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Fターム[5F051DA04]の内容

光起電力装置 (50,037) | 素子構造 (3,383) | 接合形態 (2,084) | pin (847)

Fターム[5F051DA04]に分類される特許

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【課題】信頼性および出力特性に優れた薄膜太陽電池を得ること。
【解決手段】透光性絶縁基板上に、透明導電材料からなる第1電極層と、半導体薄膜からなり光電変換を行う光電変換層と、光を反射する導電層を含む第2電極層と、が順次積層されてなる複数の薄膜太陽電池セルが配設されるとともに、隣接する前記薄膜太陽電池セル同士が電気的に直列接続された薄膜太陽電池であって、前記第2電極層は、前記光電変換層上に順次積層された銀膜からなる導電性反射膜と、窒化チタン膜からなり前記導電性反射膜の保護膜である表面保護膜と、を含み、前記直列接続された複数の薄膜太陽電池セルのうち、両端の前記薄膜太陽電池セルは、前記表面保護膜上に、導電性接着剤または導電性粒子含有樹脂からなる導電性接着層を介して、前記薄膜太陽電池セルからの電力の取り出し用の取り出し配線が配設されている。 (もっと読む)


【課題】大面積の薄膜太陽電池に単位セルを画成するパターニングラインを高速かつ高精度で加工できるとともに、装置を小型化するうえでも有利な薄膜太陽電池のレーザ加工装置および加工方法を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置100は、可撓性基板1の長手搬送方向に並設された加工ステージ(4)上の2つの加工領域R1,R2(y1,y2)に対して、それぞれレーザ光を走査し、同時並行してパターニングを行なう2つのガルバノスキャナ(14,24)と、それらに共通の制御部(19)とを備えている。各ガルバノスキャナは、直交2軸方向の走査に対応した第1ミラー(14a,24a)および第2ミラー(14b,24b)を有し、各第1ミラーの走査方向が、可撓性基板の単位セル直列接続に係るパターニングライン(Gy)と平行な長手搬送方向(y)に設定され、各第2ミラーの走査方向が、各加工領域の境界および可撓性基板の各単位モジュールを区分するパターニングライン(Gx)と平行な幅方向(x)に設定されている。 (もっと読む)


【課題】従来に比して薄膜太陽電池の製造コストを抑えるとともに、中間層の下に形成される光電変換層の光電変換効率の低下を引き起こさない薄膜太陽電池の製造方法を得ること。
【解決手段】絶縁透光性基板2上に、表面電極層11と、シリコンを含む半導体材料からなるp型半導体層131、i型半導体層132およびn型半導体層133を順に積層した第1の光電変換層13と、n型の微結晶シリコンとアモルファスシリコンとが混在する複合層14Aと、を順に形成し、酸素ガスを含むプラズマを複合層14Aに照射して、微結晶シリコンとアモルファス酸化シリコンとが混在する中間層14を形成した後、中間層14上に、第1の光電変換層13よりもバンドギャップの小さいシリコンを含む半導体材料からなるp型半導体層151、i型半導体層152およびn型半導体層153を順に積層した第2の光電変換層15と、裏面電極層16と、を形成する。 (もっと読む)


【課題】優れた熱寸法安定性と低吸水率を太陽電池の基材として用いたときに製造時の信頼性の高い太陽電池基材用フィルムを提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂からなり、120℃から200℃まで20℃/分の昇温速度で昇温したときの熱膨張率が長手方向および幅方向のいずれも50ppm/℃以下であり、吸水率が1%以下であることを特徴とする、太陽電池基材用フィルム。 (もっと読む)


【課題】歩留まり良く高精度にスクライブ加工を実施する。
【解決手段】スクライブ加工装置1は、表面に被スクライブ加工膜Mが形成された連続した帯状の可橈性基板Bを、張力を付与しながらウェブ搬送する搬送手段10と、被スクライブ加工膜Mが形成されていない側から可橈性基板Bに対して凸曲面21Sを接触させて、可橈性基板Bを押圧する押圧手段20と、被スクライブ加工膜Mに対してスクライブ加工を行うスクライブ手段30とを備えた装置であり、スクライブ加工の際に可橈性基板Bに掛かる単位断面積あたりの張力T及び押圧力Pが、下記式(1)〜(3)を充足する。
1.5MPa≦T≦25MPa・・・(1)、
4kPa≦P≦50kPa・・・(2)、
5GPa2≦T×P≦800GPa2・・・(3) (もっと読む)


【課題】優れた熱寸法安定性と低吸水率を太陽電池の基材として用いたときに製造時の信頼性の高い太陽電池基材用フィルムを提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂からなり、120℃から200℃まで20℃/分の昇温速度で昇温したときの熱膨張率が長手方向および幅方向のいずれも50ppm/℃以下であり、
波長400〜900nmの範囲での全光線透過率が平均70%以上であり、吸水率が1%以下であることを特徴とする、太陽電池基材用フィルム。 (もっと読む)


