【課題】ナノインプリント技術に用いるモールドを高い精度で製造する方法と、このモールドの製造を簡便に行うことができるドライエッチング用のトレーとその製造方法、および、このトレーを用いたドライエッチング方法を提供する。
【解決手段】ドライエッチング用のトレー１を、基体２と、この基体の一つの面２ａに位置する被エッチング体嵌合用の凹部３と、この凹部３の周囲の面２ａである開口面積率調整面４と、この開口面積率調整面４を０〜１００％の範囲で被覆する開口面積率調整層５と、を備えたものとし、基体２と開口面積率調整層５は、一方をドライエッチング可能な材質とし、他方をドライエッチングされない材質とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、可変成型ビーム方式の電子線描画装置を用いて、実用的な生産性で、２００ｎｍ前後の円形パターンが規則的に配列したレジストパターンを形成し、前記レジストパターンからナノ凹凸構造体を形成することができるナノインプリントモールドの製造方法、光学素子の製造方法、およびレジストパターンの形成方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 電子線の有するビームぼけの現象を積極的に利用することにより、直径１００ｎｍ〜２５０ｎｍの円形パターンを、可変成型ビーム方式の電子線描画装置を用いて１ショットの矩形ビームで描画し、さらに、この描画方法により形成したレジストパターンをマスクに用いて所望の３次元構造を有するナノインプリントモールドを製造することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】原版と基板とのアライメントとの点で有利なリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】原版に形成された第１のマーク、及び、前記原版を介して前記基板の上の複数のショット領域のそれぞれに形成された第２のマークを検出する第１の検出部と、前記原版を介さずに第２のマークを検出する第２の検出部と、前記原版のパターンを前記基板に転写するための処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、前記第２の検出部による前記第２のマークの検出結果の一部を統計処理して前記複数のショット領域の配列を表す統計量を求める処理と、前記複数のショット領域のそれぞれについて、前記統計量から求められる前記複数のショット領域のそれぞれに形成された第２のマークの位置と、前記第２の検出部によって検出された前記複数のショット領域のそれぞれに形成された第２のマークの位置との差分を求める処理と、を行う。 （もっと読む）

【課題】高精細なインプリント転写が安定して行えるインプリント方法と、このようなインプリント方法を可能とするインプリント用基板とを提供する。
【解決手段】インプリント用基板を、基板本体２と、この基板本体２の一方の面に位置する濡れ性変化層３とを備えたインプリント用基板１、あるいは、基板本体１２と、この基板本体１２の一方の面に位置する包囲構造物１３とを備えたインプリント用基板１１とすることにより、このインプリント用基板１，１１上に被加工物として供給された樹脂５１の液滴の高さが維持でき、また、モールド６１のパターン領域を押し当てたときに、樹脂はモールド全面に広がる。 （もっと読む）

【課題】スループットを向上させ、処理タイミングを管理することができる基板処理システムを提供すること。
【解決手段】処理装置群に対して管理を行うグループコントローラを設ける。グループコントローラは、キャリア内の基板に対し順次複数の処理装置により処理を行ったときに最終の処理装置の処理終了時点が最も早い処理装置の組み合わせを、基板の処理レシピ及び処理状況に基づいて決定するステップと、前記処理装置の組み合わせにおいて、予め決めた一の処理装置によるロットの処理終了時点から、予め決めた下流側の処理装置による処理開始時点までの予測経過時間を、基板の処理レシピ及び処理状況に基づいて決定し、予測経過時間が設定時間内に収まるように前記一の処理装置または上流側の処理装置に基板を払い出すタイミングを決定するステップと、を行う。 （もっと読む）

【課題】 パターニングした１層のレジストを表面張力によって丸める、通常のリフロー法ではマイクロレンズの直径が大きくなると、レジスト材料が中央部に集まりづらくなるため、直径が大きなマイクロレンズの製作が難しいという問題があった。
【解決手段】 本発明は、パターニングしたレジストを加熱しつつ波長300nm前後の紫外線を照射して硬化させる工程であるUVキュア処理と、該硬化したレジスト上にレジスト塗布する工程、を繰り返し行い、レジスト層を多段に積み重ねていくことでレンズ形状に近い階段状レジスト構造を製作し、該階段状レジスト上に、さらにもう１層のレジストを塗布およびパターニングし、パターニング工程を終えたレジスト層をリフローすることにより、直径が比較的大きいマイクロレンズであっても、リフロー法により製作することを可能にしたものである。 （もっと読む）

