【課題】転写体の製造方法、光硬化性組成物、および該光硬化性組成物を用いた微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成しうる含フッ素単量体（Ａ）および重合開始剤（Ｂ）を含有する硬化性組成物を、最小寸法が５０μｍ以下のパターンが表面に形成されたモールドと接触した状態で硬化させるモールドのパターンが転写された転写体の製造方法、ならびに微細パターンの反転パターンを有するモールドの該反転パターン面と、基材表面との間に挟持して押圧した後に光照射により硬化することによって、微細パターンを表面に有する硬化物を形成する光硬化性組成物であり、かつ主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素重合体を形成する、たとえばＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２Ｃ（ＣＦ_３）（ＯＨ）ＣＨ_２ＣＨ＝ＣＨ_２と光重合開始剤を含み実質的に溶媒を含まない光硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】 ナノインプリントにおける金型と樹脂層の離型性を向上させ、金型の耐久性を向上させる。
【解決手段】 樹脂成型用金型表面にカーボンナノウォール層を有することを特徴とするナノインプリント用金型、この金型を用いたナノパターンの形成方法、及び得られる樹脂成型物。 （もっと読む）

【課題】 複数の製品ロットに対し、製品ロット切り換えで生じる時間ロスを最短にする製品ロットの実行順番を計画する計画手段を提供する。
【解決手段】 複数の製品ロットに対し最短時間で順次露光処理を行うために、連続した２つの製品ロットの露光条件に基づき、判定部405で判定して、同一露光条件がある場合に、前記同一露光条件の種類に応じて、後続ロットの特定の露光準備処理を省略する省略手段と、前記省略手段により特定の露光準備処理が省略された場合に、前記後続ロットの露光処理に要する時間を推定計算する予測計算部406とを備え、前記省略手段及び予測計算部406により、生産時間が最短となる製品ロットの実行順番を決定するスケジュール装置402を有し、複数の製品ロットの実行順番を計画して、製品ロットの実行順列を並べ替えながら、順次露光処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性、低吸水性、電気絶縁性、透明性、耐溶剤性、さらに段差埋め込み性に優れた平坦化膜及びそれを用いた半導体装置、表示装置を提供する。
【解決手段】 酸性基を側鎖に有する環状オレフィン系樹脂（Ａ）、１，２−ナフトキノンジアジド構造を有する感光材（Ｂ）、軟化点が１２０℃以下であり、かつ１３０℃以上で（Ａ）中の酸性基と結合しうる反応基を有する化合物（Ｃ）を含有する樹脂組成物を段差を有する基板上に塗布して樹脂組成物層を形成し、該樹脂組成物層に活性エネルギー線を照射して現像液と接触させてパターンを形成した後、該組成物を２８０℃以下で熱硬化することにより得られることを特徴とする平坦化樹脂層。 （もっと読む）

リトグラフィー方法が：
Ａ）パターン化された表面を持っている型を、相変化組成物で、該相変化組成物の相変化温度を上回る温度において満たしていき；
Ｂ）該相変化組成物を硬化させていき、パターン化された特徴を形成させ；
Ｃ）該型とパターン化された該特徴とを分離させていき；
任意に、Ｄ）パターン化された該特徴をエッチングしていき；
任意に、Ｅ）該型を洗浄していき；並びに
任意に、Ｆ）該型を再使用しながら、ステップＡ）〜Ｄ）を繰り返していく
ステップを包含する。本ＰＣＣは、有機官能基シリコーンワックスを包含してよい。 （もっと読む）

【課題】高真空を少なくとも一時的に保持できる隔室を、ステンレス鋼以外の安価で、加工性も向上した金属または合金で構成した装置を提供することである。
【解決手段】隔室ＣＰＴは第一ゾーンＺ１および第二ゾーンＺ２を含む内部域を有する表面によって一部の境界を形成され、および（または）その表面を含んでなる高真空環境を保持するための隔室ＣＰＴを含み、第二ゾーンＺ２は第一ゾーンＺ１と表面との間に位置し、第一ゾーンＺ１はステンレス鋼とは異なる組成を有する金属または合金で構成され、第二ゾーンＺ２におけるガス拡散が第一ゾーンＺ１におけるよりも生じ難く、ガス分子が表面から第二ゾーンＺ２を通って第一ゾーンＺ１内へ侵入することを抑止するようになされており、これにより表面位置または表面付近で多孔質の腐食生成物が形成されることを防止し、仮想漏れを生じない。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光前にレジスト膜表層を親水性化することにより、液浸露光時にレジスト界面の浸液におけるマイクロバブルの発生を防止する。
【解決手段】 シリコン基板１上に導電膜３を形成し、導電膜３上にレジスト膜２を形成する。シリコン基板１を活性酸素雰囲気に曝しながらレジスト膜２に真空紫外光４を照射することにより、レジスト膜２の表層に酸化層５を形成して、レジスト膜２表層を親水性化する。露光装置の投影レンズとレジスト膜２との間に浸液２７を満たし、該浸液２７を介してレジスト膜２に対して露光光２３を照射する。 （もっと読む）

