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Fターム[5F051AA05]の内容

光起電力装置 (50,037) | 本体材料 (7,491) | 4族 (3,976) | アモルファス (1,238)

Fターム[5F051AA05]に分類される特許

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【課題】好適に成膜できる温度条件が異なる、複数の光電変換層を有する多接合型太陽電池の製造時間を短縮する方法を提供することである。
【解決手段】基板2上に異なる光電変換層5,6を複数備えた多接合型太陽電池1の基板2を同一の成膜室14で連続的に製造する際に、第1の光電変換層5を形成するのに適した第1温度領域と、第2の光電変換層を形成するのに適した第2温度領域とが相違する場合において、成膜室14に備えた加熱装置23の設定を変えることによって、成膜室14内の基板2の温度を任意に変更可能であり、前記基板2の第1の光電変換層5を形成中に、前記加熱装置23の設定温度を、基板温度が第2温度領域に近付くように設定する。 (もっと読む)


【課題】太陽電池や発光素子等の光学素子において、光の利用効率を改善することができるガラス基板及びガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一面の長手方向に、突条と条溝との周期的な繰り返し構造を有するガラス基板であって、波長300nm〜800nmのヘイズ率が30%以上であることを特徴とするガラス基板。ガラス母材の少なくとも一面に、突条と条溝との周期的な繰り返し構造を形成し、次に、前記ガラス母材を加熱して前記突条及び前記条溝の長さ方向に延伸する。 (もっと読む)


【課題】光電変換モジュールを重ね合わせた際の全体の容量を小さくする。
【解決手段】光電変換モジュール200の裏面に配置されたフレーム26を備え、フレーム26は、光電変換モジュール200に固定される固定部26aと、固定部26aから光電変換モジュール200の裏面に対して立ち上げられた端部26bと、を備える形状とする。 (もっと読む)


【課題】短絡部へ太陽電池セルの耐電圧以下の所要の電圧を安定して印加させることで短絡部除去効果を安定化させ、また装置コスト及び保守コストの低減を図り得る太陽電池の短絡部除去装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は上記目的を達成するために、第1の太陽電池セル1Bにおける第1の電極層3bの一方の端部付近に接触させる第1の電圧印加部材8aと、第1の太陽電池セル1Bに隣接する第2の太陽電池セル1Cにおける第1の電極層3cであって第1の太陽電池セル1Bにおける第2の電極層5bに同電位に接続される当該第2の太陽電池セル1Cにおける第1の電極層3cの他方の端部付近に接触させる第2の電圧印加部材8bと、第1の電圧印加部材8aと第2の電圧印加部材8bとの間に接続され第1の太陽電池セル1Bに対し耐電圧以下の逆方向電圧を印加する直流電源9とを有する太陽電池の短絡部除去装置を提供するものである。 (もっと読む)


【課題】触媒線の長寿命化を可能とする触媒CVD装置、膜の形成方法及び太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】触媒CVD装置100において、制御部は、成膜時の前後の所定の時間において、触媒線13の温度を待機温度に制御する。待機温度は、成膜時における触媒線13の温度より低く、かつ、室温より高い所定の温度である。 (もっと読む)


【課題】基板の膜面に接触することなく、基板を撓ませずに保持するとともに、基板全体を排気することなく、レーザ加工の残滓を除去すること。
【解決手段】ガラス基板1を立ててガラス基板1の周辺部を固定枠14にて固定し、レーザ光31をガラス基板1に照射するとともに、加工残滓の吸引しながら、Xステージ12をX方向に一定速度で移動させることで、ガラス基板1上の膜にスクライブパターン3を形成する。 (もっと読む)


【課題】光電変換層に対して精度の高い検査を、簡易にかつ確実に実施することができる検査装置を提供する。
【解決手段】少なくとも太陽電池モジュール2を構成する光電変換層13が形成された透光性基板11Aが載せられる支持部と、光電変換層13にエネルギを入力する入力部140と、入力されたエネルギに対する光電変換層13の反応を測定する測定部160と、支持部に対して水平方向に相対移動可能とされ、入力部140および測定部160の一方が配置される移動部150と、支持部を上下方向に移動させ、透光性基板11Aと移動部150との間隔を変更する昇降部と、外光を遮蔽するとともに、支持部、昇降部、入力部140、測定部160および移動部150を内部に収納する暗室110と、が設けられ、入力部140および測定部160の他方は、支持部に配置されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】太陽電池モジュールの発電効率が高く、発生させた電力をファン以外の用途にも使用することが出来、建設費の低減や工期の短縮化を図ることが可能であり、下水道施設の景観も良好となり、更に適切に脱臭が行われ得る、下水道施設の覆蓋手段を提供すること。
【解決手段】上面板の表面に太陽電池モジュールが設置された覆蓋10a、覆蓋10b、覆蓋10cが隣接して配置され、それらの上面板2が一の平面を形成してなるとともに、覆蓋10a、覆蓋10b、覆蓋10cによって、下方が開口した内部空間が形成されている下水道施設の覆蓋集合体1の提供による。 (もっと読む)


