【課題】インプリント装置の構成の複雑化を抑えながらインプリント処理のスループットおよび／または収率を向上させる。
【解決手段】インプリント装置は、基板に樹脂を塗布し該樹脂に型を押し付けた状態で該樹脂を硬化させる。前記型は、ポーラス層を有する。前記インプリント装置は、前記型を保持するチャックと、前記チャックによって保持された前記型の前記ポーラス層から気体が排出されるように前記ポーラス層に気体を供給する供給部とを備える。 （もっと読む）

【課題】物品の生産性の点で有利なインプリント装置を提供する。
【解決手段】基板上の樹脂と型とを互いに押し付けて当該樹脂を硬化させ、硬化した樹脂から前記型を離す離型を行って前記基板上にパターンを形成するインプリント処理を行うインプリント装置であって、前記離型に要する力を計測する計測部と、前記インプリント処理の実行を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記計測部によって計測された前記力が閾値を超えたことを示す情報を出力する、ことを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの微細構造を有する金型を容易に製造することができる金型製造方法およびその方法により形成された金型を提供する。
【解決手段】微細構造を有した無機薄膜１上にアミノ基、メルカプト基、チオール基、ジスルフィド基、シアノ基、ハロゲン基、スルフォン酸基の１つ以上を含む官能基を有するシランカップリング剤から構成された自己組織化膜２を形成するステップと、前記自己組織化膜２上に通電層３を形成する通電層形成ステップと、前記通電層３上に電解めっきにより金属膜４を形成するステップとを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の欠陥を抑制するテンプレートとその製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】テンプレート１は、例えば、主面１０に複数の凹部２２からなるパターン１４２が形成された第１の厚さＨ_１を有する第１の領域１４と、主面１０にパターン１４２の凹部２２とは間隔及び寸法の少なくとも一方が異なる複数の凹部２３からなるパターン１６２が形成された第１の厚さＨ_１と異なる第２の厚さＨ_２を有する第２の領域１６と、を備えて概略構成されている。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、ナノインプリントリソグラフィにおいて、微細なパターンを形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】
本発明の一態様であるパターン形成方法は、（ａ）被エッチング層１０上方に多孔質層１１を形成する工程と、（ｂ）前記多孔質層１１上に被転写パターンを有する有機材１３を形成する工程と、（ｃ）前記被転写パターンを用いて、前記多孔質１１よりエッチング耐性が高い転写酸化膜１６に加工パターンを形成する工程と、（ｄ）前記転写酸化膜１６をマスクとして、前記被エッチング層１０に前記加工パターンを形成する工程とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成に有用なパターン形成方法の提供。
【解決手段】支持体上に化学増幅型ポジ型レジスト組成物を塗布して第一のレジストパターンを形成する工程と、前記第一のレジストパターンが形成された前記支持体上に、前記第一のレジストパターンを溶解しない有機溶剤を含有するパターン反転用組成物を塗布してパターン反転用膜を形成し、アルカリ現像することにより、前記第一のレジストパターンを除去してパターンを形成する工程とを有し、前記化学増幅型ポジ型レジスト組成物は、酸発生剤成分（Ｂ）と、酸解離性溶解抑制基を有する基材成分（Ａ）とを含有し、前記パターン反転用組成物は、前記（Ａ）成分中の酸解離性溶解抑制基を解離し得る酸成分（Ｈ）と、酸解離性溶解抑制基を有さない基材成分（Ａ”）とを含有し、前記パターン反転用膜は、アルカリ現像液に対する溶解速度が０．３〜３．５ｎｍ／秒であるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式による基板への機能性液の打滴が最適化され、好ましい微細パターンを形成し得る液体塗布装置及び方法並びにインプリントシステムを提供する。
【解決手段】ノズル(51)がマトリクス配置されたヘッド(24)を用いたレジスト塗布装置(12)において、基板(20)の搬送方向(y方向)と直交するx方向の標準の打滴ピッチP_dをノズルの折り返しピッチとし、x方向の最小ノズル間ピッチP_nの単位でx方向の打滴ピッチを変更する。また、y方向について、最小打滴周期のm倍(mは2以上の整数)を標準の打滴周期として、最小打滴周期の単位でディレイ時間を設定する。シリアル方式では、y方向に沿って並べられた複数のノズルを切り換えることでｙ方向の打滴間隔を変更することができ、x方向に走査する際の打滴タイミングを変更することで、x方向の打滴間隔を変更することができる。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンの形成に好適なパターン形成方法、インプリント用モールド、およびパターン形成体を提供する。
【解決手段】パターン１７の角隅部にマイクロトレンチ１８を有するインプリントモールド１６を用いて、壁状の突起２６（微小突起）を有するパターン転写体２０を形成し、該壁状の突起２６を有するパターン転写体２０をエッチングマスクとして基材２１をエッチングすることによって、基材２１に微細なパターン２７を好適に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】均一なパターンを形成可能なパターン形成方法、加工方法および加工装置を得ること。
【解決手段】テンプレートの表面に形成された第１凹凸パターンの凹部形状を計測する第１工程と、前記凹部形状の計測結果に基づいて前記凹部形状の分布を演算する第２工程と、被加工層上に対する硬化剤の塗布量の分布を前記凹部形状の分布に基づいて演算する第３工程と、前記硬化剤の塗布量の分布に基づいて前記被加工層上に前記硬化剤を塗布する第４工程と、前記第１凹凸パターンが前記硬化剤に接触した状態で前記硬化剤を硬化させることにより前記第１凹凸パターンを前記硬化剤に転写して第２凹凸パターンを形成する第５工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ソフトウエアを用いて半導体製造装置を保守するにあたり、作業者の負担が小さくて効率が良く、また作業ミスの起こりにくい半導体製造システムを提供すること。
【解決手段】点検項目ごとに点検の操作事項と確認事項とを予め定めた点検順（作業順）に画面に表示させると共に、これら点検事項が自動の実行であるか手動の実行であるかの区別表示を行っている。そして、自動の実行である場合には点検事項が自動で行われ、また手動の実行である場合には、操作事項を行ったことあるいは確認結果の入力を受け付ける画面をポップアップにより表示させ、その入力により次の点検事項が記憶部から読み出され順次点検が行われるようにする。 （もっと読む）