【課題】 より転写位置精度の高いＳＰＬ装置を実現する。
【解決手段】 複数のプローブを用いてパターンを描画するパターニング装置において、マルチプローブヘッドを複数搭載する。また、プローブが劣化した場合、マルチプローブを一体で交換する。さらに、装置上で個々のプローブの特性の補正計測を行う。また、アライメント計測時と描画時とでプローブヘッドの姿勢を一定に保つ。 （もっと読む）

リソグラフィマスク（６２）を位置合わせするシステム及び方法を説明する。一態様では、基板（８）上の基板アライメントマーク（７０）とリソグラフィマスク（６２）上のマスクアライメントマーク（６８）との間の推進力に少なくとも部分的に基づいて、基板（８）とリソグラフィマスク（６２）とが位置合わせされ、これは、基板（８）とリソグラフィマスク（６２）との少なくとも一方を移動させて相互アランメントさせる。
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【課題】 １００ｎｍ以下のパターニングが可能なナノインプリントを用いたリソグラフィーに適用できる１００ｎｍ以下でも均一な厚みの薄膜形成ができ、それをナノインプリントに応用できるようパターンの形成方法とそのような方法を実現することができるパターン形成用電解質膜の製造装置を提供する。
【解決手段】 基板の上に、樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に、パターンの形成されたモールドを押しつける工程と、前記モールドを前記基板から引き離す工程と、を備えたパターンの形成方法において、樹脂層を形成する工程として基板に２層以上の電解質膜を吸着させることを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置、クリーニング・システム、及びリソグラフィ装置の部品から、その場で汚染物を取り除くクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ装置が開示される。装置は、リソグラフィ装置内の部品をその場でクリーニングするためのクリーニング・システムを含む。クリーニング・システムは、クリーニングすべき部品上の所定の位置の隣接部に、クリーニング環境を提供するように構成される。システムはまた、所定の位置に存在する汚染物のタイプには実質的に無関係に、前記クリーニング環境を提供するように構成される。 （もっと読む）

【課題】インプリント法により大面積にわたる均一なパターン転写を行うことができ、均一なパターンを有する磁気記録媒体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】磁性層およびレジストが形成された基板を用意し、表面に凹凸パターンが形成されたインプリントスタンパを用意し、対向する一対のプレス板の間に前記基板および前記インプリントスタンパを配置し、かつ一方のプレス板と前記基板との間または他方のプレス板と前記インプリントスタンパとの間のいずれか一方に微粒子層を挟み、対向する一対のプレス板に圧力をかけて、前記インプリントスタンパの凹凸パターンを前記基板上のレジストに転写してレジストパターンを形成し、残存したレジストパターンをマスクとして前記基板上の磁性層をエッチングすることを含む磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ダイシングの際に、ウェハに配置された導電性金属を切断することによって生じる不具合を防止する。
【解決手段】１つのブランク領域６には、金属膜で形成されたアライメントマーク１２が形成されている。また、ブランク領域６におけるスクライブライン８と交差する全ての領域にはアライメントマーク１２が存在しないスクライブ領域１０が形成されている。スクライブ領域１０はスクライブライン８と同じ幅に形成されている。アライメントマーク１２はスクライブ領域１０によって４つに分割されている。 （もっと読む）

