【課題】リソグラフィ技術を用いて型の表面に形成された微細な凹凸パターンを被成形品の表面に転写するとき、型と被成形品の位置ずれ（横ずれ）を小さく抑えることのできる転写装置及び方法を提供する。
【解決手段】上面に成形材料の供給される成形用の基板を搭載するテーブル１１と、同テーブル面に対向して配置された転写用の型４１を下面に固定保持する型保持体２０５と、前記型保持体を下面側に保持すると共にその上面側に凸球面部を形成してなる下側ジンバル部材２０１と、前記下側ジンバル部材の凸球面部と対接する凹球面部を形成した上側ジンバル部材２０３と、前記上側ジンバル部材２０３を保持し、前記テーブル面に対し上下方向に進退可能な可動体１９と、前記可動体を上下方向に進退駆動せしめるサーボモータ３３を含む可動体駆動手段と、前記下側ジンバル部材の姿勢を調整保持するための姿勢調整及び保持手段とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 露光装置において基板に付着した液体による動作不良が防止された基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置５００は、インデクサブロック９、反射防止膜用処理ブロック１０、レジスト膜用処理ブロック１１、現像処理ブロック１２およびインターフェースブロック１３を備える。インターフェースブロック１３に隣接するように露光装置１４が配置される。インターフェースブロック１３は２つの乾燥処理ユニットを含む乾燥処理部９５およびインターフェース用搬送機構ＩＦＲを備える。露光装置１４において基板Ｗに露光処理が施された後、基板Ｗはインターフェース用搬送機構ＩＦＲにより乾燥処理部９５の乾燥処理ユニットに搬送される。乾燥処理部９５の乾燥処理ユニットにおいて基板Ｗの洗浄および乾燥処理が行われる。 （もっと読む）

【課題】
位相シフターなどの光学素子を含む微細表面構造物品の生産において、歩留まりと精度を向上させる
【解決手段】
製品基板として用いる基板２の表面には研磨加工による微細な凹凸が存在するので、これらの凹凸を小さくするために基板２の表面及び裏面に、堆積薄膜４が真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の成膜方法により形成されている。 （もっと読む）

【課題】 残渣膜を除去する必要なしに、ナノインプリント法で形成された被加工膜のパターンに電解めっきを施すことができる微細金属構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 １）基板１上の、導電性を持つ高分子膜でつくった流動状態にある被加工膜３に、微細な凹凸パターンが形成された型２を押し付け、２）前記流動状態にある被加工膜を硬化して、その硬化した被加工膜から前記型を剥離し、その型の凹凸パターンが転写されて構造体パターンを有する被加工膜を得、３）その被加工膜を電極としてめっきを行って、前記構造体パターンを有する被加工膜のパターン凹部にめっき金属４を堆積し、４）その堆積しためっき金属を前記被加工膜から分離し、微細金属構造体５を製造する。 （もっと読む）

本発明は、基板上に配置された段階的構造体の反転形状を基板に転写することを特徴形状とする、段階的構造体を基板上に形成するための方法を提供する。
（もっと読む）

【課題】 鋳型を用いた方法により、ナノレベルでサイズ制御が可能なナノ構造体の作製を実現するのに好適な鋳型形成用組成物を提供する
【解決手段】鋳型の表面に設けられた薄膜の一部を除去し、さらに前記鋳型を除去してナノ構造体を製造する方法に用いられる鋳型形成用組成物であって、親水性基を有し、分子量が５００以上の有機化合物を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】小型、高解像度、安価なインプリント・リソグラフィを提供する。
【解決手段】インプリント・テンプレート１を保持するように構成されたテンプレート・ホルダ６と、基板テーブル３とを有するインプリント・リソグラフィ装置において、該テンプレート・ホルダ６は、高圧通路９を通してガスを供給し、かつ、インプリント・テンプレート１と基板テーブル３上に保持されている基板２との間の分離距離を制御するように構成されたガス支承体（テンプレート・ホルダ）６を有する。 （もっと読む）

