【課題】
ガラス基板から透明導電膜を通り光電変換層へ入射する太陽光線のロスを抑えることのできる太陽電池及びその製造法を提供する。
【解決手段】
本発明による、ガラス基板上に透明導電膜層、光電変換層及び裏面電極を積層して成る太陽電池は、ガラス基板とその上に形成される透明導電膜層との間に、ガラス基板の屈折率から透明導電膜層の屈折率まで連続して変化する傾斜屈折率層を設けたことを特徴としている。
また、本発明による太陽電池の製造法は、アルコキシシラン化合物及びアルコキシジルコ化合物を含有する溶液をその混合比を制御しながらスプレーデポジション法によりガラス基板上に塗布することにより組成が連続して変化した傾斜屈折率層を、ガラス基板と透明導電膜層との間に形成する。 （もっと読む）

【課題】導電性高分子膜、及び固体電解コンデンサなどの電子デバイスに用いられる導電性高分子膜の導電性の向上を目的とする。
【解決手段】本発明の導電性高分子膜は、導電性高分子のモノマーと、酸化剤と、添加剤とを含む重合液を用いて形成される導電性高分子膜である。添加剤として、ドーパントと塩基性物質からなる塩を用いる。本発明の電子デバイスとしての固体電解コンデンサは、導電性高分子層３として、前記導電性高分子膜を用いる。 （もっと読む）

【課題】薄膜太陽電池パネルの絶縁加工を簡略化する。
【解決手段】ステップＳ１において、レーザ加工装置は、SHGレーザ光および基本波レーザ光を用いて、薄膜太陽電池パネルの周縁の透明電極層、半導体層、裏面電極層を除去する。ステップＳ２において、レーザ加工装置は、SHGレーザ光を用いて、透明電極層、半導体層、裏面電極層を除去した領域の内周付近の領域の半導体層、裏面電極層を除去する。本発明は、例えば、薄膜太陽電池パネルの絶縁加工を行うレーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】積層型の光電変換装置において中間層の両側に位置する光電変換層間の導電性を向上させること。
【解決手段】非晶質Ｓｉ光電変換層４と微結晶Ｓｉ光電変換層６とに挟まれた中間層５は、非晶質Ｓｉ光電変換層４側の界面に正の固定電荷を持った正電荷保持酸化アルミニウム層５ａ、反対側の微結晶Ｓｉ光電変換層６側の界面に負の固定電荷を持った負電荷保持酸化アルミニウム層５ｂとする２層構造とする。 （もっと読む）

【課題】ソーラーシステム機能と広告機能とを同時に併用して成る広告具を提供する。
【解決手段】広告媒体Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３に太陽電池モジュール２を組み込んで成り、さらに具体的には、広告媒体Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３の任意の被着面に貼着可能としたラッピングシート状の広告具本体１に、フィルム型に形成された太陽電池モジュール２を貼着して成るものとする。 （もっと読む）

【課題】基板面内にヘイズ率の分布がある透明電極付き基板を用いても、電池出力を低下させない光電変換装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板１上に形成され、該基板１と反対側の面に凹凸を有する透明電極層２と、該透明電極層２上に、スパッタ法によって形成されたシリコンを主とする膜７と、該シリコンを主とする膜７上に、基板１側から順にｐ層とｉ層とｎ層、または、ｎ層とｉ層とｐ層とを積層させた光電変換層３とを備える光電変換装置１００。 （もっと読む）

