本発明は、サポート・ボディと、フローティング・ボディと、複数のたわみアームとを備えたコンプライアント・デバイスを対象としている。複数の伝達アームは、それぞれ、サポート・ボディとフローティング・ボディの間に接続されており、それらの間で並列に荷重を伝達している。そのために、たわみアームは、第１のセットと第２のセットのたわみ継手を有している。第１のセットのたわみ継手は、第１の方向に沿って展開している第１の軸の周りの前記たわみアームの回転動きを容易にしている。第２のセットのたわみ継手は、第１の方向に対して横方向の第２の方向に沿って展開している第２の軸の周りのたわみアームの回転動きを容易にするようになされている。たわみ継手は回転継手である。
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【課題】液浸結像系の測定に適し、且つ浸漬液による測定精度の低下を回避する測定システムを提供する。
【解決手段】結像系の物体面上に配置されたパターンを結像系の像面上に結像するために設けられた光学結像系であって、結像系の物体側及び像側の少なくとも一方の上に配置された浸漬液によって結像することができる液浸系として構成される光学結像系の光学測定用の測定システムにおいて、測定構造体を有する少なくとも１つの構造体キャリアであって、浸漬液の領域内に配置されるように設けられ、且つ保護システムを割り当てられ、それにより、浸漬液によって引き起こされる劣化に対する測定構造体の耐性を高めるようにした構造体キャリアを備える、測定システム。 （もっと読む）

本発明は、間隔を隔てた２つの軸に対する角度的な動きを駆動システムに与えることによって展開する平面内におけるボディの並進動きを特徴とする、駆動システムに結合されたボディの動きを制御する方法およびシステムを対象としている。詳細には、一方の平面がボディが並進する平面に平行に延びている、間隔を隔てた２つの平面内における回転動きが生成される。したがって、ボディから間隔を隔てた表面に対するボディの適切な配向が容易になる。
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放射線で露光した時に固化するように設計された材料の表面層（１４）を支持する基材（１２）に、構造化された表面（１１）を有するテンプレート（１０）からパターンを転写する方法であって、インプリント装置中で、構造化された表面が表面層に面するように、テンプレートと基材とを互いに平行に配置し、ヒーター装置手段（２０）によって、テンプレートおよび基材を温度Ｔ_ｐに加熱し、温度Ｔ_ｐを維持しながら、テンプレートを基材に向かって押しつけ、パターンを前記表面層の中にインプリントし、表面層を放射線（１９）で露光して、表面層を固化させ、そして前記表面層を後焼き付けすることを含む方法。
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本発明は、基板表面上にパターン、特に一、二または三次元の選択された長さのマイクロサイズおよび／またはナノサイズの特徴部を有する構造を含むパターンを作製するための方法、デバイスおよびデバイスコンポーネントを提供する。本発明は、各種基板表面および表面形態上に高解像度パターニングを与えるために、ヤング率および曲げ剛性等の選択された機械的特性、厚さ、表面面積およびレリーフパターン寸法等の選択された物理的寸法、および熱膨張係数等の選択された熱的特性をそれぞれが有する複数のポリマー層を備える複合パターニングデバイスを提供する。 （もっと読む）

【課題】ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィーを用いる分離微小構造及び分離ナノ構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】本開示の主題は、フッ化エラストマー系材料の使用、詳細には、マイクロスケール及びナノスケールの複製成形、及びエラストマー型を用いて再現性の高い形状生成するための有機材料の第１のナノ接触成形など、高解像度のソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー用途におけるパーフルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）系材料の使用を記載する。したがって、本開示の主題は、ソフトリソグラフィー又はインプリントリソグラフィー技術を用いて任意の形状の自立分離ナノ構造を製造する方法を記載する。 （もっと読む）

本発明は、基体と、該基体上に、加水分解性基及び／又は水酸基を合計で２以上有する金属化合物、加水分解性基及び／又は水酸基を合計で２以上有する金属キレート化合物、金属有機酸塩、並びにこれらの部分加水分解生成物からなる群から選ばれる少なくとも一種に、水を添加して得られた第１の薄膜形成用組成物から形成された第１の薄膜と、該第１の薄膜上に、有機金属化合物から形成された第２の薄膜を有することを特徴とする光感応性基体、並びにこの光感応性基体の所定部分を光照射し、光照射された部分の有機金属化合物の光持性の変化を利用すること、分解及び／又は除去することを特徴とするパターニング方法である。本発明によれば、紫外光に対して高感応性の光感応性基体、及びこの光感応性基体を使用して、短時間で微細なパターニングが可能なパターニング方法が提供される。 （もっと読む）