【課題】ナノ、ミクロインプリント方式転写において、転写精度を高め、離反応力の低減を図る。
【解決手段】 転写印刷版１に凹凸の溝パターンを形成し、被印刷部材２または被印刷部材上に形成された樹脂膜１７に転写印刷版１の凹凸の溝パターンを形成する、インプリント方式の転写印刷方法である。可撓性を有する転写印刷版１を被印刷部材２側に湾曲させて転写印刷を行なう。 （もっと読む）

【課題】基板表面に親インク性と疎インク性の部分を設け、親インク性部分にインクによるパターン形成前駆体を正確な形状に形成する方法を提供する。
【解決手段】基材の表面に、パターン形成材料が優先的に堆積される表面特性を有する第１の領域と、前記第１の領域に比較して前記パターン形成材料が堆積されにくい表面特性を有する第２の領域を形成する工程と、前記基材に対して、前記パターン形成材料を付与し、前記第１の領域にその材料を選択的に堆積させる工程と、前記パターン形成材料に対し相溶性の低い第２の材料を堆積させる工程とによって、図１（Ｅ）の形状を有するパターン形成前駆体を図１（Ｆ）の形状とするパターン形成法である。 （もっと読む）

【課題】直線偏光のＵＶレーザー放射での使用に好適であって、異方性密度変化により生じるコンパクションと複屈折とに対して最適化されている光学部材を提供する。この光学部材は作動波長が２５０ｎｍ以下である浸漬型リソグラフィのプロジェクションレンズシステムに使用するに適している。
【解決手段】石英ガラスは以下の特性の組合せを示す。本質的に酸素欠陥のないガラス構造、６０wtppm以下のヒドロキシル基の平均含有量、１０wtppm以下のフッ素の平均含有量、そして１wtppm以下の塩素の平均含有量。
この光学部材の製造方法は次の工程を備えている。還元条件の下でＳiO_２スート体をつくり、乾燥する工程、そして石英ガラス構造の酸素欠陥と反応する反応物でその乾燥したスート体をガラス化前にもしくはガラス化中に処理する工程。 （もっと読む）

【課題】 サブμｍ以下の微細構造体や薄い板状の微細構造体の転写が可能なナノインプリント技術を利用して、微細金属構造体をよりよい加工精度で製造する。
【解決手段】 １）第１の基板上の、流動状態にある被加工膜に、微細な凹凸パターンが形成された型を押し付け、２）流動状態にある被加工膜を硬化して、その硬化した被加工膜から型を剥離し、その型の凹凸パターンが転写されて構造体パターンを有する被加工膜を得、３）構造体パターンを形成した面を貼り付けて、被加工膜を、導電性を有する第２の基板に取り付け、４）その被加工膜の、構造体パターンを形成していない面を除去することにより構造体パターンを開口してその構造体パターンを通して第２の基板を露出し、５）その露出した第２の基板を電極としてめっきを行い、６）堆積しためっき金属を、第２の基板と被加工膜から分離することにより、微細金属構造体を製造する。 （もっと読む）