【課題】高品質の酸化亜鉛系の薄膜を低コストで得ることができる技術を提供する。
【解決手段】第一原料ガス精製装置3は、成膜チャンバーに導入される亜鉛原料ガスをジエチル亜鉛から生成させるものであり、減圧可能な液体原料気化容器21a,21bとヒータ22a,22bを主要構成としている。ヒータ22a,22bにより液体原料気化容器21a,21b内のジエチル亜鉛を減圧下で加熱することができ、ジエチル亜鉛が減圧蒸留に供される形となる。そのため、純度96.0〜99.8%の低純度ジエチル亜鉛を用いても、高純度ジエチル亜鉛の使用時と変わりなく、低コストで酸化亜鉛系の薄膜を製造することができる。また当該薄膜は、特に光の散乱性能の点で高い性能を有し、太陽電池の透明導電膜として有用である。 (もっと読む)


【課題】
ガラス基板から透明導電膜を通り光電変換層へ入射する太陽光線のロスを抑えることのできる太陽電池及びその製造法を提供する。
【解決手段】
本発明による、ガラス基板上に透明導電膜層、光電変換層及び裏面電極を積層して成る太陽電池は、ガラス基板とその上に形成される透明導電膜層との間に、ガラス基板の屈折率から透明導電膜層の屈折率まで連続して変化する傾斜屈折率層を設けたことを特徴としている。
また、本発明による太陽電池の製造法は、アルコキシシラン化合物及びアルコキシジルコ化合物を含有する溶液をその混合比を制御しながらスプレーデポジション法によりガラス基板上に塗布することにより組成が連続して変化した傾斜屈折率層を、ガラス基板と透明導電膜層との間に形成する。 (もっと読む)


【課題】発電効率を向上させた太陽電池を提供する。
【解決手段】p型層30と、バッファ層31と、i型層32と、n型層34とを備え、p型層30は高濃度アモルファス炭化シリコン層30aと、高濃度アモルファス炭化シリコン層30aよりp型ドーパントのドーパント濃度が低い低濃度アモルファス炭化シリコン層30bを設ける。ここで、バッファ層31をアモルファス炭化シリコンで形成するとともに、低濃度アモルファス炭化シリコン層30aの膜厚は、高濃度アモルファス炭化シリコン層30b及びバッファ層31の膜厚よりも厚くする。 (もっと読む)


【課題】薄膜太陽電池の電極剥離を防止できる非絶縁型の電力変換装置およびそれを用いた太陽光発電システムを提供する。
【解決手段】太陽電池1の負極の電位を基準として、正側および負側の電圧を有する二直流電源を生成するDC/DCコンバータ4と、該DC/DCコンバータ4からの直流電力を、前記二直流電源の基準電位を基準として交流電力に変換するインバータ5とを具備し、インバータ5のスイッチングによって二直流電源の基準電位が変動するのを抑制し、これによって、薄膜太陽電池1の負極の電位が変動するのを抑制して、薄膜太陽電池1の電極剥離を防止する。 (もっと読む)


【課題】反射特性が最適化された中間コンタクト層を備える光電変換装置を提供する。
【解決手段】基板1上に基板1と反対側の表面に凹凸構造を備える透明電極層2と、透明電極層2上に2つの発電層91,92からなる光電変換層3と、光電変換層3上に裏面電極層4と、2つの発電層91,92の間に設けられる中間コンタクト層5とを備え、中間コンタクト層5が、基板1側から順に、酸化チタンを主とする酸化チタン膜と、透明導電性酸化物を主とする裏面側透明導電膜とを含み、酸化チタン膜の膜厚が、裏面側透明導電膜の膜厚が5nmのときに65nm以上110nm以下、10nmのときに65nm以上95nm以下、15nmのときに65nm以上90nm以下、20nmのときに60nm以上85nm以下、25nmのときに55nm以上70nm以下、及び、30nmのときに55nm以上65nm以下で表される領域の範囲内である光電変換装置100。 (もっと読む)


【課題】高い長波長感度は保持したまま、開放電圧や形状因子の低下を抑制または向上させた光電変換装置を提供することを目的とする。
【解決手段】i層が、p層側傾斜層が、結晶質シリコンと結晶質シリコンゲルマニウムとを含み、p層側傾斜層中のゲルマニウム濃度が、結晶質シリコンゲルマニウム層に含まれるゲルマニウム濃度以下の濃度範囲で、p層側結晶質シリコン層から結晶質シリコンゲルマニウム層に向かって段階的または単調にゲルマニウム濃度が増加し、p層側結晶質シリコン層の膜厚が、p層側結晶質シリコン層の膜厚とp層側傾斜層の膜厚との和に対して30%以上50%以下の厚さであり、p層側結晶質シリコン層の膜厚とp層側傾斜層の膜厚との和が、p層側結晶質シリコン層の膜厚と、p層側傾斜層の膜厚と、結晶質シリコンゲルマニウム層の膜厚との和に対して20%以上50%以下である光電変換装置100。 (もっと読む)


