【課題】
【解決手段】基板のモデルを評価する方法が提供される。スキャトロメトリ測定が、第１の波長で放射を用いて行われる。次に、放射の波長が変更され、他のスキャトロメトリ測定が行われる。スキャトロメトリ測定値が、波長のある範囲内で同じである場合には、モデルは十分に正確である。しかし、スキャトロメトリ測定値が、波長の変化につれて変化する場合には、基板のモデルは十分には正確でない。 （もっと読む）

【課題】実効露光量ばらつきを露光量変動とＰＥＢ温度変動とに分離して評価できるリソグラフィ装置の評価方法を提供すること
【解決手段】リソグラフィ装置の評価方法は、レジストパターンとして、互いに周辺環境が異なる第１および第２の評価パターンを含むレジストパターンを形成する工程Ｓ１と、第１の評価パターンの寸法と第２の評価パターンの寸法とを測定する工程Ｓ２と、前記測定した第１の評価パターンの寸法と前記測定した第２の評価パターンの寸法との寸法差に基づいて、露光装置によりレジストを露光した時の露光量を推定する工程Ｓ４と、前記推定した露光量および前記寸法差に基づいて、加熱装置により前記レジストを加熱した時の前記レジストの実効的な加熱温度を推定する工程Ｓ５とを含む。 （もっと読む）

【課題】塗布現像処理装置の各ユニットの増加を抑えつつ、塗布現像処理装置の所定ユニットの処理条件の変更に際して露光装置の稼働率の低下を防ぐ。
【解決手段】本発明の基板処理システムは、複数の処理ユニットを有する塗布現像処理装置１と、露光装置２とから構成されたシステムにおいて、処理条件を変更する処理ユニット内へ入力される基板を一時的に格納する前バッファーユニット９と、処理条件を変更する処理ユニットから出力された基板を一時的に格納する後バッファーユニット１１とを備え、露光装置２のサイクルタイムをｔ１とし、処理条件を変更する処理ユニットのサイクルタイムをｔ２とし、同一の処理条件で処理する基板の枚数をｍとし、処理条件を変更するのに要する変更時間をｔ３としたときに、ｔ１＊ｍ≧ｔ２＊ｍ＋ｔ３が成立するように、サイクルタイムｔ１よりもサイクルタイムｔ２を短くする構成としたものである。 （もっと読む）

【課題】より効率的に機能することができる基板ハンドラを提供する。
【解決手段】露光前に基板８を基板テーブル６上にロードし、露光後に基板８を基板テーブル６からアンロードするように適合されており、複数の独立した基板８，８を同時に搬送するように適合された少なくとも１つの支持面又はプラットフォーム１４、１６を含む、基板８をリソグラフィ装置の基板テーブル６に対して動かす基板ハンドラ１２を有する。 （もっと読む）

リソグラフィ装置（１）は、汚染物質の制御のためにプロービングされるテスト面（４）を有するコンポーネント（４０）を収容する容器（５）と、光プロービングビーム（２）を送りかつ受け取る光プローブとを含む。容器（５）は、光プロービングビーム（２）をテスト面（４）に向けて伝達する第１光ポート（８）、および、反射された光プロービングビーム（３）を受け取る第２光ポート（９）を含む。光プローブは、光プロービングビーム（２）を与える光源（１０）、プロービングビーム（２）に所定の偏光状態を与える偏光コンディショナ（１１）、および、スペクトルアナライザ（１２）を含む。偏光コンディショナ（１１）は、最小透過率波長に対して最小の透過率を与えるように既定される。スペクトルアナライザ（１２）は、汚染物質があることによる偏光変化に応じて最小透過率波長の波長シフトを検出する。 （もっと読む）

【課題】インターフェイス部における基板搬送の信頼性を高めることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０は処理部３とＩＦ部５とを備え、ＩＦ部５は本装置１０とは別体の露光機ＥＸＰに隣接している。ＩＦ部５は、露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭと、第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭに替わって露光機ＥＸＰに対して基板Ｗを搬送する第２予備搬送機構Ｔ_ＩＦＳとを有する。したがって、第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭの機能が低下した場合であっても第２主搬送機構Ｔ_ＩＦＭに替わって第２予備搬送機構Ｔ_ＩＦＳが基板搬送を行うことができる。よって、ＩＦ部５における基板搬送の信頼性が高く、装置１０および露光機ＥＸＰを安定して稼働することができる。 （もっと読む）

