【課題】ヒューズ素子の列数増に伴うトリミング時間の伸長を抑制する。
【解決手段】ｘ方向に延伸する接地配線Ｇと、接地配線のｙ方向の一方側に設けられたヒューズ素子領域Ａにｘ方向に沿って３列に並べて配置され、かつそれぞれの一端が接地配線Ｇに共通に接続される複数のヒューズ素子と、ヒューズ素子領域Ａを挟んで接地配線Ｇの反対側に設けられ、ヒューズ素子領域Ａに配置された複数のヒューズ素子それぞれの他端と接続される救済回路とを備え、上記複数のヒューズ素子は、それぞれ1つの欠陥選択線を示すアドレス情報を記憶する複数のヒューズ素子グループに所定個ずつグループ化され、同一のヒューズ素子グループに属する所定個のヒューズ素子は、同一列に配置されることを特徴とする （もっと読む）

【課題】従来のようにピラーの分割単位が小数点数とならず、単位ピラートランジスタのピラーの径の変更を行う必要が無くなり、半導体装置を製造するプロセスを複雑化することなく、ピラー型のトランジスタによりセルを、セルロウ内に効率的に配置するレイアウトデータ作成装置を提供する。
【解決手段】本発明のレイアウトデータ作成装置は、集積回路における複数の単位ピラー型トランジスタで構成されるピラー型トランジスタを、配置領域内に配置可能な単位ピラー型トランジスタの整数単位に分割し、配置領域内に配置するサブピラー型トランジスタを生成するトランジスタ調整部２を備えている。 （もっと読む）

【課題】 より簡易な設計手法で作製可能なテスト回路を提供する。
【解決手段】 テスト回路１００は、基板と、基板上に形成された配線部及び被試験デバイス部１０とを備える構成とする。テスト回路１００では、被試験デバイス本体のパターン形成面内における回転中心位置Ｏと複数の接続電極１３ａ〜１３ｄのそれぞれとを結ぶ直線Ｌ１の延在方向が、配線２１の延在方向に対して所定の角度で傾いている。さらに、被試験デバイス本体及び複数の接続電極１３ａ〜１３ｄをパターン形成面内で９０度回転させた際にも、複数の接続電極１３ａ〜１３ｄ及び複数の配線２１〜２４間の接続が維持されるような位置に複数の接続電極１３ａ〜１３ｄが配置される。 （もっと読む）

【課題】複数の回路ブロックの特性を正確に一致させる。
【解決手段】例えば、端子３１Ａ，３１Ｂと、これら端子間に設けられた回路１１０Ａ，１１０Ｂを備える。回路１１０Ａは端子３１Ａに接続され、端子３１Ａから端子３１Ｂへ向かって配置されたセル１２０Ａ，１３０Ａ，１４０Ａを含む。回路１１０Ｂは端子３１Ｂに接続され、端子３１Ｂから端子３１Ａへ向かって配置されたセル１２０Ｂ，１３０Ｂ，１４０Ｂを含む。セル１２０Ａ，１２０Ｂのレイアウトは、形状、サイズ及び向きがトランジスタレベルで同一である。セル１３０Ａ，１３０Ｂ及びセル１４０Ａ，１４０Ｂのレイアウトは、形状及びサイズが同一であり、トランジスタの向きが１８０°相違している。これにより各セルを対称配置しつつ、センシティブなセル１２０Ａ，１２０Ｂにおいては電流方向の違いによる特性差が生じない。 （もっと読む）

【課題】セルベース設計において複数の記憶素子セルが配置される構成において、効率的に且つ確実に複数ビットのソフトエラーの発生を抑制することが可能なセルの配置構造を提供する。
【解決手段】回路素子セルの配置構造は、第１の方向に延展するセル配置列上に並べられた複数の記憶素子セルと、複数の記憶素子セルの各々の領域において第１の方向に垂直な第２の方向に並べられた第１のＮウェル及び第１のＰウェルと、複数の記憶素子セルのうち少なくとも２つの互いに隣接する記憶素子セルの間に設けられ、セル配置列の幅に亘る長さを各々が有する第２のＮウェル及び第２のＰウェルとを含み、第１のＮウェルと第２のＮウェルとは一体であり、第１のＰウェルと第２のＰウェルとは一体である。 （もっと読む）

