周波グランド面に接続する第２の接地インダクタンス値を有する第２のビアホール１８Ｄと、を有する。 （もっと読む）

【課題】従来の入出力セルよりも回路面積の大きな入出力セルを面積効率良く配置する。
【解決手段】半導体装置において、複数の第１バッファセル３１〜３４は、基板の一辺に沿って１列に設けられる。複数の第２バッファセル２１，２２は、複数の第１バッファセルよりも基板の中央寄りの位置に、複数の第１バッファセルの配列方向に沿って１列に設けられる。複数の第１パッド８１〜８８は、複数の第１バッファセルの上部に上記配列方向に沿って１列に設けられる。複数の第２パッド６１〜６６は、複数の第１パッドよりも基板の中央寄りの位置に、上記配列方向に沿って１列に設けられる。複数の第２パッド６１〜６６は、各々が、複数の第１バッファセルのいずれか１つと個別に接続される複数の第３のパッド６１，６３，６５，６６と、各々が、複数の第２バッファセルのいずれか１つと個別に接続される複数の第４パッド６２，６４とを含む。 （もっと読む）

【課題】複数のスパイラルを直列に接続してインダクタを形成する場合において、スパイラルを大面積化することなく、スパイラルの巻線を長くする。
【解決手段】インダクタ１０は、第１スパイラル１００及び第２スパイラル２００を有している。第１スパイラル１００は、インダクタ１０の巻軸と平行な第１の方向から見た場合、中心から外側に向かって巻かれている。第２スパイラル２００は、第１の方向から見た場合、外側から中心に向かって、第１スパイラル１００と同一の向きに巻かれている。第１スパイラル１００及び第２スパイラル２００は、外側の端部同士、または中心側の端部同士が、外側接続部材３００又は中心側接続部材４００を介して接続されている。第２スパイラル２００は、第１スパイラル１００を、巻軸を回転中心として右回りに９０°回転させてから、巻軸に直交する平面に含まれる水平線を基準に鏡映させ、かつ縦横比を変更した形状である。 （もっと読む）

【課題】セル高さが低減した場合であっても、容量セルの容量値を十分に確保可能なレイアウト構成を提供する。
【解決手段】第１の電源電圧を供給する電源配線１１が第１の方向に延びており、電源配線１１と平行に、第２の電源電圧を供給する電源配線１２および第３の電源電圧を供給する電源配線１３が延びている。容量素子１６は、ソースおよびドレインに第１の電源電圧が与えられ、ゲートに第２または第３の電源電圧が与えられるトランジスタによって構成されている。容量素子１６は電源配線１１の下に、電源配線１２側の領域から電源配線１３側の領域にわたって形成されている。 （もっと読む）

【課題】マスクパターンの疎密に起因する強誘電体素子の特性ばらつきを適切に低減することが可能なデータ保持装置及び、これを用いた論理演算回路の提供。
【解決手段】データ保持装置において、不揮発性記憶部に含まれる複数の強誘電体素子Ｘ（素子幅ｍ）は、各々よりも素子幅の小さいダミー素子Ｙ（素子幅ｎ、ただしｎ＜ｍ）によって包囲されている。これによってマスクパターンの疎密に起因するエッチングのローディング効果を抑制する事が可能となる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の電源線および接地線の高抵抗化を抑制する。
【解決手段】第１の方向に延伸された第１の回路セル列及び第２の回路セル列と、第１の方向に延伸され、第１の回路セル列上に配置され、第１の電源線には第１の電源電位が供給される、第１及び第２の電源線と、第１の方向に延伸され、第２の回路セル列上に配置され、第２の電源電位が供給される第３の電源線と、第２の電源線と第３の電源線との間に接続され、導通状態において第２の電源線と第３の電源線とを接続して第３の電源線から第２の電源線に第２の電源電位を供給し、非導通状態において第２の電源線と第３の電源線とを電気的に切り離す第１のトランジスタと、第１の回路セル列に配置され、第１の電源線から供給される第１の電源電位と第２の電源線から供給される第２の電源電位との間の電源電圧で動作する第１の回路素子とを備える。 （もっと読む）

【課題】入出力（Ｉ／Ｏ）積層体を含むシステムを提供する。
【解決手段】入出力（Ｉ／Ｏ）積層体を含むシステム及びこのシステムを製造する方法が記述されている。一実装において、本方法は、Ｉ／Ｏ素子を含むと共に論理素子を含まないＩ／Ｏダイを積層するステップを有する。又、一実装において、本方法は、Ｉ／Ｏダイに対して集積回路ダイを積層するステップを更に含む。集積回路は、論理素子を含み、且つ、Ｉ／Ｏ素子を含まない。集積回路ダイからＩ／Ｏダイを分離することにより、それぞれのダイの独立的な開発や従来のダイのものとの比較におけるＩ／ＯダイのＩ／Ｏ基板上のＩ／Ｏ素子用の相対的に大きな空間などの様々な利益が得られる。空間の増大により、多数の論理素子を集積回路ダイの基板の同一の表面積内に収容する集積回路ダイの新しいプロセス世代が可能となる。 （もっと読む）

【課題】ピラーを確実に配置することが可能な半導体装置、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一態様にかかる半導体装置３０は、内部回路領域２０と、内部回路領域２０の外側に設けられたＩ／Ｏ領域１０と、を備える半導体チップ１と、半導体チップ１とフリップチップ接続されたパッケージ基板６と、半導体チップ１とパッケージ基板６との間に配置され、半導体チップ１の最上層配線層１２に含まれる２本以上の接地配線１２ａ上に形成されて、２本以上の接地配線１２ａを接続する導電性のピラー４と、を備えるものである。 （もっと読む）