【課題】太陽電池セルの損傷が抑制される薄膜太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】本発明の薄膜太陽電池モジュールは、基板と、それぞれが一定の幅を有する3つ以上のセルストリングを含むセルモジュールとを備え、各セルストリングは、直列接続された複数の太陽電池セルを備え、前記セルストリングは、前記基板上に、前記太陽電池セルが直列接続された方向に対して垂直な方向に並べて設けられかつ双方的に互いに並列接続され、前記太陽電池セルは、それぞれ表面電極、光電変換層及び裏面電極をこの順で重ねて備え、各セルストリングは、該セルストリングに含まれかつ隣接する前記太陽電池セルの一方の表面電極と他方の裏面電極とを電気的に接続しかつ該セルストリングの幅と同じ幅を有するコンタクトラインを備え、前記3つ以上のセルストリングのうち両端の前記セルストリングの少なくとも一方は、他の前記セルストリングより広い幅を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】リーク電流による薄膜太陽電池モジュールの出力の低下を小さくすることができる薄膜太陽電池モジュールを提供する。
【解決手段】本発明の薄膜太陽電池モジュールは、基板と、それぞれが一定の幅を有する3つ以上のセルストリングを含むセルモジュールとを備え、各セルストリングは、該セルストリングの幅と同じ幅を有しかつ直列接続された複数の太陽電池セルを備え、前記セルストリングは、前記太陽電池セルが直列接続された方向の長さが同じであり、かつ前記基板上に、並べて設けられかつ並列接続され、前記太陽電池セルは、それぞれ表面電極、光電変換層及び裏面電極をこの順で重ねて備え、各セルストリングは、前記太陽電池セルの一方の表面電極と他方の裏面電極とを電気的に接続しかつコンタクトラインを備え、前記3つ以上のセルストリングのうち両端の前記セルストリングは、他の前記セルストリングより狭い幅を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】背面電極内に光透過部をパターン形成することによって光透過部を通して太陽光が透過されるようにし、従来の薄膜型太陽電池に比べて光透過領域が増加し、ガラス窓の代用とするのに充分な可視圏を確保できる薄膜型太陽電池を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に所定間隔離間して形成される前面電極と、前面電極上にコンタクト部または分離部を介在して離間して形成される半導体層と、コンタクト部を通じて前面電極と連結され、分離部を介在して離間して形成される背面電極と、を含んでなり、ここで、光透過領域を増大させるために、所定部分に光透過部が設けられるように背面電極がパターン形成されたことを特徴とする薄膜型太陽電池及びその製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、窓材ガラスとして用いられるような、十分に透明な光起電デバイスを提供する。
【解決手段】本発明は、基体(3)上に配置されたp−i−n型の複数の光電池(2)を含む光起電デバイス(1)に関する。この本発明の光起電デバイス(1)は、単層の形で、互いに平行に配置されており、導電層(7)が、各電池(2)の連続するn層(6)とp層(5)との間に配置されており、それによって複数の光電池(2)が直列に電気的に接続されている。また本発明は、グレージングとしてのこのような光起電デバイス(1)の使用、このような光起電デバイス(1)の製造方法、透明なこのような光起電デバイス(1)の検査方法、及びこのような検査方法を実施するための設備に関する。 (もっと読む)


【課題】製造工程を複雑化させることなく、高効率な光電変換装置を提供する。
【解決手段】一導電型である第1不純物半導体層と、結晶質半導体の占める割合が非晶質半導体よりも多い第1半導体領域と、非晶質半導体の占める割合が結晶質半導体よりも多く、且つ非晶質半導体中に放射状結晶と針状の成長端を有する結晶が混在する第2半導体領域と、を含む半導体層と、第1不純物半導体層と逆の導電型である第2不純物半導体層と、が順に積層され半導体接合を構成するユニットセルを有する。 (もっと読む)


【課題】基体が非磁性体である場合に当該基体を搬送しながら成膜でき、当該基体に損傷を与えず、長いゲート面間長を要さずにガス分離機能を十分に持つことができるロール・ツー・ロール方式半導体素子生産装置1を提供する。
【解決手段】ゲート5の内部に3本のロール11a等を配置して略U字形の基体18の搬送経路を設けた。中央部ロール11bの径は他のロールの径より太い。基体18は3本のロール11a等のロール面に掛けられている。容器13内に、3本のロール11a等の各円周面及び略U字形の搬送経路に沿う基体18の搬送経路に相当するゲート隙間を極小の隙間とするように、ゲート隙間形成部材10a等を配設した。パージ・ガスはガス・パージ導入部材12a等の吹出し口16等からロール面に向い吹出される。中央部ロール11bの回転軸は容器13の穴を連通し端部シール体15を介してロール支持体14により両端を支持されている。 (もっと読む)


