【課題】本発明は、アスペクト比の大きな微細パターンを安定して形成できるパターン形成方法と、その方法に使用される含浸装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被加工部材３上に所定のパターンが形成されたエッチングマスク９を形成する工程と、前記エッチングマスク９に所定の物質１２を含浸させる工程と、前記所定の物質１２を含浸した前記エッチングマスク９を用い、前記被加工部材３をパターニングする工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントにて有機材料層に離間して転写される凹部の深さを異ならせる。
【解決手段】互いに高さの異なる凸部Ｔ１、Ｔ２がメサ領域に設けられたテンプレート１をマスク材３に押し当てることにより、互いに深さの異なる凹部Ｈ１、Ｈ２をマスク材３に形成し、互いに深さの異なる凹部Ｈ１、Ｈ２が形成されたマスク材３をマスクとして基板２のエッチングを行うことで、開口部Ｋ１、Ｋ２を形成する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置等の製造における簡易なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】テンプレートパターンデータに基づいてテンプレートに形成されたテンプレ
ートパターンの情報を取得し、前記テンプレートパターンの情報に基づき、レジスト塗布
分布を設定し、前記レジスト塗布分布に基づいて、基板上にレジストを塗布し、前記基板
上に塗布したレジストに前記テンプレートを接触させ、前記テンプレートパターン内に前
記レジストを充填させ、前記充填したレジストを硬化し、前記テンプレートを前記レジス
トから離すことを備えたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】光インプリント用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】硬化性モノマーが下記の式(１)式(２)含み、かつ、式(１)及び式(２)で表される化合物の重量比率が２０／８０〜９５／５である。


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【課題】パターン精度に優れ、かつ、基板密着性とモールド離型性に優れた微細パターンを製造できる方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、（Ａ）基板またはモールド上に、同時または逐次に、組成の異なる少なくとも２種の硬化性組成物からなる層を積層する工程、（Ｂ）前記基板またはモールドのうち、硬化性組成物からなる層を設けなかった方を硬化性組成物からなる層に接触させ、基板とモールドの間に、硬化性組成物からなる層を設ける工程、（Ｃ）硬化性組成物からなる層を硬化させる工程、および、（Ｄ）モールドを硬化後の硬化性組成物からなる層から剥離する工程を該順番に有する微細パターン製造方法において、前記硬化性組成物のうち、基板に隣接する層に用いられる硬化性組成物がモールドに接する層に用いられる硬化性組成物よりも多くの密着性改良剤を含こと、および／または、前記硬化性組成物のうち、モールドに隣接する層に用いられる硬化性組成物が基板に隣接する層に用いられる硬化性組成物よりも多くの離型剤を含むことを特徴とする、微細パターン製造方法。 （もっと読む）

【課題】繰り返しパターン形成を行っても良好なパターン形成性を有し、さらに高ドライエッチング耐性を満たすインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性化合物および（Ｂ）光重合開始剤を含有し、前記（Ａ）重合性化合物として、（Ａ１）芳香族基を有する重合性単量体を含有し、かつ、（Ｂ）光重合開始剤として酢酸エチル中における３６５ｎｍのモル吸光係数が５００（Ｌ／（ｍｏｌ・ｃｍ））以上である化合物を含有することを特徴とするインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムにおいて、従来よりも効率良く転写をする。
【解決手段】被成型品Ｗの正確な位置に、型Ｍに形成されている微細な転写パターンを転写すべく、型Ｍと被成型品Ｗとの相対的な位置の調整を行う位置調整装置５と、相対的な位置の調整がされた型Ｍで被成型品Ｗを押圧して型Ｍに形成されている微細な転写パターンを被成型品Ｗに転写する転写装置７と、転写装置７を用いた転写がされた後にお互いにくっついている型Ｍと被成型品Ｗとを分離する離型装置９とを有する転写システム１である。 （もっと読む）