【課題】発電量が大きい太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】本発明の太陽電池モジュール1では、透光性を有する基板2と、基板2上に設けられ、第1の方向に相互接続された複数の光電変換素子20と、複数の光電変換素子20の第1の面上に配置され、電力を集電するための電極6a、6bと、光電変換素子20の第1の面上において、電極6a、6bに接続され、電極6a、6bからの電力を外部に取り出すための配線8a、8bと、を備える。そして、複数の光電変換素子20は第1の方向と交差する第2の方向に延在したスリットS1によって分割されるとともに、電極6a、6bはスリットS1と重畳するように配置される。 (もっと読む)


【課題】太陽電池セルの基板の割れおよび電極の剥離を抑制でき、歩留まりの低下を抑制可能な太陽電池セル、太陽電池モジュールを提供することが課題である。
【解決手段】半導体基板の一方の主面上に形成される一方の主面側電極23と、この半導体基板の他方の主面上に形成される他方の主面側電極22を備え、一方の主面側電極23上及び他方の主面側電極22上に接続用導電性接続部材が設けられる太陽電池セルであって、半導体基板の端部側上に補助膜23cを備え、この補助膜23cはその輪郭領域が半導体基板の端部側上に設けられる接続用導電性接続部材の幅より幅広であり、且つ補助膜23cは輪郭領域内に補助膜23cが存在しない部分234cを有する。 (もっと読む)


【課題】 この発明は、透明導電膜の結晶粒界密度を減少させ、Naイオンの拡散を抑制し、耐Na性を向上させることを目的とする。
【解決手段】 この発明は、n単結晶シリコン基板1と、このn型単結晶シリコン基板1表面に真性な非晶質シリコン層2を介して形成されたp型非晶質シリコン層3と、このp型非晶質シリコン3層上に形成された透明導電膜4と、を備えた光起電力装置であって、単結晶シリコン基板1の非晶質シリコン層2が設けられる表面は、表面の凹凸を近似直線からの標準偏差が1.0nm未満になるように規定している。 (もっと読む)


【課題】太陽電池セルと金属基板の間の浮遊容量の影響が小さく、また、両者間の電位差が小さく、1モジュール当たりの出力電圧の高い高電圧太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】金属基板と、その上の絶縁層と、その上の、直列接続される複数の太陽電池セルと、2つの出力端子と、接地端子とを有し、各太陽電池セルは、絶縁層上の裏面電極層と、その上の、受光した光を電気に変換する光電変換層と、その上の透明電極層とを備え、2つの出力端子は、一方の端部の太陽電池セルの裏面電極層に接続される第1の出力端子と他方の端部の太陽電池セルの透明電極層に接続される第2の出力端子とからなり、さらに、複数の太陽電池セルの真中の太陽電池セルからプラス10%〜マイナス10%の範囲にある1つの接地用太陽電池セルの裏面電極層と金属基板とを電気的に導通する導電層を有し、接地端子は、金属基板に接続され、金属基板及び導電層を介して接地用太陽電池セルに接続されることにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】従来の単結晶、多結晶、薄膜太陽電池よりも透明電極と集電極との接合を良好にする。
【解決手段】厚みが250μm以下の一導電型単結晶シリコン基板を用い、前記基板の一面にp型シリコン系薄膜層を有し、前記基板と前記p型シリコン系薄膜層の間に実質的に真正なシリコン系薄膜層を備え、前記基板の他面にn型シリコン系薄膜層を有し、前記基板と前記n型シリコン系薄膜層の間に実質的に真正なシリコン系薄膜層を備え、前記p型およびn型シリコン系薄膜層上に透明電極を備え、さらに前記透明電極上に集電極、さらにその上に保護層を設けた結晶シリコン系太陽電池であって、上記透明電極において、集電極と半導体層に挟まれた実質的に光が当たらない箇所とそれ以外の箇所でキャリア濃度が異なり、さらに、実質的に光が当たらない箇所の方がそれ以外の箇所よりもキャリア濃度が高いことを特徴とする、結晶シリコン系太陽電池。 (もっと読む)


【課題】本発明は、光電変換セルを形成後に、光電変換セルの出力特性を低下させることなく複数の領域に分離した光電変換装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第1の電極、光電変換層、第2の電極を順に積層し、光電変換素子を形成する第1の工程と、光電変換層、第2の電極を除去し、第1のスリットを形成する第2の工程と、第1のスリットと重なる領域において第1の電極を除去して第2のスリットを形成し、光電変換素子を複数の領域に分割する第3の工程と、を含む。 (もっと読む)


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