【課題】基板又はローラの移動終端側で紫外線硬化樹脂が必要以上に広がることを防止する。
【解決手段】微細な転写パターンが形成されたシート状のモールド３のパターン形成面を基板１上に設けられた紫外線硬化樹脂２に対向させ、押圧部材７によってモールド３を紫外線硬化樹脂に押圧した状態で押圧部材７又は基板１の少なくとも一方を他方に対して相対的に直線的に移動させながら紫外線硬化樹脂２を硬化させて転写パターンを紫外線硬化樹脂２に転写する。移動方向Ｍにおける移動終端９側の紫外線硬化樹脂２の量が移動始端８側の紫外線硬化樹脂２の量よりも少なくなるように紫外線硬化樹脂２を基板１上に設ける。 （もっと読む）

【課題】 露光現像システムの故障時の処理量の低下を抑えることと、投資効率の低下を抑えることを両立する。
【解決手段】 基板上に感光性の材料を塗布して膜を形成する塗布装置と、前記基板の上に形成された前記膜を露光する露光装置と、露光した前記膜を現像する現像装置とを、それぞれ複数台有する露光現像システムであって、前記露光装置は、あらかじめ用意された描画データに基づく数値制御により前記膜に照射する光のパターンを生成する装置であり、前記塗布装置、前記露光装置、および前記現像装置の稼働状況に応じて、前記基板を前記塗布装置から前記露光装置へ搬送するときの前記塗布装置と前記露光装置との組み合わせ、および前記基板を前記露光装置から前記現像装置へ搬送するときの前記露光装置と前記現像装置との組み合わせを制御する露光現像システム。 （もっと読む）

【課題】被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント用モールドを簡便に製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】乾燥工程にて、基部１３の一方の面から突出する凸構造部１４を有する基材１２の凸構造部１４が突出している側の面に、濡れ性変化樹脂材料塗布液を塗布して被覆し、その後、乾燥処理を施して、表面の水接触角が９０°以上、かつ、硬度が４００以上である樹脂層１５を形成し、濡れ性変化工程にて、基部１３上に位置する樹脂層１５に光を照射して、表面の水接触角が１０°以下の樹脂層１５ａとし、遮光膜形成工程にて、樹脂層１５、１５ａ上に遮光膜形成用組成液を塗布して、乾燥、硬化することにより、基部１３上に位置する樹脂層１５ａ上に遮光膜１７を形成し、凹部形成工程にて、凸構造部１４上に位置する樹脂層１５とマスターモールド２１とを圧着し、その後、離間して、樹脂層１５に凹部１６を形成する。 （もっと読む）

【課題】１００ｎｍ以下の規則的なパターン構造を有するＬＢ膜、及び該ＬＢ膜を鋳型材として利用して、２次元的な構造を持つパターン形成体を提供する。
【解決手段】ＬＢ膜形成分子としてフッ素化脂肪酸を用いるとともに、アルコール／水混合液をＬＢ膜作製時における下層液として利用することで、２０〜１００ｎｍの規則的なドメイン構造を有するＬＢ膜を得え、さらに、該ドメイン構造を有するＬＢ膜を鋳型材として、最終的に２次元的な構造を有するパターン形成体を得る。 （もっと読む）

【課題】インプリント時間の短縮化を図りつつ、インプリント後の膜厚ムラを防止する。
【解決手段】基板上に塗布された液体に対して所望の凹凸パターンが形成されたスタンパを押し当てた状態で前記液体を硬化させることによりパターン転写を行うパターン転写方法において、複数のノズルを有する液体吐出ヘッドと前記基板を相対的に移動させながら、前記ノズルから吐出された液滴を前記基板上に着弾させる際、着弾直後の液滴形状が１つの円形状とはならず、且つ、前記基板上で隣接する他の液滴とは合一しないようにすることを特徴とするパターン転写方法を提供することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】モールドと樹脂との離型性に優れ、樹脂によるパターン欠陥を低減させ、安価に高精度パターンを形成するインプリント方法、および該インプリント方法を用いたインプリント装置を提供する。
【解決手段】パターンを形成したモールドを被加工基板上の光硬化性樹脂に押し付けると共に、光源から発した光を、光硬化性樹脂にショットごとに露光することによって光硬化性樹脂を硬化させ、モールドを硬化した光硬化性樹脂から離型するインプリント方法であって、光源と前記モールドとの間に、光硬化性樹脂を硬化させる光の露光量を調整する露光量調整部を設け、該露光量調整部を用いて、ショットごとのパターン形成領域内において、モールドが硬化した光硬化性樹脂から最後に離型する領域の露光量を他の領域の露光量よりも小さくすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】樹脂製のナノインプリント用の型であり、容易に離型可能でその表面が親水化処理された場合にも表面の微細形状の精度が良好な樹脂型を提供する。
【解決手段】樹脂成分（ａ）を含む材料からなる樹脂型であって、樹脂成分（ａ）を、平滑面を有する基材の前記平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層（Ａ）を形成した後、形成した樹脂層（Ａ）の平滑面上に３μＬの水を配置して、ＪＩＳＲ３２５７に準拠して測定される静的接触角（Ｘ１）が、下記条件（１）を満たす樹脂型。条件（１）：転写対象を構成する材料のうちの樹脂成分（ｂ）を、平滑面を有する基材の平滑面上に塗布して、乾燥などにより平滑面を有する樹脂層１１を形成した後、形成した樹脂層１１の平滑面上に３μＬの水１３を配置して、ＪＩＳＲ３２５７に準拠して測定される静的接触角（Ｙ１）と静的接触角（Ｘ１）との差の絶対値Θが２０°〜６０°である。 （もっと読む）

