【課題】スループットを向上させることが可能なテンプレートの表面処理方法を提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィに用いるテンプレートの表面処理方法であって、テンプレート３００を加熱した状態でテンプレート３００の表面をシリル化する工程を備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ描画に適したレジスト感度曲線を作成する方法を提供する。
【解決手段】感光性樹脂１２へレーザ光を照射して微細形状を得る微細形状の製造で用いるレジスト感度曲線の作成方法であり、レジスト感度曲線を、（１）複数の感度測定領域を隣接させた試験領域を感光性樹脂１２へ設定する工程、（２）複数の感度測定領域毎に異なる光量となるように、レーザ光の光量を変調させて露光する工程、（３）感光性樹脂１２を現像して得られた試験領域を用いてレジスト感度曲線を取得する工程、によってレジスト感度曲線の作成する。 （もっと読む）

【課題】所定の組成を有するレジスト層に対して高解像度をもたらしつつも、必要露光量の大幅な増加を抑える。
【解決手段】基板上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う工程と、酢酸−ｎ−アミルを含む５℃以下の現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】金型の成形面に取付けた転写部材の剥離を抑制し、金型の耐久性を向上させる。
【解決手段】成形面３に凹部５を形成し、この凹部５に転写部材４を嵌め込む。また、この凹部５の深さを、転写部材４の厚みと同一にすることで、成形面３と転写部材４の表面とをフラット（面一）にする。また、凹部５において、側面５ａの少なくとも一部、又は底面５ｂの少なくとも一部には、アンダーカット形状を形成する。さらに、転写部材４を熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂で形成し、これを凹部５に嵌め込んでから硬化させる。 （もっと読む）

【課題】モールドの転写パターンを転写する際におけるモールドと被成型品との位置ずれを防止して正確な転写を行うことが可能な転写装置を提供する。
【解決手段】モールド１３を保持するモールド保持部４と、被成型品２０を設置し、モールド保持部４に対して相対的に移動位置決め自在な被成型品設置部５と、被成型品設置部５をモールド保持部４に対して相対的に移動させる駆動手段２３と、被成型品設置部５に設置されている被成型品２０を所定の温度に設定自在な温度設定手段と、被成型品設置部５に設置されている被成型品２０の紫外線硬化樹脂１９に紫外線を照射する紫外線を発生する紫外線発生装置６とを備える。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークが形成された台座付き基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減し、パターン精度を向上させる。
【解決手段】本発明は、第１の主面側に凸状の台座が設けられ、かつ、台座の上面にアライメントマークが形成された基板を作製する方法であって、基板１の第１の主面上に光反射率が高いハードマスク層を形成した後、それを台座の外径とアライメントマークの形状にあわせてエッチングしハードマスク２ａを形成する工程と、ハードマスク２ａを覆うように基板１上にネガ型のレジスト層６を形成する工程と、ハードマスク２ａによる光の反射を利用してレジスト層６を露光することにより、ハードマスク２ａの直上に位置するレジスト層６を不溶化する工程と、そのレジスト層６を現像してレジストパターン６ａを形成した後、それをマスクに用いて基板１をエッチングすることで台座を形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】システム全体の生産性を低下させず、各リソグラフィー装置の維持管理コストを削減し、特性及び精度を均一にする。
【解決手段】少なくとも２台のリソグラフィー装置と、該リソグラフィー装置に対して基板若しくは原版を搬送する搬送ユニットと、リソグラフィー装置と搬送ユニットとの動作を制御する制御モジュールとを備えるリソグラフィーシステムであって、少なくとも２台のリソグラフィー装置のいずれかが調整処理を実施する場合、制御モジュールは、調整処理を実施する際の基準となる基準部材を少なくとも２台のリソグラフィー装置で共用し、搬送ユニットにより、基準部材をリソグラフィー装置に対して搬送させる（ステップＳ５０９）。 （もっと読む）

