【課題】基板の表面、特に感光性が低い基板表面、あるいは撥液剤、カップリング剤、プラズマ処理等で表面処理を行なった基板表面にパターニングを行うに際して、より短時間での露光パターニングを可能とし、併せて露光パターニングの精度も向上させることができるパターニング方法を提案する。
【解決手段】露光パターニングしようとする基板１の表面にオゾン水２を接触させながら、紫外線３を露光マスク３０を介して基材１の表面に照射して、基材１の表面をパターニングする。 （もっと読む）

【課題】スルーピッチにおいても最大性能を引き出し得る、最適化された露光光の光強度分布を設定するための光強度分布設定方法を提供する。
【解決手段】光強度分布設定方法は、露光光源から射出される光を所定の位置に位置する４つの点光源のそれぞれから射出されると想定した光が、露光用マスクに形成されたＱ種類の所定のピッチＰ_qを有するパターンで回折されて、結像したときの光強度分布を計算により求め、該光強度分布からＮＩＬＳ値である値Ｓ_qを算出し、各ピッチＰ_qにおいて設定された重率ＷＴ_qと値Ｓ_qとの積の和の平均値Ｓ_OPTのマップを算出し、平均値Ｓ_OPTのマップが得られるように露光光源から射出され、露光用マスクへ入射する光の角度に対する光源強度分布を設計する工程から成る。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィにおいて、バリア膜を除去する際の溶解性（除去容易性）を向上して、良好な形状を有する微細パターンを形成できるようにする。
【解決手段】まず、基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成する。その後、形成したレジスト膜１０２の上に、溶媒が水性である第１のバリア膜１０３を形成し、続いて、第１のバリア膜１０３の上に、溶媒がアルコールである第２のバリア膜１０４を形成する。続いて、第２のバリア膜１０４の上に液体１０５を配した状態で、第１のバリア膜１０３及び第２のバリア膜１０４を介してレジスト膜１０２に露光光１０６を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。続いて、第１のバリア膜１０３及び第２のバリア膜１０４を除去した後、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して現像を行なうことにより、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】制御系を複雑化することなく、異なる２つの位置から操作を行うことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、清浄度の異なるエリアＡ１とエリアＡ２とにまたがって配置されている。基板処理装置１の操作パネル３０は、エリアＡ１とエリアＡ２の間を仕切るパーテーション９０に沿って設けられている。そして、操作パネル３０は、鉛直軸まわりに回転し、表裏を反転させることができる。このため、エリアＡ１とエリアＡ２の双方から、操作パネル３０を操作することができる。１つの操作パネル３０を反転して使用するので、複数の操作が同時に行われる心配もなく、複数の操作パネルを切り換えるための複雑な制御系も不要である。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光において、投影光学系の最終レンズの信頼性を高め、優れた結像性能を実現する露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 レチクルのパターンの像を被処理体に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系の最も前記被処理体側の光学素子と前記被処理体との間の液体及び前記投影光学系を介して前記被処理体を露光する露光装置であって、前記光学素子は、前記被処理体側に配置され前記液体に接触する石英ガラスと、前記石英ガラスに密着するフッ素ドープ石英ガラスと、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 液浸露光に用いる投影光学系の光学性能を精度良く検査できる検査装置を提供する。
【解決手段】 検査装置ＩＮＳは、投影光学系ＰＬの像面側に設けられ、液体ＬＱを保持可能な周壁部７１を有する液体保持部材７０と、周壁部７１の内側に設けられた反射球面８Ｓと、反射球面８Ｓで反射した測定光を投影光学系ＰＬを介して光電検出する光電検出器と、周壁部７１の外側に設けられ、周壁部７１の上面を通過して周壁部７１の内側より流出した液体ＬＱを回収する回収溝７３とを備えている。 （もっと読む）