【課題】裏側に研削で凹部を形成した場合にマスクブランク用基板の内部に残留する応力を軽減し、マスクブランク用基板の表側の平坦度を高く維持する。
【解決手段】インプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いられるマスクブランク用基板の製造方法である。この製造方法は、対向する第１の主表面ＳＦ１及び第２の主表面ＳＦ２を備える基板１１を準備する工程と、第１の主表面ＳＦ１における所定の領域を第２の主表面ＳＦ２の方向に研削して、凹部ＳＣＶを形成する研削工程と、凹部ＳＣＶの底面ｂｆ１に対し、第２の主表面ＳＦ２の方向に所定量のエッチングをさらに行い、所定深さの凹部ＣＶを形成するエッチング工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】精度よく位置合わせを行うことができるインプリントマスク、その製造方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】インプリントマスク１は、石英板１０からなり、石英版１０の上面の一部に複数の凹部１１が形成されており、前記石英板１０における前記凹部１１間の部分が凸部１２となっている。そして、凸部１２、すなわち、凹部１１間の部分には不純物としてガリウム（Ｇａ）が含有されている。このガリウムは、上方からイオン注入されて導入されたものである。これにより、凸部１２内には、ガリウム拡散層１６が形成される。 （もっと読む）

【課題】優れたスループットを実現できる導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面および第２の波面を有する基体と、第１の波面上に形成された導電層とを備える。導電層は、導電パターン部を形成し、第１の波面および第２の波面が、０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】耐久性が高く優れた離型性を具備したナノインプリント用のモールドと、このようなモールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールド１を、基材２と、基材２の一方の面２ａを被覆する樹脂層３と、この樹脂層３の面３ａに位置する凹部４とを備えたものとし、樹脂層３を表面の水接触角８０°以上、ＨＶ硬度４００以上とし、このようなナノインプリント用モールド１は、塗布工程にて、基材２の一方の面２ａに少なくともオルガノポリシロキサンと光触媒とを含有してなる塗布液を塗布して濡れ性変化樹脂材料層３′を形成し、乾燥工程にて、濡れ性変化樹脂材料層３′とマスターモールド１１を圧着し、その状態で濡れ性変化樹脂材料層３′に乾燥処理を施して樹脂層３を形成し、剥離工程にて、樹脂層３とマスターモールド１１とを離間することで形成する。 （もっと読む）

【課題】裏側に研削で凹部を形成した場合にマスクブランク用基板の内部に残留する応力を低減し、マスクブランク用基板の表側の平坦度を高く維持する。
【解決手段】インプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いられるマスクブランク用基板を製造する方法である。この製造方法は、対向する第１の主表面ＳＦ１及び第２の主表面ＳＦ２を備える基板１１を準備する工程と、第１の主表面ＳＦ１に小孔ＳＣＶを形成する小孔形成工程と、小孔ＳＣＶの底面ｂｆ１近傍の側壁ｓｄ１を切削して小孔ＳＣＶの底面ｂｆ１を広げる底面拡大工程と、広げられた底面ｂｆ２の上にある小孔の側壁ｓｄ１を除去する側壁除去工程とを備える。底面拡大工程と側壁除去工程とを交互に実施することにより、第１の主表面ＳＦ１に所定の大きさを有する凹部ＣＶを形成する。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比、複数の段差構造などを有する微細パターンの加工が可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】パターン形成方法において、被処理材上に、第１のインプリント・マスク材を形成し、第１のインプリント・マスク材に、第１のテンプレートを用いて第１のインプリント・パターンを形成し、第１のインプリント・パターン上に、エッチングレートが第１のインプリント・マスク材と異なる第２のインプリント・マスク材を形成し、第２のインプリント・マスク材に、第１のテンプレートと異なる第２のテンプレートを用いて第２のインプリント・パターンを形成し、第１のインプリント・パターン及び第２のインプリント・パターンをマスクとして、被処理材をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】群管理システムと統計解析システムとが統合された基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板処理システムであって、複数の装置３０と、装置３０からの出力データを収集する群管理システム１０と、装置３０からの出力データのうち特定イベントに係る出力データを統計解析する統計解析システム２０とで構成され、群管理システム１０は、装置３０からの出力データを受信するデータ受信部１１と、受信された出力データを蓄積する装置データＤＢ１５と、統計解析システム２０が統計解析を行うときに利用するデータである制御データを統計解析制御データ１４として蓄積する手段と、を含み、統計解析システム２０は、起動時に群管理システム１０から制御データを受信し、制御データに基づき統計解析システム２０を初期化する。 （もっと読む）

【課題】樹脂製フィルムを用いて基板上に微細な凹凸パターンを形成する方法であって、樹脂製フィルムの収縮率のバラつきや位置合わせ工程における温度変化等があっても、基板上の凹凸パターンを形成すべき位置に精確に凹凸パターンを形成する方法を提供する。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂製フィルム１１の当該凹凸パターンを、基板１５上に形成された光硬化性樹脂組成物からなる光硬化性樹脂層１６に転写し、光硬化性樹脂層１６に微細な反転凹凸パターンを形成する方法であって、樹脂製フィルム１１の凹凸パターンを、基板１５上の光硬化性樹脂層１６の反転凹凸パターンを形成すべき位置に配置するために、樹脂製フィルム１１と基板１５とを位置合わせする工程を含み、当該位置合わせ工程が、樹脂製フィルム１１を平面方向に伸張する伸張手段を用いる工程を含むことを特徴とする凹凸パターンの形成方法、及びそれに用いる装置。 （もっと読む）