【課題】テンプレートを用いて基板上に所定のパターンが形成されるように、当該テンプレートの表面に離型剤を適切に成膜する。
【解決手段】成膜ユニットは、テンプレートＴの転写パターンＣの凸部Ｃ_１上面のみに離型剤Ｓを成膜する離型剤供給部１１２を有している。離型剤供給部１１２は、支持部材１２０を有している。支持部材１２０には、凸部Ｃ_１上面に当接して、当該凸部Ｃ_１上面に離型剤Ｓを塗布する第１のローラ１２１と、第１のローラ１２１と同軸方向に延伸し、当該第１のローラ１２１と当接する第２のローラ１２２と、第２のローラ１２２の表面に液体状の離型剤Ｓを供給する離型剤ノズル１２３と、凸部Ｃ_１上面に塗布された離型剤Ｓに気体を供給し、当該離型剤Ｓを乾燥させる乾燥ノズル１２４と、が支持されている。 （もっと読む）

【課題】モールドに形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写する転写装置において、正確な転写をする。
【解決手段】モールドＭに形成されている微細な転写パターンＭ１を、被成型品Ｗに転写する転写装置５において、押圧体３１を備えたベース部材４７と、押圧体３１と協働してモールドＭと被成型品Ｗとを挟み込み押圧する被成型品設置体３３を備え、被成型品設置体３３が移動するように、ベース部材４７に設けられている移動体４９と、ガイド部７１を備え、押圧をしたときの反力でごく僅かに弾性変形するベース部材４７の撓み角がほぼ「０」になる部位のみで、ベース部材４７に係合して一体的に設けられている移動体支持体５１とを有する転写装置５である。 （もっと読む）

【課題】インクジェット法を用いてレジスト組成物を離散的に配置する際、吐出を安定させ、インプリント転写形状、及びインプリント後の残渣厚ばらつきを向上させる。
【解決手段】インプリント方法で用いるレジスト組成物を基板上に離散的に配置するレジスト組成物配置装置であって、前記レジスト組成物のポリマー含有量を記憶するポリマー含有量記憶手段と、前記レジスト組成物をノズルから吐出するレジスト吐出手段と、前記ノズルから前記レジスト組成物を吐出するための駆動波形をポリマー含有量に応じて変更する駆動波形調整手段と、を有することを特徴とするレジスト組成物配置装置を提供することにより前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】被成型品をシート状モールドから引き剥がすために、平板状のシート状モールドを移送し位置決めするシート状モールド移送位置決め装置において、シート状モールドが弛んだり切れたりすることを防止する。
【解決手段】シート状モールドＭのモールド原反ＭＢを設置するモールド原反設置装置９と、モールド原反設置装置９から繰り出している平板状のシート状モールドＭＡを巻き取るモールド巻き取り装置１１と、引き剥がしをするときに平板状のシート状モールドの形態が変化しても、平板状のシート状モールドの張力を一定に維持する張力維持手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】モールド剥離性に優れ、かつ、パターン形成精度が高く表面硬度などの永久膜特性に優れた微細パターン製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）基板またはモールド上に組成の異なる少なくとも２種の硬化性組成物であって、重合性単量体と重合開始剤を含む硬化性組成物を同時または逐次に適用し、硬化性組成物からなる層を形成する工程、（Ｂ）モールドまたは基板を硬化性組成物からなる層に接触させ、基板とモールドの間に硬化性組成物からなる層をサンドイッチする工程、（Ｃ）硬化性組成物からなる層を硬化する工程、（Ｄ）モールドを硬化後の膜から剥離する工程を該順に有する微細パターン製造方法であって、モールドに隣接する層を構成する硬化性組成物の硬化後の微粒子の含有量が０．１質量％以下であり、モールドに隣接する層よりも基板側に設けられる層を構成する硬化性組成物が微粒子を含有する微細パターン製造方法。 （もっと読む）

