インプリントリソグラフィに使用されるナノディスクを形成するための方法およびシステムならびにナノディスクによって形成されたメモリディスクが提供される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高精細なパターンを形成することが可能であり、また効率よく製造可能なパターン形成体、およびその製造方法を提供することを主目的としている。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材上に、少なくとも半導体光触媒および樹脂を含有する半導体光触媒含有層を形成する半導体光触媒含有層形成工程と、
前記半導体光触媒含有層に、フッ素化合物を導入ガスとしてプラズマを照射し、フッ素を導入するプラズマ照射工程と、
フッ素が導入された前記半導体光触媒含有層にパターン状にエネルギーを照射し、前記半導体光触媒含有層の液体との濡れ性が低下した濡れ性変化パターンを形成する濡れ性変化パターン形成工程と
を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板のモリブデン膜にモリブデン酸アンモニウム塩のようなパーティクルを発生させずに、モリブデン膜にシランカップリング処理してその表面を適度に疎水化することが可能な電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】表面にモリブデン膜を有する基板を加熱したプレート上に設置し、メチルトリエトキシシランのような液体のシランカップリング剤を不活性ガスでバブリングして気相状態で前記モリブデン膜表面に導入することによりシランカップリング処理する工程と、前記モリブデン膜にフォトレジスト膜を形成する工程とを含むことを特徴とする電子デバイスの製造方法。 （もっと読む）

インプリント・リソグラフィによって基板をパターン化する方法を開示する。インプリント・リソグラフィは液体を基板上に分配するプロセスである。テンプレートが液体に接触され、液体が硬化される。硬化した液体はテンプレート内に形成されつパターンのインプリントを含む。一実施形態では、基板上に予め形成された層に対するテンプレートの整列は散乱計測を用いて行われる。
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【課題】 高価で大型な装置を用いずに発生することができる長波長の光を用いて、幅が細い微細なパターンであって、高アスペクト比のパターンを形成することができるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定の波長を有する光を吸収して熱を発生する光吸収熱変換物質１とその熱によって化学反応する熱感応性物質２とを含む混合物３が塗布された基板４を用い、レーザ光源５から出射されたレーザ光６を収束手段７によって収束した後、基板４にレーザ光６を照射することによって、基板上にパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、ノズルからの気体流に対する気体交差流の影響を低減する装置に関する。当該装置は、ノズルに付設されたシュラウドを備える。プレナムはシュラウドの内部に設けられており、シュラウドガスを保持する。当該シュラウドガスは、１つ以上の取り入れ口を通じてプレナムへと供給される。シュラウドガスは、例えば穴部またはスロットなど、シュラウドの下部面に沿って設けられた一連の開口を通じてノズルから離れる方向へと放出される。放出されるシュラウドガスは、気体交差流がノズルからの気体の流れに影響を与えるのを抑制するためノズルの周囲にエアカーテンを形成する。１つの実施例として、本発明はリソグラフィのガスゲージ近接センサに用いられる。また当該装置は、例えば液浸リソグラフィの近接センサなどの、液体を放出するノズルにも使用できる。 （もっと読む）

【課題】 レジストを選択的に塗布するインクジェット方式を使用したレジストパターンの形成方法、弾性表面波素子片の製造方法および弾性表面波デバイスを提供する。
【解決手段】 弾性表面波素子片１０の製造方法は、圧電基板１２上に金属を成膜して、すだれ状電極１４および前記すだれ状電極１４に接続するパッド１８を形成する工程と、インクジェットヘッドを用いてレジストの液滴を前記パッド１８上に塗布してレジストパターンを形成する工程と、前記すだれ状電極１４上にパッシベーション膜２４を形成する工程と、前記レジストパターンを除去する工程とを備えた構成である。 （もっと読む）

【課題】熱ダメージが小さく、ラジカル濃度が低く、更に露光時間の短い露光方法および露光装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハを必要露光量の１／Ｎで露光する。この露光をＮ回繰り返す。１／Ｎ露光量を１／Ｎの露光時間（露光シャッター開口時間）、あるいは、１／Ｎの照度の光源を使用して得る。 （もっと読む）

【課題】充填剤を含む転写層に微細パターンを生産効率良く形成する方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂と充填剤を含む熱可塑性組成物からなる転写層に所望のパターンの反転パターンを有するモールドを圧着させる工程、該転写層に所望のパターンを形成する工程、および該モールドを該転写層から離脱させる工程を具備する転写層にパターンを形成する方法、ならびに、硬化性単量体と充填剤を含む硬化性組成物からなる転写層に所望のパターンの反転パターンを有するモールドを押し付ける工程、該転写層と該モールドを押し付けた状態で硬化性組成物を硬化させる工程、および硬化性組成物の硬化により形成された硬化物からモールドを離脱させる工程を具備する転写層にパターンを形成する方法。 （もっと読む）

【課題】光近接効果補正のためのマスクパターン・ライン幅を算出する前提となるレジストパターン・ライン幅を算出する方法を提供する。
【解決手段】レジストパターン・ライン幅の算出方法は、（Ａ）露光用マスクにおける、ラインピッチＰ_m、マスクパターン・ライン幅ＭＬ_(m,n)を有するマスクパターンを、基体上に形成されたレジスト材料層に転写して、レジストパターンにおけるレジストパターン・ライン幅ＲＬ_(m,n)を求め、（Ｂ）マスクパターン・ライン幅を独立変数、レジストパターン・ライン幅を従属変数とした、Ｍ本のレジストパターン・ライン幅曲線を得た後、（Ｃ）所望のラインピッチＰ_i及びマスクパターン・ライン幅ＭＬ_(i,j)において、レジストパターン・ライン幅関数ＤＲ_iにマスクパターン・ライン幅ＭＬ_(i,j)を代入することで、レジストパターン・ライン幅計算値ＣＲＬ_(i,j)を求める工程から成る。 （もっと読む）