【課題】型および基板に形成されたマークにより生じるモアレ縞の検出に有利なインプリント装置を提供する
【解決手段】マーク４が形成された型を保持する支持体３と、マーク５が形成された基板１を保持する基板ステージ１３と、検出器６と、前記検出器の光軸の角度を調整する調整部１２を備える。マーク５は、パターン面に平行かつ互いに直交する第１方向および第２方向の双方に格子ピッチを有する格子パターンを含み、マーク４には、第１方向に格子ピッチを有する格子パターンを含み、マーク４とマーク５との第１方向の格子ピッチは互いに異なる。検出器は、撮像素子と、マーク４に斜入射してマーク４の格子を透過し、マーク５の格子で回折され、マーク４の格子を再度透過した光によって撮像面にモアレ縞を形成する光学系を備え、調整部はパターン面に直交する第３方向の角度を、前記撮像面に形成されるモアレ縞の視認性が許容値を超えるように調整する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク記録媒体の磁気情報の記録および再生の精度が低下しないスタンパまたは磁気転写マスターの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）表面にレジスト膜を有する円環状基板を提供する工程と、（ｂ）電子線リソグラフィー法を用いて前記レジスト膜中にダミーパターンを有する凹凸パターンを形成する工程と、（ｃ）前記レジスト膜を現像して、前記描画パターンとダミーパターンを有するレジスト原盤を形成する工程と、（ｄ）前記レジスト原盤に電鋳を行い、ダミーパターンを有する電鋳マスターを形成する工程と、（ｅ）前記電鋳マスターからダミーパターンを除去して、円環状磁気ディスク記録媒体製造用のインプリントスタンパを形成する工程を含むことを特徴とするインプリントスタンパの製造方法。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、テンプレートに欠陥が生じた場合に、欠陥の種類に応じて最適な歩留まりの管理を行うことができるインプリント方法、インプリント装置及びプログラムを提供する。
【解決手段】実施の形態のインプリント方法によれば、テンプレートに形成された凹凸パターンを基板上のインプリント材料に接触させて凹凸パターンをインプリント材料に転写する工程と、転写する工程の後にテンプレート又はインプリント材料に形成された凹凸パターンを撮像する工程とを複数回行う。次に、複数回の撮像する工程によって得られた複数の画像の経時的な変化に基づいて、テンプレートの欠陥の種類を判定する。 （もっと読む）

【課題】精度良く高い再現性をもってナノプリントを実行することができるナノプリント方法を提供する。
【解決手段】下ステージ１１の載置面１１ａに枠体Ｒと、マスタ版Ａとを載置する。次に下ステージ１１に対して上ステージ１５を降下させ、上ステージ１５の吸着面１５ａを枠体Ｒに当接させ、エアスイベル機構２０によって上ステージ１５を３次元空間で移動させて、下ステージ１１と上ステージ１５の平行出しを行なう。次にマスタ版Ａ上に液状のシリコンゴムＳを流し込み、上ステージ１５の吸着面１５ａに保持されたスタンパ保持基板Ｃと、下ステージ１５の載置面１１ａ上のマスタ版Ａとの間でシリコンゴムＳを狭持する。シリコンゴムＳが自然硬化してスタンパＤが形成され、上ステージ１５を上昇させることにより、スタンパＤが上ステージ１５のスタンパ保持基板Ｃにより保持される。スタンパＤにインクＧが塗布され、スタンパＤ上のインクＧが被印刷基板Ｈに転写される。 （もっと読む）

【課題】従来よりも更にサイズが微細化した構造であって、広範囲に亘って規則性に優れ、欠陥の少ない構造を有する高分子薄膜、パターン媒体、及びこれらの製造方法、並びにこれらの製造方法に使用する表面改質材料を提供する。
【解決手段】基板２０１上で高分子ブロック共重合体をミクロ相分離させて、連続相２０４中で複数のミクロドメイン２０３を規則的に配列させる高分子薄膜の製造方法において、前記連続相に対応するように前記基板にシルセスキオキサングラフト膜を形成すると共に、前記ミクロドメイン２０３の配列に対応するように前記シルセスキオキサングラフト膜とは化学的性質の相違するパターン部を形成する工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光装置の輸送後及び長期メンテナンス後の再稼働を迅速に行う。
【解決手段】Ｚスライド４３の下面に圧縮コイルばね９１ａを設け、通常稼動時において、シーリングパッド７２とレベリングカップ８２のガイド面との間を高圧空気を介して高い剛性を維持したまま非接触状態で支持し、また輸送時及び長期メンテナンス時において、シーリングパッド７２への高圧空気の供給を停止した際に、圧縮コイルばね９１ａによるばね力によりシーリングパッド７２とガイド面とが接触するようにする。 （もっと読む）