物体（２４）上に構造化されたナノスケールパターンを形成するために発明された、物体（２４）に対して抗付着性のある層（１６）を有する成形工具（１）の製造方法。スタンプブランク（２）は、表面（８）上に構造化されたパターン（４）を備える。パターン形成された表面（８）は、安定した酸化数を有し、機械的に安定した酸化物被膜を形成し得る金属層（６）により被覆されてなる。金属層（６）は、酸化されて酸化物被膜（１０）を形成する。前記酸化物被膜（１０）は、分子鎖（１８）を含んでなる試薬に露出され、各分子鎖は、化学結合により酸化物被膜（１０）に結合する結合基（２０）を有し、分子鎖（１８）は最初から少なくとも１個のフッ素含有基（２２）を含んでなるか、またはその後の工程で少なくとも１個のそのような基（２２）を付与されたものである。
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【課題】アウトガスの影響を低減し、ミラーへの炭素化合物の付着を最小限に抑えることが可能な露光装置を提供すること。
【解決手段】この露光装置は、露光光源からの露光光をレチクルに導く照明光学系と、前記レチクル上のパターンを基板上へ投影する投影光学系とを有して、前記レチクル上のパターンを前記基板上に露光する露光装置であって、前記投影光学系を囲む光学系空間と前記レチクルを囲むレチクル空間とを、及び／又は前記投影光学系を囲む光学系空間と前記基板を囲む基板空間とを、実質的に分離する隔壁を有することを特徴とする。 （もっと読む）

臨界寸法（ＣＤ）を有するフィーチャを印刷するリソグラフィ・プロセスの最適プロセス窓を提供する最良のプロセス変量（Ｅ、Ｆ、Ｗ）設定を決定するために、全体性能特性パラメータ（Ｃ_ｐｋ）と、露光量（Ｅ）、焦点合わせ（Ｆ）のようなプロセス・パラメータの関数としてＣＤデータを記述する解析モデルとが使用される。これは、統計的ＣＤ分布（ＣＤｄ）の平均値（μＣＤ）および分散（σＣＤ）を計算して、最適プロセス窓を提供する最も高いＣ_ｐｋ値および関連プロセス・パラメータの値を決定することを可能にする。
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【課題】 均一なパターン転写を高いスループットで行うことを可能にする。
【解決手段】 被転写基板が載置される第１プレス面を有する第１プレス板６と、第１プレス面に対向するように配置される第２プレス面を有し、インプリントスタンパの凹凸パターンが形成された面とは反対側の面を第２プレス面が押すように配置された第２プレス板８と、第２プレス板の第２プレス面とは反対側の面に圧力を印加する圧力印加部１０と、第１プレス板の第１プレス面とは反対側の面を支持し、被転写基板の底面と大きさが同じかまたは小さな断面を有する第１支持部材４と、第１支持部材を支持する第２支持部材２ａと、圧力印加部を支持する第３支持部材２ｂと、第２支持部材および第３支持部材のそれぞれの両端を連結する連結部材２ｃとを有するフレーム構造２と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】露光用マスクによる密着露光に際し、露光用マスクへの異物の付着を抑制して、歩留まりの低下を防ぐと共に、スループットの向上を図ることができ、また露光用マスクを破壊に到らせる弾性劣化を軽減して使用耐久回数を増やすことが可能となる近接場露光方法および近接場露光装置を提供する。
【解決手段】近接場露光用マスクの密着制御方法及び装置は、弾性変形可能な露光マスク５０１をレジスト基板５０２に対して変形させて密着させた後に剥離する密着・剥離工程を用い、該露光マスクに形成した微小開口からにじみ出る近接場を用いて露光を行う近接場露光方法において、前記密着・剥離工程における前記レジスト基板に対する前記露光マスクの密着及び剥離に、圧電アクチュエータ５０５，５０６を用いる構成とする。 （もっと読む）

【課題】光洗浄では除去しきれない有機物汚染の除去を、効果的に短時間で効率的に行うことができ、洗浄に伴う光学部品の温度上昇も殆どない光学部品の洗浄方法、洗浄装置を提供すること。
【解決手段】この洗浄方法は、容器内を減圧するステップと、減圧された容器内にプラズマを生成可能な所定のガスを供給するステップと、容器内に備えられた電極に電力を印加するステップとを有し、電力印加により容器内に生成されたプラズマを用いて、容器内に配置された洗浄対象を洗浄する。 （もっと読む）

本発明は、ナノリソグラフィー装置、及び基板に原子力顕微鏡のチップから固体有機“インク”をデポジションするのを熱的に制御する方法に関する。本発明は、インクの融解温度以上に温度を上げること又はインクの融解温度以下に温度を下げることによって基板へのインクのデポジションオン又はオフするのに用いられ得る。この方法は、チップと基盤との接触を断つことなしにデポジション速度を変えることができしかもインクのデポジションをオンオフできるので有用である。汚染の恐れなしに像形成のために同一チップを使用することができる。本発明は、真空包囲体内でインクをデポジションすることができ、また使用するインクは一度冷却すると他のナノリソグラフィー方法において用いられたものより表面移動度が低いので、大きな空間的分解能が得られる。 （もっと読む）