【課題】 液浸液を所望の状態及び位置に保持して、液浸液がちぎれることを防止し、優れた結像性能を実現する露光装置、制御方法及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系を備え、前記投影光学系と前記被処理体との間の少なくとも一部に供給される液体を介して前記被処理体を露光する露光装置であって、前記被処理体を移動可能に保持するステージと、前記液体を供給及び回収する液体供給回収機構と、前記ステージの移動速度、加速度又は変位の位相を基に、前記液体供給回収機構が供給する前記液体の供給量及び回収する前記液体の回収量を制御する制御部とを有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 操作の簡単化、低コスト化、かつ、パターン転写の高精度化を実現できる熱間エンボシングリソグラフィーを行う方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の熱間エンボシングリソグラフィーを行う方法は、基体と所定のパターンを備える圧模を設け、室において、圧模と基体を当接させ、小分子物質の蒸気を注入し、圧模と基体を基体のガラス化温度の以上に加熱して圧力を加え、それから圧模と基体を冷却し、圧模と基体を離し、このようにすると、熱間エンボシングリソグラフィーを行うことができる。本発明は、小分子物質の蒸気を注入することによって、圧模と基体との界面の強い吸着力を減らすようにして、パターン転写の高精度化、操作の簡単化、低コスト化が実現できる。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の汚染を十分に抑制することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】 容器５と、容器５内で光のパターンを感光性基板１０に投影する投影光学系５２と、容器５の内外を連通する第一管路８０と、第一管路８０を介して容器５内のガスを容器５の外に排出させる送風機９２と、を備え、第一管路８０の開口８１が投影光学系５２と感光性基板１０との間に設けられている。 （もっと読む）

【課題】従来よりもさらに超微細で高精度のパターンを有する耐久性、転写性等に優れ、
複雑な金型形状も容易な金型の提供、例えば、次々世代光ディスクといわれる５００ＧＢ
の情報を記録できる光ディスクの製造を可能にする金型を提供する。
【解決手段】集束イオンビームにより加工された状態で線幅又はドット径が２０ｎｍ以下
であるナノスケールのパターンが形成されたＺｒ−Ｃｕ系金属ガラス合金からなることを
特徴とする超微細パタンー転写用金型。高密度記録媒体製造用の原盤又はナノ・インプリ
ント金型として用いて熱硬化性樹脂膜、結晶性金属膜、金属ガラス合金膜又は半導体膜な
ど超微細パターンを高精細に転写できる。 （もっと読む）

本発明は、インプリントリソグラフィ・プロセスを受ける基板の加熱及びこれに伴う悪影響を回避できないとしても軽減する方法に関する。そのため、本発明は化学線エネルギーに応答して固化するポリマー材料を用いて基板のある範囲をパターン形成する方法を含み、当該フィールドの小部分は、その小部分内のポリマー材料を硬化させるのに十分に曝露され、その後、全範囲に関するポリマー材料の全ての包括的曝露を行い、当該ポリマー材料を硬化／固化する。 （もっと読む）

【課題】 通常の露光経路以外の箇所に付着した汚染物質を洗浄することができる露光装置の自己洗浄方法を提供する。
【解決手段】 凸レンズ状のレンズ部１２の表面に反射膜１２Ｒがコーティングされた反射板１０を、原板ホルダ６にセットし、光源１から露光用の光線を出力する。反射板１０で反射された光線は拡散してコンデンサレンズ５の表面に照射され、このコンデンサレンズ５の表面に付着した汚染物質が分解・除去される。更に、コンデンサレンズ５内部に入射した光線により、通常の露光経路以外の箇所に付着した汚染物質が洗浄される。反射板として凹面鏡や透過率５０％の反射板等を用いることにより、光線の照射範囲、即ち洗浄する箇所を変えることができる。 （もっと読む）

従来のフォトリソグラフィーを用いた配線作製工程では、レジストや配線材料、またプラズマ処理時に必要なプロセスガス等の多くが無駄になってしまう。また真空装置等の排気手段が必要であることから、装置全体が大型化するため、処理基板の大型化に伴い製造コストが増加することが問題になっていた。本発明では、レジストや配線材料を液滴として、基板上の必要な箇所に直接線状または点状に噴射して、パターンを描画するという手段を適用する。またアッシングやエッチング等の気相反応プロセスを大気圧又は大気圧近傍下で行う手段を適用する。
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【課題】液浸リソグラフィ装置において、液浸液の温度勾配および／または液浸液による汚染物質の運搬を低減もしくは回避すること。
【解決手段】例えば局所的空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、空間を２つの部分に分割するためのプレートが提供される。空間をこのように分割することにより、散乱放射線、温度勾配および汚染物質の運搬を容易に低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 モールドのパターンを連続して精密に転写でき、かつ光学的特性に優れる転写体を得ることができる転写体の製造方法を提供する。
【解決手段】 ペルフルオロ（ポリオキシアルキレン）鎖と硬化性基とを有する化合物（Ａ）を含有する硬化性材料を、最小寸法が５０μｍ以下の凹凸パターン１３が表面に形成されたモールド１４と接触した状態で硬化させ、モールド１４の凹凸パターン１３が転写された転写体を得る製造方法により解決される。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。
【解決手段】局部空間に液浸液が供給される液浸リソグラフィ装置において、局部空間の平面図の形状が実質的に基板と平行の実質的に多角形である。一実施例では、空間の２つの角の曲率半径が、液体を含有するようになされた空間と、液体を含有するようになされていない周囲との間の移行ゾーンの幅以下である。 （もっと読む）