本発明では、ソフトリソグラフィー用スタンプ（30）、およびそのようなスタンプ（30）を製作する方法が提供される。本発明によるスタンプは、ブロック領域（37）およびプリント領域（38）を有する。ブロック領域（37）は、プリント領域（38）を構成する材料とは異なる材料で構成され、プリント化合物に対する透過率、拡散率、吸収率または吸着特性が抑制されており、これにより、ブロック領域から被パターン化基板もしくは被プリント基板への、プリント化合物の化学的もしくは物理的な輸送もしくは転写が防止され、または有意に抑制される。この方法では、スタンプ（30）にプリント化合物を含浸させると、プリント化合物は、プリント領域（38）にのみ拡散するため、プリント化合物は、被パターン化基板のプリント領域（38）にのみ転写され、突出素子（32）同士の間の空気ボイド（33）を介したプリント化合物の拡散は、実質的に生じない。
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【課題】大面積基板に対応する大きさを有すると共に、陸送可能な定盤片に分割できる定盤を有することにより、容易に陸送でき、輸送コストを安価に抑えることができるＸＹステージ装置を提供する。
【解決手段】所定の長さ、幅及び厚さを有し、平坦な上面を有する定盤１００と、前記定盤１００の上面上でアクチュエータ２００によって移動可能に構成される可動ステージ２０とを備えるＸＹステージ装置において、前記定盤１００は、幅方向に対して分割された定盤片１０１ａの接合体であると共に、前記アクチュエータ２００は、前記可動ステージ２０の移動時に前記定盤片１０１ａ同士の接合部を跨がないように配設される。 （もっと読む）

【課題】 機器の生産性が向上するとともに、機器の管理を並行して容易に行うことができるようにすることを目的とする。
【解決手段】 本発明は、複数のコントローラとパソコンなどの情報装置を有する機器において、コントローラ間に機器の動作を制御するための第１の通信手段を設けるとともに、コントローラとパソコン間を前記第１の通信手段とは独立した第２の通信手段を設ける。 （もっと読む）

本発明は、製造プロセスの実行を容易にするシステムおよび方法を提供する。クリティカルパラメータが総括的に品質行列として評価され、品質行列は１つ以上の設計目標に対するそれぞれのパラメータの重要性に応じて重み付けする。クリティカルパラメータは、製品設計、シミュレーション、試験結果、歩留りデータ、電気的データなどの情報に従って係数によって重み付けされる。次に、本発明は、現在の製造プロセスの複合的な「スコア」である品質指標を生成し得る。次に、制御システムが、品質指標と設計仕様を比較して、現在の製造プロセスが許容できるかどうかを判定し得る。プロセスが許容できない場合、実行中のプロセスの試験パラメータが変更され得、完了したプロセスについてプロセスが再処理および再実行され得る。このように、製品設計および歩留りに応じて、異なる仕様および品質指標についてデバイスのそれぞれの層をカスタマイズすることができる。
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【課題】 露光用マスクの破壊防止と寿命の向上が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 加減圧手段５１により、微小開口パターンを有する露光用マスク１０９を加減圧により弾性変形させて被露光物１１０Ａに接触、又は剥離させると共に、制御手段２００により加減圧手段５１による加減圧動作を制御する。さらに、制御手段２００により、加減圧手段５１による加減圧動作を予め用意された制御データに基づいて制御することにより、急激な加圧や減圧による露光用マスク１０９への衝撃負荷を低減することができるようにする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、レチクルチャック面のクリーニングを自動的に行い、露光装置のダウンタイムを低減することが可能な露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 レチクル搬送装置またはレチクル交換装置のいずれかを用いてレチクルチャック面をクリーニングする工具を搬送し、この工具を用いてレチクルチャック面のクリーニングを行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、環境制御されたチャンバー内部に基板の搬出入を行うロードロック機構において、チャンバー内部とロードロック内部の圧力差を短時間でなくし、ロードロック内部とチャンバー内部を繋いだときのパーティクルの巻き上げ等を防止することのできるロードロック機構を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、互いに独立した2つ以上の異なる雰囲気の空間のそれぞれとゲートバルブを介して連結自在であるロードロック機構において、前記空間のうち少なくとも1つの空間と、少なくとも1つのロードロック機構とを、少なくとも１つの圧力調整手段を介して連結したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来のような写真製版を行うことなく、基板上に樹脂構造物をダイレクトに、かつ簡単に、しかも高精度に形成することができ、その際のプロセスを短時間化する。
【解決手段】 液状樹脂接着剤によるドットが形成される部材８と、この部材を保持する保持手段７と、前記部材と相対する位置に配置され移動可能な移動装置に搭載された噴射ヘッド１１と、ドット形成情報入力手段と、ドット形成制御手段とよりなる液状樹脂接着剤ドット形成装置において、該液状樹脂接着剤ドット形成装置で使用する前記液状樹脂接着剤は、光若しくは熱によって硬化する材料からなるとともに、前記液状樹脂接着剤供給手段は前記液状樹脂接着剤を硬化させる光を遮断するチューブからなる。 （もっと読む）