ウエハ（Ｗ１（又はＷ２））の同一レジスト層に対して複数回の露光を行うに際し、複数回の露光のうちの少なくとも１回の露光では、例えば、露光光（ＩＬ）をウエハ（Ｗ１（又はＷ２））上に投射する投影光学系（ＰＬ）とウエハとの間の空間を液体給排ユニット（３２）により水で浸すことにより、ウエハに到達する露光光（ＩＬ）の実質的な波長を、他の回の露光における露光光（ＩＬ）の実質的な波長とは異なるようにする。これにより、高精度かつ高スループットな露光を実現する。 （もっと読む）

集束力のほとんどが反射によってつくられ、収差の付加を避けるために屈折角が制限される、大開口数対物光学系を特徴とするマイクロリソグラフィ投影用反射屈折結像光学系。開口数を上げるために像面補正光学素子が浸漬構成でマンジャンミラーに添えられる。マンジャンミラーと像面補正光学素子の間の光結合は入射角または屈折率差を制限することによって屈折角を制御するように構成される。像コントラストを向上させるために径方向対称偏光化効果がひとみにおいて達成される。
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像面との間の光路中に液体を介在させて大きな実効的な像側開口数を確保しつつ、コンパクションの影響や浸液による損傷を実質的に受けることなく良好な結像性能を長期間に亘って維持することのできる結像光学系。結像光学系の光路中の雰囲気の屈折率を１とするとき、結像光学系と第２面（Ｗ）との間の光路は１．１よりも大きい屈折率を有する液体（Ｌｍ）で満たされている。結像光学系中の最も第２面側には、第１光学材料により形成されて液体と接する第１光学部材（Ｌｂ１）と第２光学材料により形成された第２光学部材（Ｌｂ２）との接合からなる接合光学部材（Ｌｂ）が配置されている。第１光学部材の厚さをＴＡとし、第２面における最大像高をＩＨとするとき、０．１＜ＴＡ／ＩＨ＜１．１の条件を満足する。 （もっと読む）

清浄度の低下した液体を供給してしまう不都合を防止するとともに、ウォーターマークが形成される不都合を防止することができる露光装置を提供する。露光装置（ＥＸ）は、投影光学系（ＰＬ）と液体（ＬＱとを介して基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して、基板（Ｐ）を露光するものであって、液体（ＬＱ）を供給するための液体供給機構（１０）と、液体供給機構（１０）からの液体供給の停止時間を計測する計測器（６０）とを備えている。 （もっと読む）

ナノスケールリソグラフィー法について示した。導電性および絶縁性表面のパターンを有する再利用可能な導電性マスクが、基板上に設置される。この基板表面には、埋没導電層上に電気感応性レジスト層が設けられている。導電性マスクと埋没導電層の間に、電場が印加されると、レジスト層は、マスクの導電性領域と近接する部分が変化する。マスクの除去後に、基板表面の選択的処理が実施され、マスクによる転写パターンに対応するレジスト層の部分が除去される。基板は、最終基板であっても良く、あるいは基板は、別の基板のリソグラフィーマスクステップに利用されるものであっても良い。本発明のある態様では、電荷が印加された電極は、例えば、複数の行列に分割され、特殊なマスクを製作せずに、いかなる所望のパターンも形成することができる。

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投影光学系と基板との距離が近接している場合であっても、容易に投影光学系と基板或いは基板ステージとの衝突を回避することができる露光装置を提供する。マスク（Ｒ）に形成されたパターン（ＰＡ）を基板（Ｗ）上に投影して転写する投影光学系（３０）と、投影光学系（３０）の下方に配置され、基板（Ｗ）を支持しつつ投影光学系（３０）の光軸（ＡＸ）方向に略直交する方向に移動する基板ステージ（４２）とを有する露光装置ＥＸにおいて、投影光学系（３０）の外周に配置され、基板ステージ（４２）或いは基板Ｗの光軸（ＡＸ）方向に沿った位置を検出する検出部（８１）と、検出部（８１）の検出結果に基づいて基板ステージ（４２）の移動を停止或いは反転させる制御装置（７０）とを備える。 （もっと読む）