本発明は基板をウェハ・チャックに保持する方法に向けられる。この方法は基板の一部分をウェハ・チャックに向けて加速させ、ウェハ・チャックへ向かう基板の移動の速度を生成させ、基板がウェハ・チャックに到達する前に速度を下げることを特徴とする。この方式で、ウェハ・チャックとこの部分の衝突の力が大幅に削減され、これは基板の構造的完全性が傷つけられる可能性、さらには基板上の層および／またはウェハ・チャックが傷つけられる可能性を下げる。
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【課題】 液浸リソグラフィにおいて、レジストパターンに生じる形状不良を防止できるようにする。
【解決手段】 基板の上に、塩基性化合物と脂肪族ジオール化合物と芳香族ジオール化合物とを含むレジスト膜１０２を形成する。続いて、形成したレジスト膜１０２の上に液体１０４を配した状態で、レジスト膜１０２に露光光１０５を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。続いて、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して現像を行なうことにより、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】最小寸法（ＣＤ）の計算で使用するレジスト・モデルの較正におけるガウシアン拡散カーネルが異なる方向に同じ拡散長を有する制限をなくしたシミュレーション・プロセスの提供。
【解決手段】ウエハ上でレジストを形成するのに使用する光学ツールに基づいて、用量関数を得る。用量関数は、レジストでのエネルギー量を示す。用量関数をコンボリューション・カーネルでコンボリューションして、修正用量関数を得る。コンボリューション・カーネルは、異なる方向に可変拡散長を有する。コンボリューション・カーネルは、それぞれ異なる方向に可変拡散長を有する複数のガウシアン・カーネルを含み得る。修正用量関数をＣＤ値に変換し、それを目標値と比較する。必要な場合には、この比較結果に基づいて、ガウシアン・カーネルの拡散長を調節する。 （もっと読む）

【課題】 レジストパターンをマスクにして形成されるパターンの形状不良を抑制すること。
【解決手段】 ポリシリコン膜１０上にレジストパターン１２を形成する工程と、前記レジストパターン１２の表面に樹脂膜１４が選択形成されたマスクパターン１２，１５を形成する工程と、前記マスクパターン１２，１５のスリミングを行う工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】所望のパターンが形成された転写層を形成する方法を提供する。
【解決手段】フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレンおよびヘキサフルオロプロピレンからなる群から選ばれる少なくとも１種のフルオロオレフィンに基づく繰り返し単位と架橋性基とを含む熱可塑性の含フッ素重合体を含有する転写層に所望のパターンの反転パターンを有するモールドを押し付けて転写層に所望パターンを形成する工程および該モールドを転写層から離脱させる工程を具備する転写層にパターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】液浸露光に用いる投影光学系の光学性能の劣化を防止して精度良く検査できる検査装置を提供する。
【解決手段】検査装置は、投影光学系ＰＬの像面側に第１液体ＬＱを供給して検査を行う検査部ＳＴ１と、検査後の投影光学系ＰＬのうち第１液体ＬＱに接触した液体接触面に第２液体ＬＱ’を接触させる処理部ＳＴ２とを備えている。 （もっと読む）

本発明はテンプレート内に含まれるモールドを基板上に配置された層から分離させる方法に向けられ、この方法はとりわけ、層からテンプレートを分離させるためにテンプレートに分離強制力を印加する工程、および分離を達成するために必要とされる分離強制力を小さくするために基板内の局所的変形を促す工程を含む。
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【課題】 小型で、壊れ難く、振動数を容易に調節することができる型可動装置、加工対象物可動装置及びこれらを用いた加工装置を提供すること。
【解決手段】 型１００を保持する型保持部２と、加工対象物を保持する加工対象物保持部と、を有し、型１００で加工対象物を加工する加工装置であって、型１００に接続される磁歪素子３と、磁歪素子３に対し、磁界を加える磁界付加手段４と、磁界付加手段４の磁界の大きさを調節する磁界調節手段５と、磁歪素子３の磁化状態を検出する磁化特性検出手段７と、磁化特性検出手段７が検出した情報に基づいて、磁歪素子に付加されている応力および磁歪素子の変位量の少なくともいずれか一方を計算する制御手段３００と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】フィルターを用いたつなぎ露光に置いて、光量分布の微視的な誤差を抑制すること。
【解決手段】透過光量が略均一な透過領域と、透過領域を挟むように形成された遮蔽領域とを具備するフィルターと、繋ぎ露光用の原版と、基板が載置されるステージと、基板上での光量を所定幅変化させる光量変化手段とを具備する露光装置を用意する；原版と基板との光学的な位置関係が第１の状態で、第１の原版領域に形成されたパターンを第１の基板領域に転写する；第１の状態で第２の原版領域に形成されたパターンを第２の基板領域に転写する；原版と基板との光学的な位置関係が第２の状態で、第３の原版領域に形成されたパターンを第１の基板領域に前記所定幅重なる第３の基板領域に転写する；第２の状態で第４の原版領域に形成されたパターンを第２の基板領域に所定幅重なる第４の基板領域に転写する。 （もっと読む）

