説明

Fターム[5F046AA28]の内容

Fターム[5F046AA28]に分類される特許

2,141 - 2,160 / 2,345


【課題】 レチクルの絶対精度評価に依存することなく、半導体装置の製造工程におけるレジストマスクの形成精度を満足するレチクルを用いてパターニングを行う。
【解決手段】 露光時に使用可能なレチクルを、当該レチクルの精度と、下地層の露光に使われたレチクルの精度と、設計基準から要求されるクリティカルな精度とから判定する。 (もっと読む)


本発明は、包括的には、改良されたバイナリハーフトーン(「BHT」)フォトマスクと、かかるBHTフォトマスクから作製された微細3次元構造(たとえば、MEMS、微小光学、フォトニクス、微細構造および他の3次元微細デバイス)と、に関する。より詳細には、本発明は、BHTフォトマスクレイアウトを設計し、そのレイアウトをBHTフォトマスクに転写し、本発明の方法によって設計されるBHTフォトマスクを使用して3次元微細構造を製作する方法を提供する。この点で、BHTフォトマスクレイアウトを設計する方法は、少なくとも2つのピクセルを生成するステップと、ピクセルの各々を、第1の軸において可変長を有し第2の軸において固定長を有するサブピクセルに分割するステップと、ピクセルを、連続階調の空間光像を形成するようにそれらピクセルに光を透過させるパターンを形成するように配列するステップと、を含む。サブピクセルの面積は、バイナリハーフトーンフォトマスクを使用されることが意図される露光ツールの光学系の最小解像度より小さくなければならない。この方法を使用することにより、BHTフォトマスクを、各グレーレベル間の光強度の変化が有限かつ線形であるように連続したグレーレベルを有するように設計することができる。その結果、このBHTフォトマスクを使用して3次元微細構造を作製する場合、作製されているオブジェクトに対しより平坦かつより直線状の輪郭をもたらすことができる。
(もっと読む)


【課題】リソグラフィデバイス内でデータを転送するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】1つの実施形態によるセンサアセンブリは、センサ、センサから受信したデータ信号をディジタル化するように構成されたアナログディジタル変換器、およびシリアルバス上で第一データ転送を受信して、シリアルバス上でディジタル化した信号内の情報を含む第二データ転送を転送するように構成された論理要素のアレイを含む。論理要素のアレイは、第一データ転送で受信した情報に従って第二データ転送を転送するように構成される。 (もっと読む)


【課題】生産性を低下させることなく、基板レベルでの測定を行うことのできるリソグラフィ装置の提供。
【解決手段】シングル・ステージ又は複数ステージのリソグラフィ装置において、例えば基板テーブル交換、及び/又は基板のロード及びアンロードの間、テーブルが液体供給システムに対して閉じ込め用の面を形成する。一実施例では、テーブルは、例えば基板テーブル交換、及び/又は基板のロード及びアンロードの間に投影ビームの測定を行うセンサを有している。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンを形成することなく、被処理膜に微細なパターンを形成可能なパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】一主面側に凹状パターン13が設けられたエッチングマスク10を、凹状パターン13を被処理基板20に対向させて、接触状態または所定幅の間隙を有した状態で、被処理基板20上に配置するとともに、エッチングマスク10と被処理基板20との間にエッチングガスを導入する工程と、エッチングガスにより、被処理基板20の凹状パターン13との対向領域をエッチングすることで、被処理基板20の表面側に設けられた有機膜22にパターンを形成する工程とを有することを特徴とするパターンの形成方法である。 (もっと読む)


【課題】液浸リソグラフィ装置の内部を洗浄するための方法と装置を提供すること。
【解決手段】特に、リソグラフィ装置の液体供給システムを使用して、リソグラフィ装置の投影システムと基板テーブルとの間の空間に洗浄流体を導入することができる。追加的に又は代替案として、洗浄デバイスを基板テーブルの上に備えてもよく、超音波液体を作り出すために超音波エミッタを備えることもできる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、井桁やメッシュ、キャピラリー流路等を含むマイクロ/ナノスケールの多層三次元構造を、接合強度に優れるように精度よく且つ再現性良く形成することができる微細中空成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】 熱可塑性樹脂を主体とする加熱消滅性組成物を、所定の微細パターンが形成されている型に塗布し、加熱消滅性組成物層を積層する工程、リバーサルインプリンティング法により、微細パターンに応じた加熱消滅性組成物層を基材上に転写する工程、加熱消滅性組成物層の少なくとも一部が外部に露出するように、加熱消滅性組成物層上に樹脂層を形成する工程及び加熱して加熱消滅性組成物を除去して微細中空を形成する工程からなることを特徴とする微細中空成形体の製造方法。 (もっと読む)