【課題】モールドの作成において、感度及び解像力に優れるとともに、ラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）性能にも優れたパターンを形成可能な、モールドの作成に用いられる化学増幅型レジスト組成物を提供する。
【解決手段】特定の酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂を含有する化学増幅型レジスト組成物、並びに、これを用いたモールドの作成方法、及び、レジスト膜。 （もっと読む）

【課題】従来よりも的確な転写をする転写装置を提供する。
【解決手段】ローラーヘッド１１によりモールド２１を被成型品６０に線状に押圧して、この押圧している部位に紫外線を照射することにより、モールド２１に形成された微細な転写パターンを被成型品６０に転写させる転写装置１において、被成型品６０を保持するステージ側装置３０と、ステージ側装置３０を移動させることによりローラーヘッド１１が転動してモールド２１が押圧している押圧部位６１を移動させるベース側装置４０と、押圧部位６１からステージ側装置３０の移動方向に紫外線を照射する紫外線照射装置５０とを有する。 （もっと読む）

【課題】ローラや基板の移動の移動精度が悪い場合であっても、簡単に補償でき、紫外線硬化樹脂の膜厚変動を抑制することが可能な転写方法を提供する。
【解決手段】第１の基板１上に設けられた第１の紫外線硬化樹脂２に対してシート状の第１のモールド３を対向させた後、押圧部材７を移動させながら第１の紫外線硬化樹脂２を硬化させてダミー成形体６を作製するダミー成形体作製段階と、
第２の基板１１上に設けられた第２の紫外線硬化樹脂１２に対して微細な転写パターンが形成されたシート状の第２のモールド１３のパターン形成面を対向させた後、ダミー成形体６を第２のモールド１３上に載置し、押圧部材７を移動させることにより第２の紫外線硬化樹脂１２を硬化させて第２のモールド１３の転写パターンを第２の紫外線硬化樹脂１２に転写する転写段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が寸法精度よく形成された硬化物質を含む微細構造体を、生産性よく、大面積で製造する方法の提供。
【解決手段】ゾルゲル法により硬化性物質を硬化して得られる、表面に微細構造が形成された硬化物質を含む微細構造体の製造方法において、前記硬化性物質を含む溶液が、式Ｓｉ（Ｘ^１）_４で表される４官能シラン、式ＲＳｉ（Ｘ^２）_３で表される３官能シラン、含フッ素界面活性剤、有機溶剤、および水を含み、かつ、前記４官能シランに対する前記３官能シランのモル比が、０．０３〜１である。Ｘ^１、Ｘ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルコキシ基、Ｒは炭素数が１〜１０の置換または非置換の１価有機基（ただし、ケイ素原子と結合する原子は炭素原子である）。 （もっと読む）

【課題】基板又はローラの移動終端側で紫外線硬化樹脂が必要以上に広がることを防止する。
【解決手段】微細な転写パターンが形成されたシート状のモールド３のパターン形成面を基板１上に設けられた紫外線硬化樹脂２に対向させ、押圧部材７によってモールド３を紫外線硬化樹脂に押圧した状態で押圧部材７又は基板１の少なくとも一方を他方に対して相対的に直線的に移動させながら紫外線硬化樹脂２を硬化させて転写パターンを紫外線硬化樹脂２に転写する。移動方向Ｍにおける移動終端９側の紫外線硬化樹脂２の量が移動始端８側の紫外線硬化樹脂２の量よりも少なくなるように紫外線硬化樹脂２を基板１上に設ける。 （もっと読む）