液体レジストとして使用される、材料組成物は、単量体部分及び少なくとも一個の陽イオン重合性の官能基を含む第一の成分、並びに、その第一の成分と反応性の且つ少なくとも三個の陽イオン重合性の官能基を含む架橋剤を含む。その材料組成物は、また、陽イオンの光開始剤を含む。ＵＶ光に対する露出の際に、その材料組成物は、その第一の成分、その架橋剤、及びその陽イオン性の光開始剤の反応生産物である硬化したレジストフィルムを形成するための硬化を介して、架橋する。物品は、基体の層、及びその材料組成物からその基体の層に形成されたレジスト層を含む。 （もっと読む）

【課題】１つのサンプルで測定された結果に基づいて畳み込み積分を行うことができることから、準備に手間と時間が余りかからないレジストパターン予測方法を実現する。
【解決手段】必要なデータを入力し（Ｓ１，Ｓ２）、そのうちマスクパターンのデータとサンプル作製時の露光条件とに基づいて、原光学像Ｉ_０を算出する（Ｓ４）。つぎに、プロセスファクタの広がりを表す確率密度関数と原光学像Ｉ_０との畳み込み積分を、確率密度関数のばらつき度合を表すパラメータσの値と、パターン寸法を規定するスライスレベルＩthとを変えながら繰り返す。このとき畳み込み積分を繰り返す過程または結果から、レジスト寸法Ｗが測定されている複数の箇所に対応した光学像Ｉｋの複数の位置で光強度レベル差が十分小さくなるパラメータσを特定する（Ｓ５）。この特定後のパラメータσｋに基づいて、マスクパターンＭＰを露光により転写するときのレジスト潜像の予測プロファイルＩ(find.)を確定する。その後、必要に応じて所望のレジスト寸法Ｗを算出する（Ｓ６）。
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【課題】本発明は，精巧な形状に被加工材を加工できる加工装置を提供すること，特に付加的素子を取り替えた場合であっても，所定の位置に新たな付加的素子を設置でき，再度同じ被加工材を加工できる加工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の加工装置（１）は，被加工材搭載基盤（２）と，被加工材の位置調整機構部（３）と，付加的素子搭載基盤（４）と，付加的素子の位置調整機構部（５）と，傾斜制御機構部（６，７）と，マーキング位置感知機構部（８）と，接触感知機構部（９）と，位置決め機構部（１０）と，観測機構部（１１）と，光導入機構部（１２）と，位置調整機構部（１３）と，光源（１４ａ，１４ｂ，１４ｃ）と制御部（１５）とを具備する加工装置に関し，所定の測定系（８，９，１０）によって，付加的素子と被加工材との位置関係を制御し，さらには光により二次加工を可能とすることにより上記の課題を解決する。
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【課題】微細パターンを形成するために有用なモールド、および該モールドを用いて製造された表面に微細パターンを有する物品を提供する。
【解決手段】表面に微細パターンを有し、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン、ペンタフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレン、フルオロアクリレートおよびフルオロメタアクリレートからなる群から選ばれる少なくとも１種のフルオロモノマーに基づく繰り返し単位を含む含フッ素重合体の０．１質量％以上を含有するモールド。たとえば、該モールドを熱可塑性樹脂に熱圧着させて該モールドの微細パターンを該熱可塑性樹脂に形成する工程および該モールドを該熱可塑性樹脂から離脱させる工程を具備する方法で製造された表面に微細パターンを有する熱可塑性樹脂。 （もっと読む）

【課題】新規のインプリント方法を提供すること。
【解決手段】基板上の流動可能な状態にある光硬化性のインプリント可能な媒体を媒体の硬化を開始させる放射によって照射する工程と、照射する工程の後に、媒体をテンプレートに接触させて媒体中にインプリントを形成する工程と、媒体がテンプレートに接触している間、媒体が実質的に流動不可能な状態にあるようにして媒体の実質的な硬化を可能にする工程と、媒体が実質的に流動不可能な状態にある間に、媒体からテンプレートを分離する工程とを有する、インプリント方法が開示される。 （もっと読む）