【課題】液浸リソグラフィ装置において、液浸液の温度勾配および／または液浸液による汚染物質の運搬を低減もしくは回避すること。
【解決手段】例えば局所的空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、空間を２つの部分に分割するためのプレートが提供される。空間をこのように分割することにより、散乱放射線、温度勾配および汚染物質の運搬を容易に低減することができる。 （もっと読む）

【課題】光学素子を含んだ装置の該光学素子における蒸着物を除去する方法、および該光学素子を保護する方法を提供する。
【解決手段】光学装置を含んだ装置の該光学装置における蒸着物を除去する方法は、装置の少なくとも１部分にＨ_２含有ガスを供給し、Ｈ_２含有ガスのＨ_２から水素ラジカルを生成し、蒸着を有する光学素子を水素ラジカルの少なくとも部分と接触させて蒸着の少なくとも部分を除去することを含む。さらに、該光学素子を保護する方法は、蒸着工程により該光学素子にキャップ層を提供し、装置使用の間もしくは使用後に、上記の除去工程において、該光学素子からキャップ層の少なくとも１部分を除去することを含む。この方法はリソグラフィ装置に適用可能である。 （もっと読む）

【課題】 先行処理を行うタイミングを最適に管理することで、精度劣化無しにスループット低下を最小限に抑えることのできる露光装置を提供するものである。
【解決手段】 投影光学系の結像面近傍の物体面を、該物体面上の面位置を検出する位置検出手段を使用し、該投影光学系の焦点面に合焦する露光方法を備えた露光装置において、露光時にあらかじめ設定される該物体面の最適フォーカス面の検出に必要な設定値を得るために、露光に先駆けてあらかじめ実行される、先行処理実行のタイミングを管理し、計測精度に影響を与えることなくスループットの向上を図る。 （もっと読む）

【課題】露光装置の梱包、輸送及び設置に関わるコスト低減を図ることができると共に、設置後における装置立ち上げを迅速に行うことができる露光装置及び露光装置の梱包方法を提供する。
【解決手段】装置本体部の天板２１上に支持された第２部分照明光学系ＩＯＰ２は、筐体２６，２７が固定天板２１Ａ上に取り付けられ、筐体２８，２９が可動天板２１Ｂ上に取り付けられている。可動天板２１Ｂは、固定天板２１Ａに対して回動可能に支持されており、露光装置の梱包時には、装置本体部から外方へ突出した態様の第１の位置から非突出の態様となる第２の位置へと回動させられ、その第２の位置において固定天板２１Ａとの相対的な位置関係が固定部材７９，８０により変位不能に保持される。そして、その状態において、第２部分照明光学系ＩＯＰ２は装置本体部と共に同じ梱包ケース内に梱包される。 （もっと読む）

【課題】測定対象の収縮等が生じやすい条件下でも高い精度で測長を行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ基板上にレジスト膜を形成した後、レジスト膜に半導体集積回路用の回路パターン、第１のＬ字型測長用パターン３ａ，３ｂ及び十字型のアライメント用モニタパターン４ａ，４ｂを形成し、これらのパターンに基づいて、Ｓｉ基板をパターニングする。その後、Ｓｉ基板の上方に、ポリＳｉ膜を形成し、ポリＳｉ膜上にレジスト膜を形成する。レジスト膜に半導体集積回路用の回路パターン、第２のＬ字型測長用パターン１３ａ，１３ｂ及び十字型のアライメント用モニタパターン１５ｂを形成する。このとき、第２のＬ字型測長用パターンが平面視で第１のＬ字型測長用パターンを１８０度回転させた方向を向くようにする。そして、これらのパターンをマスクとして、ポリＳｉ膜をパターニングすることにより、ゲート電極を形成する。 （もっと読む）