本発明は、表面のパターン処理の方法、および制御された析出成長物を用いたビアの製造、ならびにそのような本発明による方法によって調製されたパターン化された基板に関する。本発明による方法は、上部に材料をパターン化する必要のある、少なくとも一つの表面を有する基板を提供するステップであって、前記表面は、異なる表面特性を有する少なくとも第1および第2の表面領域を有し、前記第1の領域には、さらに保護析出成長物が設置されるステップと、少なくとも前記第2の表面領域に、少なくとも一つの材料を設置するステップであって、前記設置された材料は、前記第1の表面領域には実質的に設置されないか、前記第1の表面領域に設置される場合、前記設置された材料は、前記第1の表面領域から選択的に除去されるステップと、を有する。
(もっと読む)


【課題】照明系・投影系を構成するミラーをコンタミネーションによる汚染から保護し、デバイス製造の歩留まり・デバイスの信頼性といった生産性の向上を図ることができる露光装置を提供すること。
【解決手段】光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被露光体に投影する投影光学系と、前記レチクルを載置するステージと、前記被露光体を載置するステージと、前記投影光学系を収納する空間を備え、前記投影光学系と照明光学系の光学素子を冷却する冷却手段を有する露光装置において、前記冷却手段の少なくとも一部に物質の吸着手段を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】入射した光を効率よく通過させ得る微細凹凸部を有する微細構造体をエッチングプロセスではなく、ナノインプリント技術を使用して、経済的に製造する方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリント技術を用いて、透明 基板上にアルミニウム、ゲルマニウム、またはチタン等の金属酸化物および/またはアルコキシドを添加することにより屈折率を制御した有機無機ハイブリッド材料を塗布するステップと、前記有機無機ハイブリッド材料を塗布した基板をプリベイクするステップと、塗布された前記有機無機ハイブリッド材料に微細な凹凸部を有する金型を減圧状態の中で、圧着し、加熱するステップと、前記金型を前記有機無機ハイブリッド材料から離型するステップとにより、微細構造体を製造する。 (もっと読む)


【課題】第1層内のパターン寸法ばらつきに与える第2層の影響を考慮して、第1層のパターン形成におけるリソグラフィ条件の最適化を図り得るリソグラフィ工程最適化方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィ工程の最適化方法にあっては、(A)第1層に形成されるパターンに基づく特性値を決定し、(B)第1層に形成すべきパターンにばらつきを生じさせ得る第1層関連要因を抽出し、該第1層関連要因の水準を決定し、更に、第1層に形成すべきパターンに影響を与え得る第2層関連要因を抽出し、該第2層関連要因の水準を決定し、(C)第1層関連要因及びその水準並びに第2層関連要因及びその水準の組合せに基づき、実験若しくはシミュレーションを行い、各組合せのそれぞれにおける前記特性値を求め、(D)求められた特性値中で、ばらつきが最も小さくなる特性値が得られる第1層関連要因の組合せ及びその水準を決定する。 (もっと読む)


【課題】 液浸材(液体)の侵入を防止すると共に、NAが1を超える光も検出することができる受光ユニット及びかかる受光ユニットを有する露光装置を提供する。
【解決手段】 光を検出する受光デバイスを備える受光ユニットであって、前記受光デバイスの受光面側に配置され、前記光に対して透光性を有する窓材と、前記受光デバイスに到達する前に、前記窓材を透過した光を偏向する偏向手段とを有することを特徴とする受光ユニットを提供する。 (もっと読む)