【課題】アライメントマークが形成された台座付きの基板を作製するにあたって、アライメントマークと台座の相対的な位置ずれを低減する。
【解決手段】本発明の基板作製方法は、光透過性の基板１の第１の主面上に、この基板１に形成すべきアライメントマーク５と台座の位置に応じたハードマスク２ａを形成する工程と、そのハードマスク２ａを用いて基板１をエッチングすることにより、基板１の第１の主面にアライメントマーク５を形成する工程と、基板１の第１の主面上にハードマスク２ａを覆う状態でレジスト層６を形成した後、このレジスト層６に基板１の第２の主面側から露光用の光を照射することにより、レジスト層６を露光する工程と、そのレジスト層６の露光部分を現像により除去して得られるレジストパターン６ａをマスクに用いて基板１をエッチングすることにより、基板１の第１の主面側に台座を形成する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターン部の凹部における樹脂の充填性および離型性が良好なナノインプリントモールドを得ることを主目的とする。
【解決手段】本発明は、凸部および凹部を有するパターン部、ならびに上記凸部の頂部に形成された金属膜を備えるモールド部材を準備し、第一離型剤を用いて、上記凹部の側壁部および底部、ならびに上記金属膜の表面に第一離型層を形成する第一離型層形成工程と、上記第一離型層を表面上に有する上記金属膜を剥離する金属膜剥離工程と、上記金属膜を剥離することにより露出した上記凸部の頂部に、第二離型剤を用いて、上記第一離型層よりも撥液性の高い第二離型層を形成する第二離型層形成工程と、を有することを特徴とするナノインプリントモールドの製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】微細構造転写方法およびその装置において、比較的コンパクトな装置でかつ高いスループットで泡の入り込みを防止しつつパターンの転写を実現可能にする。
【解決手段】
微細構造を転写する方法において、表面にレジストがコーティングされた被転写体に裏面を真空吸引してスタンパを密着、加圧させる際に、スタンパを球面状に変形または湾曲させて密着面を中心部から周辺部に拡大させていくことで被転写体とスタンパとの間に気泡の入り込みを防止した。 （もっと読む）

【課題】表面に微細パターンが形成された熱可塑性樹脂材を熱インプリント法によって効率よく作製できる技術を提供する。
【解決手段】ガラス転移点以上の温度に加温した熱可塑性樹脂材の表面に微細な凹凸パターン形成を行うための耐熱性と強度を併せ持つモールドであって、アルミニウム材の陽極酸化によって形成される表面に規則的なホールアレー構造を有する陽極酸化ポーラスアルミナ層を有することを特徴とする熱インプリント用モールド、およびその製造方法、並びにそのモールドを用いた樹脂材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィ加工技術を立体サンプルに拡張する際に、均一な光照射を
サンプル基板平面に施す露光方法では、レジスト膜厚の不均一と界面反射の問題に対処で
きないため、露光エネルギ密度が立体上に用意されるレジストに対して適切な値から外れ、
場所によるオーバードーズやアンダードーズからなる露光ムラや、反射光による異常パタ
ーンが生じる課題があった。
【解決手段】 液浸露光の液体に、光減衰の機能を加えることにより、立体サンプル上の
レジスト膜に到達する光強度を、立体の上部にも底部にも適正な値にでき、サンプル表面
上の全体に適正な露光強度分布を形成できるので、反射光による異常パターンの発生を確
実に低減できる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント方法において、光硬化性組成物の揮発を抑制しつつ、残留気体を低減する。
【解決手段】凹凸を有するモールドと、基板上に形成した光硬化性組成物層とを密着させて凹凸の形状を光硬化性組成物層に転写するナノインプリント方法において、モールドおよび基板のいずれか一方または両方が石英からなり、モールドと光硬化性組成物とを、それらの間に、１０ｋＰａ以上９０ｋＰａ以下の気圧を有し、かつ、少なくとも７０体積％がＨｅからなる気体を介在させた状態で密着させる。 （もっと読む）

【課題】エッチングにおけるパターンの微細化を比較的容易に図る。
【解決手段】基板上にハードマスク層を有するマスクブランクスにおいて、前記ハードマスク層は、前記基板上に設けられ、導電性を有し且つウェットエッチング自在な層Ａと、前記層Ａの上に設けられ、実質的には酸素を含まないドライエッチングの対象となる層であり且つ前記層Ａに対してエッチングを行う際に前記層Ａのマスクとなる層Ｂと、を有する。 （もっと読む）