パターン形成装置１０において、基板２００にパターンを形成するための金型１００を、基板２００の表層部のガラス転移温度Ｔｇ以上の温度Ｔ１に加熱しておき、その状態で、金型１００をガラス転移温度Ｔｇ以下の温度の基板２００に押し付け、金型１００のパターンを転写する構成とした。その後、ヒータを切り、冷却ブロックで金型１００を冷却した後、金型１００を基板２００から離すようにした。また、このようなパターン形成装置１０に対し、基板２００をマガジンから１枚ずつ取り出して順次供給する供給装置を備え、パターン形成システムを構成するのが好ましい。
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【課題】半導体製造装置のモニタリング装置を得る。
【解決手段】オンライン端末装置３の画面情報横取り部３１は、リアルタイムで半導体製造装置１とモニタ２のシリアル通信内容をモニタリングし、製造開始／製造終了の情報を、モニタ２のユーザＩ／Ｆ画面に書込む座標(x、y) 及び判断文字か否かをチェックする。
半導体製造装置１からモニタ２に、製造開始／製造終了の座標(x、y)及び製造開始／製造終了の判断文字が送信されたら、画面情報横取り部３１は、上位サーバ通信部３２へ製造開始／製造終了のトリガーを発行する。上位サーバ通信部３２は、上位サーバ４へ製造開始／製造終了の報告を行う。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ露光装置内で露光動作中に発生したパーティクルがレチクルに付着するという問題を解決するために、レーザー光を光源とした光ビームを走査光学系を用いて、レチクル近傍の空間に高速に走査することが可能な光ビーム走査手段を設け、浮遊してきたパーティクルが、光ビームを照射させられることにより発生するビーム進行方向の光圧力を用いることで、その軌道を変化させ、微小パーティクルのレチクルへの付着を抑制する。
【解決手段】真空環境下で原板上の回路パターンを基板上に露光する露光装置において、原板の近傍の空間に、レーザービームを走査光学系で走査することが可能な光ビーム走査手段を設けていることを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の構成要素から液体と気体の混合物を排出する改良型のシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】投影システムと基板間の空間に液体を充填する液体供給システム、液体供給システムの液体閉じ込め構造と基板間のギャップを通過する液体と気体の混合物を除去する出口、および出口を通して混合物を引き出す排出システムを含むリソグラフィ装置で、排出システムは、混合物中の気体から液体を分離するセパレータタンク、およびセパレータタンクの非液体充填領域に接続され、非液体充填領域内で安定した圧力を維持するセパレータタンク圧力制御装置を含む。 （もっと読む）

【課題】 露光装置において供給するガスに含まれる不純物の除去効率を高め、露光光照射領域及びその近傍への堆積物を防ぐことで、露光装置の結像性能低下を防ぎ、露光装置の長寿命化を達成する。
【解決手段】 露光装置内に供給されるガスに含まれる不純物を紫外線照射により事前に析出させ除去する不純物除去機構を備える気体の浄化方法において、前記不純物除去機構の下流に、水分除去機構または／及び極性ガス除去機構が備えられる構成をとる。 （もっと読む）

【課題】 レジスト除去の工程抜けに起因する次工程での汚染防止を図る。
【解決手段】 半導体ウエハ上に形成されたレジストの有無をフラグで表し、レジストが有る場合を「ＯＮ」、レジストが無い場合を「ＯＦＦ」とし、レジスト除去工程（ステップＳ４）後のフラグが「ＯＦＦ」となるように、例えば搬送容器の記憶媒体に記憶させておく。熱処理工程（ステップ５）を行う前に、熱処理装置の検知機構によりフラグを確認し、フラグが「ＯＦＦ」であれば熱処理を行い、フラグが「ＯＮ」であれば熱処理を行わない。 （もっと読む）

基板に物質を転写する方法が、アプリケータの表面上に物質を選択的に堆積するステップと、該アプリケータの表面を該基板に接触させるステップとを含む。物質は、アプリケータの表面上でパターンを成すことができる。パターンは、物質が基板に転写されるときに保たれる。物質は、インクジェット印刷によってアプリケータ上に塗布することができる。 （もっと読む）

実質的に平坦な回路において、導体が約３．０未満の誘電率をもつ無機材料によって分離される。その誘電体層は、放射硬化性組成物の最初は平坦な表面をインプリントすることによって導体のトレンチおよび／またはバイアスを定めるステップを含むプロセスにおいて形成される。インプリンティング用の型は、好ましくは、インプリント型が配置された状態で組成物がＵＶ硬化されるようにＵＶ透明性である。硬化性組成物は、有機修飾ケイ酸塩化合物と二次分解性有機化合物を含み、後者は、有機化合物が後で分解されてポリケイ酸塩のマトリックスを生成するときにナノスケールの細孔を形成する。その細孔は、別のやり方では密な二酸化ケイ素の有効誘電率を低下させる。
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本発明は、記録層（１２）と基板層（１４）とを有する光学式記録に対するマスタ基板（１０）に係る。記録層は、成長優位の位相変化材料を有し、その化学剤に対する化学的特性は、記録層上に光を投射することによってもたらされる位相変化によって変えられ得る。トラッキングする目的に対して、基板層は、プレグルーブ（１６）を有する。本発明は更に、高密度凹凸構造をレプリカするスタンパを作る方法に係る。