【課題】シート状のモールドに形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写システムにおいて、転写を効率よく行う。
【解決手段】微細な転写パターンＭ１が形成されている平板状のシート状モールドＭＡを移送位置決めするシート状モールド移送位置決め装置３と、シート状モールドＭＡの移送方向で上流側に設けられ、微細な転写パターンＭ１を被成型品Ｗに転写する転写装置５と、シート状モールドＭＡの移送方向で下流側に設けられ、転写装置５による転写がされシート状モールド移送位置決め装置３による移送がされた後、お互いが貼り付いているシート状モールドＭＡと被成型品Ｗとを引き剥がす引き剥がし装置７とを有する転写システム１である。 （もっと読む）

【課題】 室温での光ナノインプリントが可能であり、且つ硬化物の溶剤溶解性に優れる光硬化性組成物とリフトオフ法を併用することにより、容易に微細構造体を作製可能な微細構造体の製造方法とその製造方法により得られた優れたパターンを有する微細構造体、ならびに該微細構造体からなるハードディスク、グレーティング、半導体材料、ＭＥＭＳ作成用材料、ホログラム、導波路、プラズモンデバイス、及び偏光板又は偏光フィルムを提供する。
【解決手段】 本発明の微細構造体の製造方法は、重合性モノマーを含み、前記重合性モノマーのうち９０重量％以上が１種又は２種以上の単官能のラジカル重合性モノマーであり、前記１種又は２種以上の単官能のラジカル重合性モノマーの重合物のガラス転移点が２５℃以上であり、且つ硬化物が溶剤に溶解可能な光硬化性組成物を使用して、リフトオフ法により微細構造体を作製することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被処理物の表面に分解残渣が再付着することを防止または抑制することができ、しかも、被処理物の温度上昇を抑制しながら紫外線照射処理を行うことができる光処理装置および光処理方法を提供する。
【解決手段】本発明の光処理装置は、一面に開口を有する筐体と、この筐体の開口に設けられた紫外線透過性を有する窓板材と、前記筐体内に配置されたエキシマランプとを具えてなり、前記筐体は、当該筐体内に不活性ガスよりなる洗浄用ガスを供給するためのガス供給口を有し、前記窓板材は、前記筐体内の洗浄用ガスを当該窓板材に対向して配置された被処理物に向かって噴出するガス噴出口を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントプロセス法において、中間スタンパの作製に使用できる光硬化性転写シートであり、微細凹凸パターンを有する金型との離型性、凹凸パターンが転写される光硬化性樹脂との離型性が良好であり、且つ転写性に優れた光硬化性転写シートを提供する。更に、それを用いた凹凸パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】加圧により変形可能で、ポリマーと光重合性官能基を有する反応性希釈剤を含む光硬化性組成物からなる光硬化性転写層１１を有する光硬化性転写シートであって、前記ポリマーが、主鎖に脂環式構造を有する繰り返し単位、及び（メタ）アクリレート繰り返し単位を含む樹脂からなり、且つ前記ポリマー中の脂環式構造を有する繰り返し単位の含有率が１５〜７０質量％であることを特徴とする光硬化性転写シート１０。更に、これを用いた凹凸パターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、転写リソグラフィ・プロセスに適用可能な液体ディスペンス・システム及びディスペンス方法を提案できるようにする。
【解決手段】平板状の物質または転写リソグラフィ・プロセス用の半導体ウエハを含む基板の表面に液体をディスペンスする自動液体ディスペンス方法とシステムが開示されている。本ディスペンス方法は液体ディスペンサ・チップと基板との間の相対的な動きを生成する基板ステージと液体ディスペンサを使用する。さらに、パターン化されていない平坦なテンプレートを用いて基板表面を平坦にする方法と装置も開示されている。 （もっと読む）

【課題】型におけるアライメントマークを有する領域の凹部への未硬化樹脂の充填と該アライメントマークの検出とを両立する。
【解決手段】インプリント装置は、未硬化樹脂を基板２に吐出する吐出機構７と、型３のパターン面に配置されたアライメントマークを検出する検出器９と、制御部Cと、を備える。パターン面は、デバイスパターンを有する第１領域とアライメントマークを有する第２領域とを含み、未硬化樹脂と型とが互いに押し付けられた場合に、第１領域の凹部が未硬化樹脂で充填される第１時刻より、第２領域の凹部が未硬化樹脂で充填される第２時刻が後になるように構成される。制御部Cは、デバイスパターンの凹部とアライメントマークの凹部とが充填される量の未硬化樹脂を基板２に吐出するように吐出機構７を制御し、第１時刻と第２時刻との間にアライメントマークを検出するように検出器９を制御する。 （もっと読む）