【課題】投影光学系の最も基板側の光学素子表面に付着する汚染物質を効率的に除去することができる汚染物質除去装置、露光精度の向上可能な露光装置、高集積度のデバイスを歩留まりよく効率的に生産することのできるデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】汚染物質除去装置18は、吸引口としての吸引口31を有するノズル25と、ノズル25から吸引された汚染物質を外部へ排出するダクト26と、このダクト26に設けられるファン27とを含んで構成されている。ノズル25の各吸引口31は、光学素子22の外周をあたかも囲むようにして、光学素子22の中心に対して略対称にかつ、光学素子22の下面22aのほぼ真横に配置される。そして、このように配置された吸引口31が、ウエハ室40内の空気の流れの光学素子22に対する下流側に位置するようになっている。 (もっと読む)


【課題】印刷パターンの形状精度および印刷位置精度を高く保つことが可能であり、さらには繰り返しの使用においての耐久性が高い印刷版を提供すること、さらにはこのような印刷版の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス材料を用いて構成された基板2と、基板2の表面上に設けられたフッ素含有材料からなる撥液性パターン3とを備えた印刷版1であり、撥液性パターン3は、シランカップリング剤およびシラザンの少なくとも一方からなり、基板2の表面層を構成するガラス材料に対して直接被着されている。 (もっと読む)


【課題】閉塞面を用いて液体を液体供給システムに閉じ込める際に、リソグラフィ装置内の浸漬液の汚染を低減させる装置および方法を提供すること。
【解決手段】本発明によれば、閉塞面が液体供給システムと衝突することによって生じる粒子による汚染を避けるため、または低減させるために、閉塞面を液体供給システムから離れた所定の距離の所に維持して、閉塞面と液体供給システムの間の衝突がなくなるようにされ、それでもなお液体は閉じ込められている。 (もっと読む)


【課題】 光インプリント方法において均一な残膜分布を与え、UV等の照射時に干渉縞が発生しない方法を開発すること。
【解決手段】 1)基板に塗布されたレジストに対してレジストの架橋度が所定の値になるような露光量で予備露光を行い粘度を大きくする工程、2)モールドをレジストに押しつけて型押しする工程、および3)レジストを本露光して架橋度が0.8以上になりほぼ完全に硬化する工程、を含み樹脂の柔軟性を維持しつつ光インプリントを行う。 (もっと読む)


【課題】
簡単で安価に基材上の機能材料をパターニングするための方法、およびパターン形成用シートを提供すること。
【解決手段】
少なくとも、基材層と、該基材層の片側又は両側に形成された表面層からなる積層体に、金型転写することによって表面層をパターニングするパターン形成方法であって、該金型は、金型凸部高さHが表面層膜厚Lより大きく、且つ金型凹部断面積S2が表面層断面積S1より大きい表面形状を有し、積層体の表面層に押しあて金型凸部により表面層を貫通させることで表面層をパターニングすることを特徴とするパターン形成方法である。 (もっと読む)


インプリントリソグラフィに使用されるナノディスクを形成するための方法およびシステムならびにナノディスクによって形成されたメモリディスクが提供される。 (もっと読む)


【課題】 液浸領域の液体に接触する部材の汚染に起因する露光精度及び計測精度の劣化を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】 露光装置EXSは、投影光学系PLの像面側に液体LQの液浸領域AR2を形成し、投影光学系PLと液浸領域AR2の液体LQとを介して基板Pを露光するものであって、液浸領域AR2を形成するための液体LQに接触する基板ステージPSTの上面31などに対して、光洗浄効果を有する所定の照射光Luを照射する光洗浄装置80を備えている。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高精細なパターンを形成することが可能であり、また効率よく製造可能なパターン形成体、およびその製造方法を提供することを主目的としている。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材上に、少なくとも半導体光触媒および樹脂を含有する半導体光触媒含有層を形成する半導体光触媒含有層形成工程と、
前記半導体光触媒含有層に、フッ素化合物を導入ガスとしてプラズマを照射し、フッ素を導入するプラズマ照射工程と、
フッ素が導入された前記半導体光触媒含有層にパターン状にエネルギーを照射し、前記半導体光触媒含有層の液体との濡れ性が低下した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 (もっと読む)


2,141 - 2,160 / 2,345