【課題】 被処理物の温度上昇を抑制しながら紫外線照射処理を行うことができる光処理装置および光処理方法を提供する。
【解決手段】 本発明の光処理装置は、紫外線透過窓を有する筐体と、この筐体内に配置されたエキシマランプとを具えてなる光処理装置であって、前記紫外線透過窓の周囲に、冷却用ガス供給機構または冷却用ガス吸気機構に接続されるガス流通口を有することを特徴とする。また、前記エキシマランプは、全体が扁平な板状の放電容器と、この放電容器の一面に配置された高電圧側電極と、当該放電容器の他面に配置されたアース側電極とを有し、前記放電容器における前記高電圧側電極が配置された一面が、前記紫外線透過窓と対向するよう配置されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板上に供給された樹脂の硬化不良の発生を低減するインプリント装置を提供する。
【解決手段】基板上の樹脂にパターン面を有するモールドを押し付けた状態で当該樹脂を硬化させることで前記基板上にパターンを形成するインプリントを行うインプリント装置であって、基板上に光硬化型の樹脂を供給する供給部と、前記供給部によって基板上に供給された光硬化型の樹脂に光を照射して当該樹脂を硬化させる照射部と、前記照射部を制御する制御部と、を有し、前記制御部は、前記供給部が前記基板上に光硬化型の樹脂を供給したときから当該樹脂に前記モールドが接触したときまでの時間が長いほど、インプリントを行う際に樹脂に照射する光の照射量が大きくなるように前記照射部を制御することを特徴とするインプリント装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】
露光不良の発生を抑制できる、洗浄方法、露光装置、及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】
基板保持部５に保持される板状部材Ｂを介した露光光ＥＬが、基板保持部５に照射され、基板保持部５の少なくとも一部を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】インプリントモールドの離型（剥離）を容易にするための凹部を精度良く形成でき、且つそのような加工の工程負荷が小さくて済み、さらに凹部を形成することによるモールドの強度や剛性の低下を抑えたインプリントモールドの作製に用いるマスクブランク用基板を提供する。
【解決手段】基板と該基板の表側主表面上に形成された薄膜とを有してなり、前記薄膜及び基板をエッチング加工してインプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いる基板である。この基板１は、所定の形状の孔２を穿設してなる基材１ａを含む少なくとも２枚の基材を接合することにより基板の裏側主表面にその少なくとも外周部を除く領域に上記孔２からなる凹部３を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】モールドを用いて繰り返しパターン転写を行っても、離型性に優れ、かつ、モールドの劣化が抑制できる離型剤を提供する。
【解決手段】モールドの材料と化学的に反応する官能基を１つまたは２つ有する化合物をインプリント用モールド離型剤として用いる。 （もっと読む）

【課題】ｅビームリソグラフィの際に非伝導性基板を用いるテンプレートのに電子を消散することができるインプリントリソグラフィの方法および装置を提供する。
【解決手段】インプリントリソグラフィ方法は材料を伝導性基板のパターン化面上に生成するステップと、透明基板および伝導性基板を互いに押し付け、押し付けにより材料はパターン化面に整合するステップとを含む。エネルギは材料に与えられて、材料からパターン化された材料を形成する。透明基板および伝導性基板は分離され、パターン化された材料は透明基板に貼り付く。 （もっと読む）