【課題】ビアホールの数を少なくしてもループ発振などの特性劣化が生じにくい半導体電力増幅器を提供する。
【解決手段】半導体電力増幅器は、ゲート電極Ｇと、ドレイン電極Ｄと、前記ゲートフィンガー電極に対向して配置されるソースフィンガー電極横手方向の両サイドに引き出される２つのソース電極Ｓと、を有するユニットＦＥＴと、前記ユニットＦＥＴが、前記ソース電極間を結ぶ略直線方向に複数個並列配置され、隣り合うユニットＦＥＴ間に存在する２つのソース電極の両方を共通して高周波グランド面と接続する第１の接地インダクタンス値を有する第１のビアホール１８Ｋと、隣り合うユニットＦＥＴが存在しない側のソース電極上に配置され、接地インダクタンスを等しくするために前記高周波グランド面に接続する第２の接地インダクタンス値を有する第２のビアホール１８Ｄと、を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体集積回路装置において、レイアウトの面積効率の低下を抑制可能となる、マルチハイトセルのレイアウト構造を提供する。
【解決手段】標準論理セル１０は、電源配線または接地配線となるメタル配線１２を共有するようにＹ方向に隣接して配置された第１および第２回路領域Ａ１，Ａ２を備えている。Ｘ方向において、第１回路領域Ａ１の両端部の位置ｘ１ａ，ｘ１ｂと第２回路領域Ａ２の両端部の位置ｘ２ａ，ｘ２ｂとは、少なくともいずれか一方が異なっている。すなわち、標準論理セル１０の外形形状ＣＦは、第１および第２回路領域Ａ１，Ａ２の外形形状が矩形であるにもかかわらず、非矩形となっている。 （もっと読む）

【課題】配線間のピッチを縮小可能にした半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板に形成された複数のトランジスタと、第１の方向に延在する第１の配線を備えた第１の配線層と、第１の配線層よりも上層に設けられ、第１の方向と交差する第２の方向に延在し、第１の配線と電気的に接続された第２の配線を備えた第２の配線層と、半導体基板と第１の配線層との間に設けられ、複数のトランジスタに接続する第１の中継配線と、第１の中継配線が形成された第１の中継配線層と第１の配線層との間に設けられ、第１の配線と複数のトランジスタのうちの一つとを接続する第２の中継配線とを有する構成である。 （もっと読む）

【課題】周辺回路領域を整形された形状とすることによりチップ面積を縮小する。
【解決手段】Ｙ方向に延在する複数のデータバスＤＢがピッチＰ１でＸ方向に配列されたメモリセル領域４０と、対応する複数のデータバスＤＢにそれぞれ接続された複数のバッファ回路ＢＣが設けられたバッファ領域６１とを備える。バッファ領域６１上においては、Ｙ方向に延在する複数のデータバスＤＢがピッチＰ２でＸ方向に配列され、ピッチＰ２はピッチＰ１よりも小さい。本発明によれば、データバスＤＢの配列ピッチをバッファ領域上において縮小していることから、他の回路ブロックに割当可能な面積を十分に確保することが可能となる。これにより、当該回路ブロックの幅拡大や形状の変形が不要となることから、無駄な空きスペースが生じにくく、チップ面積を縮小することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】再配線層形成工程、メタルポスト形成工程及び樹脂封止工程を経てウェハレベルで樹脂封止される半導体装置について、パッケージング工程で発生する応力を利用してＰＭＯＳＦＥＴの電流駆動能力を制御する。
【解決手段】メタルポスト２１の形成に起因して半導体基板に圧縮応力が生じる範囲内にＰＭＯＳＦＥＴ３１が配置されている。ＰＭＯＳＦＥＴ３１はそのチャネル方向がメタルポスト２３の配置範囲の重心Ｏ及びＰＭＯＳＦＥＴ３１のチャネル領域の配置範囲の重心Ｇを通る直線と直交する向きに配置されている。重心Ｇで、メタルポスト２１の形成に起因して半導体基板に生じる圧縮応力は、重心Ｇの位置で、重心Ｇと中心Ｏを通る直線に直交する方向に印加される。重心Ｇでの圧縮応力の方向とＰＭＯＳＦＥＴ３１のチャネル方向は一致するので、ＰＭＯＳＦＥＴ３１の電流駆動能力は、当該圧縮応力が印加されない場合に比べて向上する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半導体集積回路を備えた半導体装置および半導体集積回路の設計方法に関し、ＩＯ領域を有効に利用しつつパッケージの高さ寸法の増大を有効に抑えた接続を可能とする。
【解決手段】半導体基板の表面の第１の辺に沿って、第１のＩＯセルと、第２のＩＯセルとを交互に配置したＩＯ領域を有し、第１のＩＯセルは、第１の辺から所定の距離の位置に配置されたボンディングパッドを有し、第２のＩＯセルは、第１のＩＯセルのボンディングパッドより第１の辺から遠い位置にボンディングパッドを有し、かつ、第１のＩＯセルの少なくとも１つは、第１の辺から所定の距離の位置に配置された第１のボンディングパッドに加えて、第２のＩＯセルのボンディングパッドより第１の辺から遠い位置に、第２のボンディングパッドを有する第３のＩＯセルに置きかえられている。 （もっと読む）