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【課題】モールドのパターンを連続して精密に基板上に転写できるパターンの形成方法およびパターンが精密に転写された物品を提供する。
【解決手段】フッ素含有量が４０〜７０質量％の重合性化合物（Ａ）および重合開始剤（Ｂ）を含有する硬化性材料を基板１２上に塗布する工程と、凹凸パターン１３が形成されたモールド１４を基板１２上の硬化性材料に押しつける工程と、硬化性材料を硬化させる工程と、硬化性材料の硬化物１６からモールド１４を分離する工程とを有するパターンの形成方法により解決される。 （もっと読む）

【課題】 像面との間の光路中に液体を介在させて例えば１．４よりも大きな実効的な像側開口数を確保しつつ、比較的大きな有効結像領域を確保することのできる投影光学系。
【解決手段】 第１面（Ｒ）の縮小像を第２面（Ｗ）に投影する投影光学系。投影光学系の光路中の気体の屈折率を１とするとき、投影光学系と第２面との間の光路は１．５よりも大きい屈折率を有する液体（Ｌｍ）で満たされている。投影光学系は、第１面側が気体と接し且つ第２面側が液体と接する境界レンズ（Ｌｂ）を備え、境界レンズは、正の屈折力を有し、１．８よりも大きい屈折率を有する光学材料により形成されている。 （もっと読む）

本発明は、汚染物の存在、形状、間隔を開けた基板間の空間的関係などの、基板の特性を求めるための技術を提供する。この空間的関係は、第１及び第２の間隔を開けた基板間の距離と角度の向きを含む。この技術は、第２の基板上に、ある液体のボリュームであって、そのボリュームと関連するある面積を有する液体を形成することを含む。この液体のボリュームは、第１及び第２の基板間で圧縮されその面積の性状に変化を引き起こし、変化した性状を決める。変化した性状が検知され、第１及び第２の基板の特性は、この変化した性状の関数として求められる。
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【００３６】
【課題】
【００３７】
ポリイミド樹脂のガラス転移点によらず微細なパターンをスタンピング成形するための優れた方法を提供することにある。
【解決手段】
【００３８】
基材表面にポリアミド酸溶液を塗布し、一部乾燥させた後、減圧装置内で１００℃以上に加熱したモールド材を熱圧着させた後にモールド材を引き剥がしてポリイミド樹脂微細パターンを形成することを特徴とするポリイミド樹脂微細パターンの成形方法により上記課題を解決しうる。ポリアミド酸溶液の粘度は、２３℃で５０Ｐａ・ｓ以上３０００Ｐａ・ｓ以下であり、固形分濃度が５〜４０重量％であることが好ましい。
【００３９】
なし （もっと読む）

本発明は、顕微鏡的構造体の製作設備用の支持構造物（１）であって、製作設備を固定するための弾性要素を有する固定要素（６）が設置される一体形基礎本体（３）を有する支持構造物に関する。支持構造物に関する。固定要素は、剛性要素（１０）を更に有し、所定のしきい値を超える動的力を固定要素に加えると、剛性要素の剛性は、著しく減少する。支持構造物は、更に、固定要素に加えられた動的力の大きさとは関係なく、固定要素に加えられた静的力が実質的に弾性要素を介して基礎本体に伝達されるように設計されている。
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【課題】オペレータ操作効率を向上させるアプリケーションを提供する。
【解決手段】図４（Ａ）に示されるプルダウンメニューの右ボタンをクリックすると、図４（Ｂ）に示されるように、メニュー項目としてのパラメータの設定値が表示される。メニューの中から選択すべき設定値にカーソルを合わせクリックすることにより、その設定値を指定すると、図４（Ｃ）に示されるように、一番上の設定パラメータ表示欄には、数値「１００」が表示されるようになる。さらに、３３０が選択された場合には、図４（Ｄ）に示されるように、「１００」の上に、「３３０」が表示されるようになる。 （もっと読む）