【課題】ショット領域に正確に樹脂を塗布するために有利な技術を提供する。
【解決手段】塗布機構によって基板に樹脂を塗布し該樹脂に型を押し付けた状態で該樹脂を硬化させるインプリント装置に係り、前記インプリント装置は、前記塗布機構の位置検出するための計測器と、基板を保持する基板ステージと、前記基板ステージを位置決めする位置決めシステムと、前記計測器によって計測された結果に基づいて、基板の目標位置に樹脂が塗布されるように、前記位置決めシステムによる前記基板ステージの位置決めを制御する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ドーナツ形の円盤状ディスク基板などの被転写体の両面に同時にインプリントすることができる両面インプリント装置を提供する。
【解決手段】 本発明の両面インプリント装置は、少なくとも、昇降機構に支持された上面側スタンパ装置と、ガイドレール上に乗せられた移動テーブルに固設された下面側スタンパ装置と被転写体剥離装置と、からなるパターン転写機構を有し、前記移動テーブルは移動駆動機構により前記ガイドレール上を往復動することができ、これにより、前記上面側スタンパ装置の位置を中心として、前記下面側スタンパ装置と被転写体剥離装置とが前記上面側スタンパ装置に対峙する位置に交互に移動することができる両面インプリント装置。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルなシート基材をスタンプに均一に接触させることができるシートチャックと、このシートチャックを使用して高精度のパターンを形成するためのマイクロコンタクトプリント法を提供する。
【解決手段】シートチャック１を、上面がシート基材を載置するための載置面２Ａとなっている基部２と、この載置面２Ａに位置する吸引・放出部３と、この吸引・放出部３を囲むように載置面２Ａに位置する保持部５と、を有するものとし、吸引・放出部３は気体の吸引と気体の放出が可能な領域とする。 （もっと読む）

【課題】紫外線硬化樹脂等の光硬化性樹脂を用いることなく、高い耐熱性を持つインプリントフィルムを高効率で製造する方法を提供する。
【解決手段】芳香族ポリマーフィルムを浸漬、滴下、コーティング、印刷等により有機溶媒に接触させ、軟化せしめる工程と、プレス機、ロール等を用いる機械的な押圧、気体による加圧、減圧、自重による加圧等により芳香族ポリマーフィルムをテンプレートに接触せしめる工程とを有するインプリントフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントを利用した金属酸化薄膜パターンの形成方法及びＬＥＤ素子の製造方法を提供する
【解決手段】基板１０に感光性金属有機物前駆体層３０を形成段階と、モールド２０を準備する段階と、前記モールド２０で前記感光性金属有機物前駆体層３０を加圧する段階と、前記加圧された層を加熱するか、または加熱すると同時に紫外線を照射して硬化された金属酸化薄膜パターン３１を形成する段階と、前記モールド２０を前記金属酸化薄膜パターン３１から除去する段階とを含み、選択的に、前記金属酸化薄膜パターン３１を焼成する段階をさらに含む。これにより、レジストとして使用するために紫外線レジンを別途に塗布する工程が省略されるので、パターンの形成工程が簡素化され、単一インプリント工程によりマイクロ・ナノ複合パターンを形成できる。 （もっと読む）

【課題】 型を交換するタイミングを適正化したインプリント装置を提供する。
【解決手段】 インプリント装置は、型を支持する支持体と、基板を支持する基板ステージと、前記型に加えられた力を検出する検出器と、前記支持体と前記基板ステージとの間に前記支持体に支持された前記型を取り外すための空間を作り出す機構と、制御部と、を備える。前記制御部は、硬化した樹脂から前記型を引き離すために要する離型力を前記検出器の検出結果に基づいて決定し、前記決定された離型力を第１の閾値と比較し、前記決定された離型力が前記第１の閾値より大きいならば前記機構に前記空間を作り出させる。 （もっと読む）

【課題】精密転写性と離型性と離型時の強度と紫外光の透過性及びリサイクル性に優れた、ＵＶナノインプリントに好適な、樹脂スタンパを提供する。
【解決手段】芳香族ポリカーボネート樹脂からなる樹脂スタンパであって、特定の芳香族ポリカーボネートおよび２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン成分からなる群より選ばれる少なくとも１種であり、その割合が、全芳香族ヒドロキシ化合物のモル数を基準として２０ｍｏｌ％以上で、比粘度が０．２〜０．４、蒸留水との接触角が８５〜９５°と言う条件を同時に具備する硬化性樹脂組成物用樹脂スタンパ。 （もっと読む）