【課題】光学パラメータとプロセスパラメータの両方を短時間で決定することができるパラメータ決定方法を提供する。
【解決手段】原版のパターンを基板に転写する露光装置に設定可能な光学パラメータに基づいて前記基板に塗布されたレジストに形成されるレジスト像を予測する光学シミュレータと、光学パラメータに基づいて光強度分布を算出し、前記レジストに関する情報及び前記レジストに施すプロセス処理に関する情報を表すプロセスパラメータに基づいて算出した光強度分布に対するプロセス像を予測するプロセスシミュレータとを用いて、前記光学パラメータ及び前記プロセスパラメータを決定するパラメータ決定方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】露光光の光路に配置された光学素子へのＳｉＯ_２の堆積を効果的に抑制する。
【解決手段】露光装置は、露光光の光路に配置された光学素子と、前記光路を含む空間にガスを供給するガス供給部と、前記ガス供給部により前記空間に供給されるガスを処理して該ガスの中のシリコン含有有機物質を分解する分解部と、前記分解部を制御する制御部とを備える。前記制御部は、少なくとも、前記光学素子へのシリコン含有有機物質の付着を抑制すべき付着抑制期間においては、前記分解部によって処理されたガスが前記空間に配置された前記光学素子に供給されるように、前記分解部を制御する。前記付着抑制期間は、前記光学素子への前記露光光の照射が停止される時刻に始まり、該時刻から所定時間が経過する時刻に終わる期間である。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ上に形成されたパターンの反射率の影響やウエハに塗布されたレジストの厚さむらに起因する表面位置検出手段の計測誤差を低減する形状計測装置、及びそれを具備した投影露光装置を実現することを目的とする。
【解決手段】 光源からの広帯域光を計測光と参照光とに分離し、ｓ偏光成分とｐ偏光成分の強度が等しい偏光状態であり、かつブリュースター角（偏光角とも呼ばれる）以上の入射角で、計測光を被計測物の表面に、参照光を参照ミラーにそれぞれ入射させ、被測定物で反射した計測光と前記参照ミラーで反射した参照光とを光電変換素子へ導き、計測光と参照光とが干渉することにより形成される干渉パターンを、光電変換素子により検出し、被計測物の表面形状を求める構成とする。 （もっと読む）

【課題】回折スペクトルの情報を失わずにオーバレイを測定するために、より小さいターゲットで使用することができる放射を提供する放射源を提供する。
【解決手段】放射が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを高開口数のレンズの瞳面で測定することによって、基板の特性を割り出す装置及び方法。特性は、角度及び波長に依存してよい。基板で反射する放射は、放射状に偏光する。 （もっと読む）

【課題】基板上の膜にプラズマエッチングにより平行なライン状のパターンを形成するエッチング方法において、前記パターンの微細化を図ること。
【解決手段】基板上のラインと溝とからなるパターンが形成されたレジストマスクに対して、薄膜の成膜、当該薄膜の異方性エッチングによるラインの両側壁への堆積物の形成、ラインの除去及び堆積物をマスクとした堆積物の下方膜のエッチングからなるダブルパターン形成工程を行って当該下方膜にラインと溝とからなるパターンを形成し、次いで堆積物を除去して更に上記ダブルパターン形成工程を行う。この時、当初のラインの幅と溝の開口幅との比を３：５に設定し、また溝に対応する薄膜の開口幅と、ラインの側壁を覆うように成膜された傾斜部分の幅と、の比がダブルパターン形成工程の１回目においては３：１、２回目においては１：１となるように薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】搬送時間を軽減することによって、基板処理のスループットを向上させることを目的とする。
【解決手段】（＋Ｘ）方向に直線状に伸びる第１の基板処理セクション１０１および第３の基板処理セクション１０３の両側に搬送ユニット１３ａ，１３ｂ、搬送ユニット１９ａ，１９ｂをそれぞれ配置する。また、搬送ユニット１３ａ，１３ｂの走行路である搬送用路１３１ａ，１３１ｂの端部に、一対の塗布処理ユニット１４ａ，１４ｂが設けられる。そして搬送ユニット１３ａ，１３ｂは、基板９０を塗布処理ユニット１４ａ，１４ｂにそれぞれ搬入する。当該搬入された基板９０は、搬送ユニット１５によって搬出される。また、搬送ユニット１３ｂは、搬送ユニット１３ａに対して、所定の動作数分遅れて、相同の搬送動作を行う。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の複屈折を、露光装置上で短時間、且つ、高精度に測定することができる露光装置を提供する。
【解決手段】第１のステージに保持されたレチクルのパターンを第２のステージに保持された基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、前記投影光学系を通過した光を撮像素子に入射させる結像光学系を含み、前記結像光学系と前記投影光学系との全体の複屈折を測定する測定部と、前記測定部の校正時において、前記結像光学系の複屈折を測定するために前記投影光学系の物体面側に配置され、前記測定部からの光を反射して前記投影光学系を介さずに前記測定部に戻す校正部と、前記測定部によって前記結像光学系と前記投影光学系との全体の複屈折を測定した結果から前記投影光学系の物体面側に前記校正部を配置して前記測定部によって測定した前記結像光学系の複屈折を分離して、前記投影光学系の複屈折を算出する算出部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ショット領域と計測点との位置関係が複数のショット領域間で異なることによる不利益、例えば局所デフォーカスを低減する。
【解決手段】露光装置は、感光剤が塗布された基板の複数のショット領域を投影光学系を介して順に露光する。露光装置は、基板が走査駆動された状態で、連続する複数のショット領域内に定義された計測点の面位置を計測する計測器と、計測器による計測結果に基づいて、基板の被露光領域が投影光学系の像面に一致するように基板の面位置を制御する制御部とを備える。複数のショット領域４０１、４０２において、計測点を共通の配置とする。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の収差を計測するために使用する収差計測用パターンを短時間で位置合わせしうる露光装置を提供する。
【解決手段】第１のマスク２０に配置された第１の収差計測用パターンと位置合わせさせるための第３のパターン、第２のマスク１０に配置された第２の収差計測用パターンと位置合わせさせるための第４のパターン、第１の収差計測用パターンと第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるために、第３のパターンと第４のパターンとの相対位置を検出する検出系と、検出系によって検出された第３のパターンと第４のパターンとの相対位置に基づいて、第３のパターンから一定距離だけ離れた位置に配置されている第１の収差計測用パターンと第４のパターンから一定距離だけ離れた位置に配置されている第２の収差計測用パターンとを位置合わせさせるように原版ステージ５及び基板ステージ８の少なくともいずれかを制御する。 （もっと読む）