【課題】透過性が高く、ヘイズに優れ、密着性及び可撓性を有しつつ、高い導電性を有する導電性材料及びそれを製造するための導電膜形成用感光材料並びにこれを用いた表示素子及び太陽電池の提供。
【解決手段】導電膜形成用感光材料は、銀塩含有乳剤層と、導電性繊維を含有する導電層とを有してなり、前記導電性繊維の塗設量が、０．００５ｇ／ｍ^２〜０．２ｇ／ｍ^２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透光性基板にひびが生じることを抑制可能なレーザー加工装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザー加工装置は、少なくとも縁部において光軸に近づくに従って強度が高くなる強度分布を有するレーザーパルスを順次出力するレーザー出力部と、レーザーパルスが照射される領域の縁部同士が重複するように、レーザーパルスの照射位置を制御する照射位置制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】製造コストの低減を図るとともに、軽量化を図ることにより製造時や施工時の取扱を容易にすることができる太陽電池パネルを提供する。
【解決手段】入射光が入射する側から順に透光性基板１１Ａ、透光性基板１１Ａ上に配置される光電変換層、および、透光性基板１１Ａとの間で光電変換層を密封する裏面基板１１Ｂが積層された太陽電池モジュール２と、裏面基板１１Ｂに固定されて、太陽電池モジュール２を支持するリブ部３Ｌ，３Ｓと、が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明電極層から微結晶シリコンｐ層への酸素の拡散を抑制することで、高い発電効率を有する光電変換装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板１上に、透明電極層２と、少なくとも１つの光電変換層３とを備え、前記光電変換層３が、ｐ型結晶質シリコン層４１と、ｉ型結晶質シリコン層４２と、ｎ型シリコン層４３とを含み、前記透明電極層２と前記ｐ型結晶質シリコン層４１との間に、非晶質シリコン層７が隣接して配置される光電変換装置１００。 （もっと読む）

【課題】シャワーヘッド電極に加えて、低コストでメンテナンスが容易な原料ガスの供給機構を用いることにより、基板への膜の均一性を向上させることが可能なプラズマＣＶＤ装置及びプラズマＣＶＤによる成膜方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、真空容器２内に原料ガスを供給して、プラズマＣＶＤ成膜法により基板１の表面に薄膜を形成するプラズマＣＶＤ装置において、真空容器２内には、原料ガスを供給するためのシャワーヘッド電極９が配設されているとともに、シャワーヘッド電極９に対して側面方向から原料ガスを供給するためのガス供給機構１４がさらに配設されている。 （もっと読む）

【課題】レーザー光線による透明導電膜の熱損傷やガラス基板の割れを抑制し、レーザー光線の焦点合わせが容易となる光電変換素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１１上に成膜された透明導電膜１２を含む膜１３にスクライブ３０を形成するスクライブ工程を有する光電変換素子の製造方法において、スクライブ工程は直径が１００μｍ以下の水ジェット１６で誘導したレーザー光線１５によって行われ、レーザー光線１５を膜１３側からガラス基板１１側に向かって照射する。 （もっと読む）

【課題】より有効にレーザ光を利用しながら、より電気絶縁性に優れたエッジデリーションを行う。
【解決手段】SHGレーザ発振器１１３は、パルス発生器１１１から供給される出射指令信号に同期してSHGパルスを出射し、基本波レーザ発振器１１４は、遅延回路１１２により遅延された出射指令信号に同期して基本波パルスを出射する。SHGパルスおよび基本波パルスは、角形光ファイバ１２０を通過し、２波長コリメータレンズ１２１および２波長結像レンズ１２２により、スリット１２３の入射面において矩形の開口部を含むように結像された後、スリット１２３を通過し、２波長結像レンズ１２４および２波長ｆθレンズ１２６により、薄膜太陽電池パネル１０２の加工面に入射し結像される。本発明は、例えば、エッジデリーションを行うレーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】 太陽電池の電極等の機能層への接触性、接続信頼性に優れ、集電電極等にゆうような導体層を有する導体層パターン付き基材を提供する。
【解決手段】 樹脂層を含む基材に導体層のパターンが積層されている導体層パターン付き基材であって、上記導体層の断面形状が、その上部に湾曲した表面を有し、上記導体層は、少なくともその上部表面の一部が樹脂層からは露出しており、導体層の最大幅（Ｌ）に対する最大幅より上部の導体層の厚み（Ｔ２）の割合（Ｔ２／Ｌ）が０．０１〜２の範囲である導体層パターン付き基材。樹脂層への導体層の密着性向上のため導体層の少なくとも最大幅の部分から下の部分が樹脂層に埋設されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】可視光の短波長領域における光吸収を抑制することにより、高い光電変換効率を有する光電変換装置を製造する方法を提供する。
【解決手段】基板１上に基板側透明電極層２を形成する工程、隣接する２つの電池層９１，９２の間に中間コンタクト層５を形成する工程、及び、光電変換層３上に裏面側透明電極層６を形成する工程のうち少なくとも１つの工程が、前記基板側透明電極層２、前記中間コンタクト層５、及び前記裏面側透明電極層６として、ＧａがドープされたＺｎＯを主とする透明導電膜を、該透明導電膜の単位膜厚当たりの不活性ガス分圧に対するＮ_２ガス分圧の比が所定値以下となるように、前記Ｎ_２ガス分圧を制御して製膜する光電変換装置１００の製造方法。 （もっと読む）