【課題】微細凹凸パターンを転写する側のモールドと、転写される側の転写用基板とを剥離する際に、転写用基板のレジスト層に転写された微細凹凸パターンが損傷を受けることを効果的に防止できる。
【解決手段】基板上にレジスト層が形成された転写用基板１４のレジスト層１２に、モールド１０の微細凹凸パターン１０Ａを転写して硬化した後、転写用基板１４とモールド１０とを剥離する剥離工程を備えた微細凹凸パターンの形成方法において、剥離工程は、転写用基板１４の周縁部を固定した状態で転写用基板１４の基板裏面側を加圧して転写用基板１４を湾曲状に撓ませることにより、該撓みによって転写用基板１４とモールド１０との剥離を開始する第１の剥離工程と、基板裏面側を加圧した圧力を徐々に減少させて転写用基板１４に撓みの戻り力を作用させることにより、転写用基板１４の微細凹凸パターンのうちの第１の剥離工程で剥離されなかった微細凹凸パターン１２Ａを剥離する第２の剥離工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】エッチングを利用してパターン形成を行う場合に、形成すべき微細パターンの狭ピッチ化が進展しても、当該パターン形成を高精度に行えるようにする。
【解決手段】基板２上にハードマスク層３を有するマスクブランクス１において、前記ハードマスク層１は、前記基板２の側から第一層５と第二層６とが配される積層構造を有する。前記第一層５は、前記基板２に対してエッチングを行う際にマスクとなる層である。前記第二層６は、前記第一層５に対してエッチングを行う際にマスクとなるとともに、前記ハードマスク層３上に形成されるレジストパターン４をマスクにしてエッチングが行われる層である。そして、前記第一層５に対するエッチングの間は前記第二層６が当該第一層５のマスクとして機能するエッチング選択比を有した材料によって、当該第二層６を形成する。 （もっと読む）

【課題】プロセスレシピ実行中にエラーが発生してアラームレシピを実行しても、そのアラームレシピの内容により、正常終了とすることが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】プロセスレシピ記憶部に記憶したプロセスレシピを実行し、プロセスレシピ実行中にアラームを検出すると、該検出したアラームに基づき、アラームレシピ記憶部に記憶したアラームレシピを実行し、プロセスレシピ実行中にアラームレシピを実行したときに、当該プロセスレシピを正常終了とするか異常終了とするかが予め設定された設定内容記憶部に基づき、プロセスレシピが正常終了したか異常終了したかを判定するようにした基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの凸部に囲まれた部位を好適に転写することの出来るインプリント方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のインプリント方法によれば、インプリントモールドを被転写材に接触させたのちにモールドの凹凸パターンを形成するため、予め凹凸パターンが形成されたモールドを被転写材に接触させる場合と比較してモールドと被転写材との間に空気を挟んで転写不良となる頻度を下げることができ、凹凸パターンの凸部に囲まれた部位を好適に転写することが出来る。 （もっと読む）

【課題】 インプリント装置の光源を有効利用する。
【解決手段】 インプリント装置は、型をそれぞれ保持する複数のヘッドと、基板をそれぞれ保持する複数の基板ステージと、樹脂を基板に塗布する塗布機構と、樹脂を硬化させるための光を出射する光源と、前記光源から出射された光を、前記複数のヘッドのそれぞれに案内する光学系と、を備え、基板に樹脂を塗布し、該樹脂に型のパターン面を押し付けて該型を介して光を照射することによって該樹脂を硬化させるインプリント処理を行う。前記光学系を介して前記光源から前記複数のヘッドのそれぞれに案内された光は、前記複数のヘッドのそれぞれに保持された型を介して、前記複数の基板ステージのそれぞれに保持された基板に塗布され前記型が押し付けられた樹脂に照射されるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、本発明の課題は、離型処理が不要で、かつ繰り返し転写におけるパターンの転写精度が劣化しない微細構造体層を有するソフトスタンパである微細パターン転写用スタンパを提供することにある。
【解決手段】本発明は、支持基材１上に微細構造体層２を有する微細パターン転写用スタンパ３において、前記微細構造体層２は、複数の重合性官能基を有するシルセスキオキサン誘導体と、複数の重合性官能基を有する一種又は複数種のモノマ成分と、を主に含む樹脂組成物の重合体であることを特徴とする。 （もっと読む）