【課題】簡略な作製プロセスにより再現性良く作製することができ、繰り返し使用による反りや曲りに対応することが可能となる微細な凹凸パターンを有するモールドとその製造方法、凹凸パターンの転写方法、凹部を有する部材の製造方法を提供する。
【解決手段】ナノインプリント用モールドであって、基板１０上にレジストで凹凸パターン１１を形成し、前記凹凸パターンに、形状記憶性を有する組成の材料１２（ＮｉＴｉ合金）を埋め込んで成膜した後、前記凹凸パターンから成膜部を剥離して前記凹凸パターンが転写されたモールド１３を得るようにする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、半導体集積回路等のリソグラフィーに使用される露光装置に関し、レチクルステージ室と投影光学系室とを分離する遮蔽部材または固定ブラインドに形成される開口部をより確実に遮蔽することを目的とする。
【解決手段】 レチクルが配置されるレチクルステージ室と投影光学系が配置される投影光学系室とを分離する遮蔽部材と、遮蔽部材に形成される遮蔽部材開口部に露光動作時に位置され露光光の露光領域を規定する固定ブラインドと、レチクルの非走査方向の露光領域を制限する非走査方向遮光部材と、レチクルの走査方向の露光領域を制限する走査方向遮光部材と、遮蔽部材開口部の非走査方向の両側に位置され遮蔽部材開口部を介してレチクルの焦点位置検出を行う焦点位置検出装置とを有し、焦点位置検出時に、遮蔽部材開口部を外れた位置に固定ブラインドを位置させ、遮蔽部材開口部の位置に非走査方向遮光部材を位置させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 型のパターン面と加工対象物の被加工面の位置や、パターン面と被加工面の位置を変化させる変位速度をマイクロメートル、ナノメートルレベルでコントロールすることができる離型制御可能な加工装置を提供すること。
【解決手段】 所定のパターンを有する型１００と加工対象物２００とを押圧して、型のパターンを加工対象物に転写する加工装置であって、型１００と加工対象物２００との相対的な位置およびその位置を変化させる変位速度を調節可能な変位手段５と、型１００および加工対象物２００の少なくともいずれか一方に振動を加える加振手段６と、型１００と加工対象物２００との相対的な位置を検出する位置検出手段７と、型１００と加工対象物２００との間の圧力を検出する圧力検出手段８と、位置検出手段７および圧力検出手段８の検出情報に基づいて、変位手段５および加振手段６の作動を制御する制御手段３００と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置用の液体供給システムにおいて、乱流を低減し、且つ浸漬液のオーバーフローを低減するシール部材またはバリア部材を提供すること。
【解決手段】本発明の液浸リソグラフィ装置用の液体供給システムは、投影システムの最終要素と基板の間に浸漬液の層流を提供する。制御システムはオーバーフローの変化を最小限に抑え、抽出装置は振動を最小限に抑えるように構成された出口のアレイを含む。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、不規則な特徴を有するパターンを含む基板パターンを複製する改良された組成及び方法を提供する。本発明の方法は、ブロック共重合体材料をパターン化基板上に堆積させる工程と、パターンを複製するために材料内の構成要素を秩序化する工程とを含む。一部の実施形態において、秩序化は、共重合体材料の混合物の使用、及び／又は、基板パターンの領域が共重合体材料の少なくとも一つの構成要素と非常に優先的な形で相互作用するように基板パターンを構成することで促進する。本発明は、更に、ブロック共重合体材料において複製された不規則な特徴を有する基板パターンを含む組成を提供する。 （もっと読む）

【課題】ナノプリント法において、離型性と転写精度に優れた金属金型を提供する。
【解決手段】離型材と金型の表面に形成される金属酸化皮膜の厚さを制御することにより、その外層に形成する離型材層の接着量を調整して、離型性に優れた金型とする。本発明はまた、ナノプリント金型の製造方法及びこの金型を用いたナノプリント装置並びにナノプリント方法に関する。 （もっと読む）

この露光装置は、投影光学系と基板との間を液体で満たし、投影光学系と液体とを介して基板上にパターンの像を投影することによって基板を露光する。この露光装置は、商用電源から供給される電力によって駆動する駆動部を有する液体回収機構と、商用電源とは別の無停電電源とを備え、商用電源の停電時に、駆動部に対する電力の供給が無停電電源に切り替わる。
（もっと読む）

【課題】ナノインプリント、ホットエンボシング等の方法により基板上に微細構造を形成するにあたり、プレス装置に支持しやすく、かつプレス時における加圧および加熱による変形や歪みを防止し、高精度かつ低コストで加工しうる微細加工用型を提供する。
【解決手段】本発明に係る微細加工用型１は、微細な構造が形成された薄片型２と、この薄片型２の材料と熱膨張係数が同一または略同等の材料からなり薄片型２より厚みの大きい台座３とが、薄膜４を介して接合されてなる。 （もっと読む）

【課題】 超微細なパターンを高精度に転写することが可能なナノインプリント方法及び装置を提供する。
【解決手段】 転写すべきパターンに応じた凹凸が形成された基板４１と基板４１の凹凸上に積層させた金属性薄膜４２とを有するモールド１３を、レジスト膜２２が表面に塗布された被加工材２１へ押し付け、被加工材２１の押し付け面に対する背面側から光を照射し、或いはモールド１３の押し付け面に対する背面側から光を照射し、照射した光に基づいて発生させた近接場光によりレジスト膜２２を感光させ、その後モールド１３を被加工材２１から剥離させる。 （もっと読む）