【課題】太陽電池モジュールの面内における微結晶シリコン膜の結晶性の不均一性による特性の低下を抑制する。
【解決手段】光電変換ユニット１４に微結晶シリコン膜のｉ型層を発電層として含み、そのｉ型層は、面内において第１の領域３０と、第１の領域３０より結晶化率が低い第２の領域３２とを有しており、太陽電池モジュール１００の端子ボックス２４へのタブ電極２２を第２の領域３２に重畳させて配置する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、膜除去装置と検査装置を一体型し、各層の除膜状態を検査しても
検査に基づく太陽電池膜生産ラインの長さが長くなることなく、または占有面積が増えることなく、あるいは検査時間のみの時間が不要な検査機能を有する膜除去装置を提供し、並びに、各層の膜除去工程または膜間で発生した加工等の不良を検出できる検査機能を有する膜除去装置または信頼性の高い太陽電池膜生産ラインあるいは太陽電池膜生産方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、太陽電池膜を構成する層を形成する膜にレーザ光を照射して前記膜の一部を除去しスクライブを形成し、前記スクライブ状態を検査する際に、前記膜の一部を除去しながら、少なくとも前記スクライブを撮像し、前記スクライブ状態を検査することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好な耐プラズマ還元性を有するとともに、透明導電膜／光電変換層界面での反射損失を抑制することができる光電変換装置の製造方法、及び、電池特性が改善された光電変換装置を提供する。
【解決手段】基板１上に、順に透明電極層２と、酸化チタンを主に含む酸化チタン層５１と、酸化亜鉛を主に含む酸化亜鉛層５２と、光電変換層３とを形成する光電変換装置１００の製造方法であって、入射光のスペクトルと光電変換層３の量子効率との積である重み関数を算出し、所定の膜厚の酸化チタン層５１及び酸化亜鉛層５２を透過する光のスペクトルと、算出された重み関数とから、所定の膜厚の酸化チタン層５１及び酸化亜鉛層５２を透過する光の平均透過率を算出し、算出された平均透過率と、酸化チタン層５１の還元防止効果を考慮した酸化亜鉛層５２の膜厚範囲に基づいて、形成する酸化チタン層５１及び酸化亜鉛層５２の膜厚を決定する。 （もっと読む）

【課題】結晶シリコン系太陽電池において、光電変換層への光の取り込み量を多くすることで光電変換効率の向上をはかる。
【解決手段】厚みが２００μｍ以下の一導電型単結晶シリコン基板を用い、前記基板の一面にｐ型シリコン系薄膜層を有し、前記基板と前記ｐ型シリコン系薄膜層の間に実質的に真正なシリコン系薄膜層を備え、前記基板の他面にｎ型シリコン系薄膜層を有し、前記基板と前記ｎ型シリコン系薄膜層の間に実質的に真正なシリコン系薄膜層を備え、前記ｐ型およびｎ型シリコン系薄膜層上に透明電極を備え、さらに前記透明電極上に集電極、その上に保護層を設けた結晶シリコン系太陽電池であって、上記透明電極は導電性酸化物層を含んでおり、上記導電性酸化物には水素がドーピングされており、そのキャリア濃度が２×２０²¹ｃｍ^-3以上であり、且つ上記透明電極の抵抗率が２×１０^-4Ω・ｃｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ラミネート時の出力配線の位置ズレを防ぐともに、開口部からの水分の浸透を防ぎ、太陽電池モジュールの信頼性を向上させるとともに、その歩留まりも向上させる。
【解決手段】 表面保護部材１２と、裏面保護部材１３と、配線部材１６によって電気的接続された複数の太陽電池１１と、表面保護部材１２と裏面保護部材１３との間に、複数の太陽電池を封止する封止部材１４と、太陽電池１１の出力を取り出すための出力配線２０と、を備え、裏面保護部材１３に開口部1３ａが設けられ、この開口部１３ａを覆うように封止フィルム３０が配設されるとともに、封止フィルム３０に、出力配線２０が挿入されるスリットが設けられる。そして出力配線２０が封止フィルム３０のスリット部から開口部１３ａを経て裏面部材１３の外部に取り出される。 （もっと読む）