【課題】i層における膜厚方向の結晶粒径を大きくして粒界を減少させ、キャリアの再結合を抑制すると同時にドーパントの活性化を行うことにより、光電変換効率を向上させることが可能な太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁性基板11上に、第1透明電極12と、p型シリコン層13、i型シリコン層14及びn型シリコン層15からなるpin構造またはnip構造の多結晶シリコン層と、第2透明電極16とを少なくとも順次積層してなる太陽電池の製造方法であり、p型シリコン層13またはn型シリコン層を積層してから減圧酸素雰囲気中で熱処理を行い、続いてp型シリコン層13またはn型シリコン層上にi型シリコン層14を積層し、更にi型シリコン層14上にn型シリコン層15またはp型シリコン層を積層することにより、前記pin構造またはnip構造の多結晶シリコン層を形成することを特徴とする太陽電池の製造方法。 (もっと読む)


【課題】良好な特性の単結晶半導体層を有する半導体基板をCMP処理や高温の熱処理を必須とせずに作製することを目的の一とする。又、半導体基板の生産性の向上を目的の一とする。
【解決手段】第1の基板上に設けられた第1の単結晶半導体層をシード層として気相エピタキシャル成長を行うことで、第1の単結晶半導体層上に第2の単結晶半導体層を形成し、両層の界面で分離を行い、第2の基板上に第2の単結晶半導体層を転載し半導体基板を得るとともに、該シード層に対しレーザー処理を行い再利用する。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、高TATと加工不良低減を両立できるレーザ加工装置を提供することにある。
【解決手段】レーザ照射部(4,5,6)と、基板のうねりを測定するうねり測定部(11,12)や基板上に形成された薄膜の膜厚を測定する膜厚測定部、基板上の薄膜がレーザ加工されて形成された溝を光学的に検査する光学的検査部(8,9,10)との位置関係が一定に保たれるように互いに固定して配置されたレーザ加工装置。 (もっと読む)


【課題】複雑な構造を必要とせず、出力低下やホットスポット現象を防止することができ、信頼性に優れた太陽電池モジュールを提供すること。
【解決手段】本発明に係る太陽電池モジュール10は、基板11上に第一電極層13、発電層14、第二電極層16を順に重ねてなる積層体12が、スクライブ線20により区画されて複数の太陽電池セル21とされ、隣接する位置にある該太陽電池セル同士を直列に接続し、複数段の該太陽電池セルから構成される太陽電池モジュールであって、前記第二電極層は、膜厚が厚い第一部位16aと、該第一部位に比べて膜厚が薄い第二部位16bとを有しており、前記第一部位と前記第二部位は何れも、前記スクライブ線に交差するように、かつ交互に配されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡単かつ汎用性のある方法で、微結晶シリコン層からなる光電変換層の表面に凹凸を設けることができる薄膜太陽電池の製造方法を提供する。
【解決手段】この薄膜太陽電池の製造方法は、基板50上に第1導電型(例えばn型)微結晶シリコン層を形成する工程と、第1導電型微結晶シリコン層上にi型微結晶シリコン層を形成する工程と、i型微結晶シリコン層を水素プラズマで処理する工程と、i型微結晶シリコン層上に第2導電型(例えばp型)微結晶シリコン層を形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板を搬送するための開口部が設けられた成膜室を有しており、かつメンテナンスコストが低い薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】薄膜製造装置は真空容器10、成膜室100、カソード電極120、アノード電極130、及び排気部140を備える。成膜室100は真空容器10内に配置され、被処理基板200に成膜処理を行う。また成膜室100には、被処理基板200を搬入及び搬送するための開口部112が設けられている。カソード電極120及びアノード電極130は、成膜室100の中に配置されており、被処理基板200を介して互いに対向している。排気部140は成膜室100の中に延伸し、カソード電極120とアノード電極130の間の空間150を排気する。そして排気部140は、外面が空間150に面していない。 (もっと読む)


【課題】高出力の光電変換装置とすることができる裏面電極構造を提供する。
【解決手段】基板1上に、透明電極層2と、少なくとも1層の光電変換層3と、裏面電極構造とを備える光電変換装置100であって、前記裏面電極構造が、基板1側から順に、第1裏面透明電極層7と、低屈折率層8と、第2裏面透明電極層9と、金属膜からなる裏面電極層4とを積層されて構成され、前記低屈折率層8の屈折率が、前記第1裏面透明電極層7及び前記第2裏面透明電極層9の屈折率よりも低いことを特徴とする光電変換装置100。 (もっと読む)


【課題】地球資源に対する影響を最小限に留めて、大面積、大電力を可能にする光電変換素子及び太陽電池を得ることである。
【解決手段】非晶質シリコンによって形成されたnip構造を備え、n+型ZnO層により形成された透明電極に対して、n+型a−Si層を接触した構造によりエネルギ変換効率を向上させた光電変換素子が得られる。 (もっと読む)


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