偏光変調光学素子（１）であって、当該偏光変調光学素子は旋光性材料から成り、厚さプロファイルを有し、当該厚さは光軸の方向において測定され、光学素子の領域にわたって変化する。この偏光変調光学素子（１）は、次のような効果を有している。すなわち、第１の直線偏光光線の振動面および第２の直線偏光光線の振動面がそれぞれ、第１の回転角度および第２の回転角度で回転されるという効果を有している。ここで第１の回転角度と第２の回転角度は相互に異なっている。
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リソグラフィ装置の少なくとも２つの部材を接合するための方法が開示される。この方法は、第１の部材１を提供するステップと、第２の部材２を提供するステップと、第１の部材と第２の部材とを直接結合して、直接結合を形成するステップと、第１の部材と第２の部材とを陽極結合するステップとを含む。部材の少なくとも１つが、超低膨張ガラスおよび／または超低膨張ガラス・セラミックスを含む。
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本発明の実施形態はＵＶに耐える液晶セルに関連する。本発明の一実施形態は、セル内に入れられる液晶材料の体積を増やすことである。たとえば、トレンチを用いて、さらに多くの液晶材料を保持する貯留場所（２４、２８）を設けることができる。本発明の別の実施形態は、配向膜として有機材料を用いる代わりに、セル内に無機配向膜（３３）を用いる。本発明のさらに別の実施形態は、ポンプ（９１）を用いて、セルの中で液晶材料を循環させる。本発明のセルは、フォトリソグラフィイメージングシステム（５０）においてＳＬＭ（５３）として用いることができる。
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光学的素子、すなわち結晶質フッ化マグネシウム、石英、フッ化ランタン、サファイアおよびα−酸化アルミニウムのレンズまたは平面状の平行なプレート（端部が閉鎖されたプレートとして使用される）を有するマイクロリソグラフィー投影用対物レンズが提案される。適当な結晶学的配向、結晶１０組合せ、光の偏光が記載される。適当な用途は最高の数字による開口値を使用するＤＵＶおよびＶＬＮ領域の浸漬リソグラフィーまたは近視野リソグラフィーに関する。
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センサ構造１０を使用して、基板を処理するようになされた装置の特性、例えば光学特性を測定することができる。センサ構造は、集積回路として提供された複数のセンサ・エレメント２をその中に有する基板１を備えており、複数のセンサ・エレメントの各々は、センサ・エレメントに接続された処理回路６と、処理回路に接続された入／出力インターフェース８と、電源ユニット９とを備えた電子回路に結合されている。電源ユニット９は、複数のセンサ・エレメントのうちの使用中の１つ又は複数のセンサ・エレメントと結合している電子回路にのみ動作電力を供給するようになされている。少なくとも１つのセンサ・エレメント２及び場合によっては処理エレクトロニクス４、入／出力インターフェース８及び／又は電源ユニット９は、１つ又は複数の集積回路として、或いは他の構造として基板１の中に提供することができる。
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本発明は、３Ｄ構造の対称パターン及び非対称パターンを含む３Ｄ構造及び３Ｄ構造のパターンを基板表面上に形成するための方法及び装置を提供する。本発明の方法は、数十ナノメートル〜数千ナノメートルの範囲の横寸法及び縦寸法を含む正確に選択された物理的寸法を有する３Ｄ構造を形成するための手段を与える。一態様においては、フォトプロセスを受ける放射線感応材料とのコンフォーマル接触を確立できる適合可能なエラストマー位相マスクを備えるマスク要素を使用する方法が提供される。他の態様においては、形成される構造の厚さ全体にわたって延在しないナノスケール形態を有する複雑な構造を形成するために、フォトプロセスのために使用する電磁放射線の時間及び／又は空間コヒーレンスが選択される。 （もっと読む）

構造化された表面を有するテンプレート（１０）から放射重合可能流動体（１４）の表面層を保有する基板（１２）へパターンを転送する装置および方法。装置は、対向する表面（１０４、１０５）を有する第１の主要部分（１０１）および第２の主要部分（１０２）、上記主要部分の間の間隔（１１５）を調整する手段、上記構造化された表面が上記表面層と対面するように上記間隔の中で上記テンプレートおよび基板を相互に平行した係合関係に支持する支持手段（１０６）、上記間隔の中へ放射を放出するように構成された放射源（１１０）を備える。キャビティ（１１５）は、上記テンプレートまたは基板を係合するように構成された可撓性膜（１１３）を含む第１の壁を有し、上記キャビティの中に存在する媒体へ調整可能超過圧力を加える手段（１１４、１１６）が設けられ、基板とテンプレートとの間の接触面の全体にわたって均一に分布する力が得られる。
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