【課題】アルゴンガスと酸素ガスでのドライエッチング速度の選択性が高く、高いスループットで微細パターンを形成することができるナノインプリント法に好適な転写材料用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】アミノ基が芳香環に直接結合された芳香族アミン化合物と分子内にエポキシ基と（メタ）アクリロイル基を有する化合物を反応させて得られる芳香族アミン型（メタ）アクリレート化合物を含有することを特徴とする転写材料用硬化性組成物である。 （もっと読む）

【課題】インプリントリソグラフィにおいてテンプレートによりインプリントされる前に基板からインプリント可能媒体の一部が蒸発することを抑える
【解決手段】複数のインプリント用テンプレート４００を保持するように構成されたテンプレートセットホルダ４０１と基板４０３を保持するように構成された基板ホルダとを備え、インプリント用テンプレート４００及びテンプレートセットホルダ４０１がシリコンリッチ単量体の液層でスピンコーティングにより覆われ、テンプレートセットホルダ４０１が基板ホルダの下に配置される。 （もっと読む）

【課題】
レジスト層あるいはアモルファスカーボン層を表面に有する基板に、低温で良質の膜を形成する。
【解決手段】
レジスト層もしくはアモルファスカーボン層を表面に有する基板にＨＭＤＳガスを曝すＨＭＤＳガス暴露工程と、基板に酸素含有ガスを曝す酸素含有ガス暴露工程と、を行うことにより、少なくともレジスト層もしくはアモルファスカーボン層の上にシリコン酸化膜を形成する。これにより、基板の表面のレジストあるいはＡＣＬにダメージを与えることのない低い処理温度で、不純物が少なく、ウェットエッチングレートが低い膜をレジストあるいはＡＣＬの上に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、転写基板の凹凸パターンの反射光の中心軸のずれ量を高精度に評価可能な露光装置を提供する。
【解決手段】レジスト層１０１に選択的にレーザ光を露光する露光処理部１０と、レジスト層１０１が感光しないレーザ光を照射して反射光を検出するディテクタ１４と、検出信号のヒストグラムに表れる凸部領域から代表点を抽出する抽出部３２、３４、３５と、抽出された代表点を用いて、試験露光アシンメトリ値を算出するアシンメトリ算出部１６と、試験露光アシンメトリ値の変化を、スタンパアシンメトリ値の変化に対応付けた情報を記憶する内部メモリ１７ａを参照して、算出される試験露光アシンメトリ値に対応付けられたスタンパアシンメトリ値が、所定の変動領域を超えているか否かを評価するアシンメトリ評価部１７とを備える。 （もっと読む）

【課題】モールドと樹脂との離型性に優れ、樹脂のパターン欠陥を生じないもしくは低減させたナノインプリント方法、およびそれに用いるモールドを提供する。
【解決手段】凹凸パターン１２を表面に有するモールド１１を、被加工基板１４上の光硬化性樹脂１５に押し付けると共に、前記モールド１１を介して前記光硬化性樹脂１５を感光させる光を照射することによって前記光硬化性樹脂１５を硬化させて前記凹凸パターン１２を転写するナノインプリント方法であって、前記モールド１１表面の表面自由エネルギーと、前記硬化した後の光硬化性樹脂１５表面の表面自由エネルギーとの少なくとも一方の表面自由エネルギーが、５ｍＪ／ｍ²以上で３０ｍＪ／ｍ²以下である。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリント法の光源としてＵＶ−ＬＥＤ光源を用いて微細凹凸構造を作製する際に、金型からの微細凹凸構造の転写が良好になるようなＵＶ−ＬＥＤ光源を提供することを目的とする。
【解決手段】ＬＥＤを有するＵＶ光照射部と、ＵＶ光照射部から射出されたＵＶ光を透過して散乱するＵＶ散乱板とを具備し、ＵＶ散乱板がＵＶ光照射部と露光対象との間に配置する。また、ＵＶ散乱板が、ＵＶ光照射部から射出されるＵＶ光を透過する基材を有し、且つ、基材中に、ＵＶ光照射部から射出されるＵＶ光の中心波長の１／１０倍以下の分散剤及び／又は中心波長以上の大きさを有する分散剤を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】スタンパ製造時における微細パターンの局所的な変形を防止することであって、最終的に得られる成形品における微細パターンを当初の狙い通りに形成すること。
【解決手段】（ｉ）スタンパの微細パターンＡの反転形状に相当する微細パターンＢが形成されたレジストマスタを用意する工程、および、（ｉｉ）レジストマスタを母型とした電鋳を実施することによって、微細パターンＡが形成されたスタンパを得る工程
を含んで成り、工程（ｉ）で用意されるレジストマスタの微細パターン形成面においては、微細パターンＢを中心とした放射線に沿うように凹部パターンを形成しておき、工程（ｉｉ）においては、電鋳に際して生じ得る応力を凹部パターンにより緩和することを特徴とするスタンパの製造方法。 （もっと読む）