基板の端面又は内部側面に配線を行う近接パターン転写法において、配線パターンを定めるストリップ（76）に必要な露光は、回折構造部（74）を有するマスク（70）を用いて行われ、露光放射線（ｂ）は側面に偏向される。マスクに対して垂直に入射する露光ビームが用いられ、近接隙間幅の変動に対する許容性が向上する。本方法では精密かつ微細な配線を製作することができる。
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【課題】 従来技術のフォトリソグラフィ処理を行うラインにおいて、複数の露光装置間に温度差等の環境の変動や露光装置自体の経時的な変動が発生することより、１つのカセット内の複数基板を前記複数の露光装置で露光処理した結果、露光装置によって基板上に露光された複数の液晶パネル等の配列位置関係に差が生じることがある。
【解決手段】 本発明は、複数の露光装置が接続されたフォトリソグラフィ・ラインにおいて、１つのカセット内に存在する基板を全て同一の露光装置で露光を行うことを特徴とする。また、複数のカセットがフォトリソグラフィ・ラインに投入された場合には、それら複数のカセット内の基板を同時にラインに流品するが、１つのカセット内の基板を全て同一の露光装置で露光を行うように制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 半導体デバイスの、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度の微細なパターン形成用として、ナノインプリントリソグラフィにおいても、対応できる位置精度を有するインプリント方法、インプリント装置を提供する。同時に、そのようなインプリント装置に用いられる型部材を提供する。更には、このようなインプリント方法を用いた半導体素子形成のためのパターニング方法を提供する。
【解決手段】 加圧に際し、互いに嵌合し、所定の位置で保持される凹構造、凸構造を１組として、互いに嵌合する凹構造、凸構造をそれぞれ型部材側、基板側に分けて、１組以上配設し、これら凹構造、凸構造からなる各組を、それぞれ、型部材と基板との、位置合わせ部として、該位置合わせ部にて位置合わせを行う。 （もっと読む）

【課題】 複数の種類の処理を、当該種類に適した順序で処理できる露光装置および当該露光装置に係る技術を提供すること。
【解決手段】 露光装置は、入力された第１の種類の処理内容の情報を管理する第１の管理部と、入力された第２の種類の処理内容の情報を管理する第２の管理部と、前記第１および第２の管理部により管理された情報に基づき、前記第１の種類の処理内容および前記第２の種類の処理内容のいずれかに対応した処理の実行制御を行う制御部とを備える。前記制御部は、前記第１の管理部により管理された情報に基づき、前記第２の管理部により管理された前記第２の種類の処理内容に対応した処理の実行制御へ移行可能か否かを判断する。 （もっと読む）