【課題】基板の露光中に液浸液と接触する液浸リソグラフィ装置の表面には、汚染物質が蓄積することがある。洗浄剤を含む溶液を使用して、このような表面を洗浄することができる。このような洗浄溶液の洗浄特性は、それを紫外線放射で活性化させることによって改良することができる。つまり、より低濃度の溶液を使用し、それによって洗浄溶液が提供される表面の損傷の危険性を低下させることができる。
【解決手段】本発明の実施形態により、装置をオフラインにする必要なく、洗浄中の表面に紫外線放射を提供することができる。実施形態では、案内部材を使用して、紫外線放射を遠隔放射源から洗浄動作のために望まれている位置に配置された出口へと送る。 （もっと読む）

【課題】特定の品質閾値に適合しない液浸流体を再生し、再生した液浸流体を再循環させる。
【解決手段】リソグラフィ装置は投影システム、流体取扱い構造、メトロロジーデバイス、及びリサイクル制御デバイスを含む。投影システムは、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影し、基板は基板テーブル上に支持される。流体取扱い構造は、液浸流体を投影システムと基板及び／又は基板テーブルとの間の空間に提供する。メトロロジーデバイスは、液浸流体のパラメータを監視する。リサイクル制御デバイスは、メトロロジーデバイスによって示された液浸流体の品質に基づいて、流体取扱い構造で再使用される、あるいは再生されるように液浸流体のルーティングを調整する。 （もっと読む）

【課題】
光強度分布を高精度に測定することができる計測装置及び光強度分布計測方法、露光装置を提供する。
【解決手段】
光学系の物体面に配置されたパターンを照明し、光学系の像面に形成されたパターンに対応する光強度分布を計測する計測装置であって、光学系の像面に配置され、スリットが設けられた遮光部材と、スリットを透過した光を受光する複数の受光部とを含むセンサとを有し、複数の受光部で検出された信号の位相差と複数の受光部の位置関係とに基づいて、遮光部材の回転を制御する。 （もっと読む）

【課題】複数の図形要素群のベクトルデータを含む入力データをランレングスデータである出力データに変換する際に、出力データの生成に要する時間を短縮する。
【解決手段】データ変換装置では、描画領域８における所定幅の単位領域８０毎の単位ランレングスデータを順次生成する際に、図形要素群であるセルのうち、セル８３が処理対象の注目単位領域８０ａと重なる注目セルとして抽出され、注目セル８３にて注目単位領域８０ａから連続する同じランレングスの数が局所ランレングスリピート回数として取得される。そして、局所単位ランレングスリピート回数等に基づいて注目単位領域８０ａと次の単位領域８０とのランレングスが同一か否か判断され、同一の場合に注目単位領域８０ａの単位ランレングスデータが次の単位領域８０の単位ランレングスデータとして出力される。これにより、出力データの生成に要する時間が短縮される。 （もっと読む）

【課題】被検面の下地の状態にかかわらず、該被検面の位置を正確に検出できるようにする。
【解決手段】被検面Ｗ上の第１照射領域に第１検出光ＤＬ１を斜め方向から照射する第１送光光学系１１ａと、被検面Ｗ上の前記第１照射領域を含み前記第１照射領域よりも大きい第２照射領域に第２検出光ＤＬ２を斜め方向から照射する第２送光光学系１１ｂと、被検面Ｗで反射された第１検出光ＤＬ１及び第２検出光ＤＬ２を検出する検出手段２８を有する受光光学系１２と、第１送光光学系１１ａによる第１検出光ＤＬ１の照射及び第２送光光学系１１ｂによる第２検出光ＤＬ２の照射を選択的に切り換えるとともに、検出手段２８による第１検出光ＤＬ１に基づく検出値を検出手段２８による第２検出光ＤＬ２に基づく検出値により補正して、当該補正された検出値に基づいて、被検面Ｗの面位置を検出する制御手段２９とを備える面位置検出装置である。 （もっと読む）