【課題】 多品種生産が多くなってきたことにより、フォトリソグラフィ処理を行うカセット単位で露光処理時間が異なってくる場合が多く、その際のカセット毎のスループット差により、１つの露光装置は露光処理を行っているが、他の露光装置は処理する基板が搬送されずに待ち状態になり、生産性を悪くしているような状態であった。
【解決手段】 本発明は、複数台の露光装置と、複数の基板収納カセットを載置可能なカセット・ステーションと、前記複数の露光装置へ前記カセット内の基板を搬送する基板搬送ロボットと、生産ラインの管理を行うホストコンピュータとを備える露光処理ラインにおいて、前記複数のカセットに収容される基板の露光処理に要する時間をホストコンピュータで管理することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 より高精細なパターンの形成が可能な、液滴吐出法を用いた半導体装置の作製方法の提供を課題とする。
【解決手段】 パターンが形成されたモールドを絶縁膜に押し付けた状態で絶縁膜の硬化を行なった後、モールドを取り外すことで、絶縁膜に凹部を形成し、導電材料を有する液滴を吐出することにより、凹部に導電膜を形成し、導電膜を覆うようにゲート絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜上に島状の半導体膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。 （もっと読む）

【課題】 半導体デバイスの、数ｎｍ〜数十ｎｍ程度の微細なパターン形成用としての、ナノインプリントリソグラフィにおいても、対応できる生産性を有するインプリント方法、インプリント装置を提供する。
【解決手段】 型部材１３０の凹凸パターンが形成された表面部の円筒形の中心軸を中心として所定の角度範囲の曲面部１３５全体の形状を外側に突出させて、前記中心軸に平行な該曲面１３５の直線部を基板面に沿うように回転させ、且つ、基板面に沿って基板１１０を型部材１３０に対し相対的に移動して、型部材１３０と基板１１０との間隙におけるＵＶ硬化性樹脂１２０を所望の形状にする。 （もっと読む）

【課題】 簡便に精度良くフォーカス変動量を計測することが可能となる。また、そのフォーカス変動の結果を次ロットや次工程に反映させることにより、精度良く微細なパターンを形成する。
【解決手段】 ウェーハ上に転写形成された複数の転写パターンのうち、最適な焦点位置の相異なる少なくとも一対の転写パターンについて、これらの各寸法を測定する寸法測定手段１と、一方の寸法と他方の寸法との差分値を求める差分値算出手段２と、この差分値を用いてウェーハのフォーカスエラー量を算出する焦点変動量算出手段３と、各転写パターンの寸法及びフォーカスエラー量を用いて、ウェーハの露光エラー量を算出する露光変動量算出手段４とを有して露光計測装置が構成されている。 （もっと読む）

本発明は、パターン化されたモールドを有するテンプレートなどの基板の寸法を変更する装置、システムおよび方法を対象としている。
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本発明は、基板を変形させてオーバーレイのアラインメント不良を補正するべく基板に加える力を求める方法を提供する。
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本発明は、サポート・ボディと、フローティング・ボディと、複数のたわみアームとを備えたコンプライアント・デバイスを対象としている。複数の伝達アームは、それぞれ、サポート・ボディとフローティング・ボディの間に接続されており、それらの間で並列に荷重を伝達している。そのために、たわみアームは、第１のセットと第２のセットのたわみ継手を有している。第１のセットのたわみ継手は、第１の方向に沿って展開している第１の軸の周りの前記たわみアームの回転動きを容易にしている。第２のセットのたわみ継手は、第１の方向に対して横方向の第２の方向に沿って展開している第２の軸の周りのたわみアームの回転動きを容易にするようになされている。たわみ継手は回転継手である。
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【課題】液浸結像系の測定に適し、且つ浸漬液による測定精度の低下を回避する測定システムを提供する。
【解決手段】結像系の物体面上に配置されたパターンを結像系の像面上に結像するために設けられた光学結像系であって、結像系の物体側及び像側の少なくとも一方の上に配置された浸漬液によって結像することができる液浸系として構成される光学結像系の光学測定用の測定システムにおいて、測定構造体を有する少なくとも１つの構造体キャリアであって、浸漬液の領域内に配置されるように設けられ、且つ保護システムを割り当てられ、それにより、浸漬液によって引き起こされる劣化に対する測定構造体の耐性を高めるようにした構造体キャリアを備える、測定システム。 （もっと読む）