【課題】被測定素子の配置密度を高めることが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】異なる層に設けられた列配線Ｍ１および行配線Ｍ２からなる単位アレイ配線２１と、異なる層に設けられた列配線Ｍ３および行配線Ｍ４からなる単位アレイ配線２２とを、互いに異なる層に設ける。複数の単位アレイ配線２１，２２には、それぞれ、複数の被測定素子１１，１２のいずれか一つを接続する。複数の単位アレイ配線２１，２２どうしを部分的に重ね合わせて（オーバーラップさせて）配置することにより、被測定素子１１，１２の配置密度を高めることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】内側のセル列と外側のセル列とでセルの形状が同じ場合において、内側のセル列におけるセルの配列ピッチを外側のセル列におけるセルの配列ピッチより大きくしなくても外側のセル列のセルに接続される配線のための領域を確保することができる。
【解決手段】半導体集積回路は、半導体チップの外周１１に沿って配置される複数の第１セル４０と、複数の第１セル４０の内側で外周１１に沿って配置される複数の第２セル４０とを具備する。複数の第１セル４０及び複数の第２セル４０は同一の長方形形状に形成される。複数の第１セル４０のそれぞれの長辺４ａは外周１１に平行である。複数の第２セル４０のそれぞれの長辺４ａは外周１１に垂直である。 （もっと読む）

【課題】アナログレイアウト設計の自動化による設計工期の短縮を図ることが可能なレイアウト設計装置を提供すること。
【解決手段】レイアウト設計装置２１は、回路データ２４の中から特性を一致させる必要があるトランジスタ、抵抗、容量素子群を抽出し、トランジスタ、抵抗、容量素子群の接続関係に基づいてトランジスタ、抵抗、容量素子群に含まれる複数のトランジスタ、抵抗、容量素子によって構成される所定の機能を有する回路、たとえば差動回路、差動負荷回路およびミラー回路を特定する。そして、特定された回路の種別に応じてレイアウト制約３０を生成し、レイアウト制約３０に基づいて配置配線を行なう。したがって、アナログ回路のレイアウト制約３０を自動的に付加することができ、アナログレイアウト設計の自動化による設計工期の短縮を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】高誘電率の絶縁膜を有するｎチャネル型トランジスタやｐチャネル型トランジスタを有する半導体装置の製造方法において、ｎチャネル型トランジスタのゲート絶縁膜の側面への異物の付着を抑制する。
【解決手段】半導体基板の主表面上の、ｐ型不純物領域ＰＷＬに機能用ｎチャネル型トランジスタが、ｎ型不純物領域ＮＷＬに機能用ｐチャネル型トランジスタが形成される。ｐ型不純物領域ＰＷＬの、平面視における機能用ｎチャネル型トランジスタ以外の領域に形成される複数の第１の周辺用トランジスタは、周辺用ｎ型ゲート構造体と周辺用ｐ型ゲート構造体とが混在するように形成される。 （もっと読む）

【課題】ヒューズ（ＦＵＳＥ）を備えた半導体装置の信頼性を向上する。
【解決手段】半導体基板１１の主面上に形成にされた多層配線を構成する層Ｍ１〜Ｍ６のうちの層Ｍ４に設けられた電気溶断型の救済用のヒューズ４ａおよび試験用のヒューズ４ｂと、ヒューズ４ａの近傍であって層Ｍ２および層Ｍ６に設けられた一対の導電板１０ａと、ヒューズ４ｂの近傍であって層Ｍ３および層Ｍ５に設けられた一対の導電板１０ｂとから構成する。ヒューズ４ｂと導電板１０ｂとの間が、ヒューズ４ａと導電板１０ａとの間より近いものとする。 （もっと読む）

【課題】２つの入力端子の配置形態を工夫することにより配線層の増設スペースを確保しスタンダードセルの原価低減を図る。
【解決手段】入力端子３４ｂはゲート配線２ｂに接続され、入力端子３４ｃはゲート配線２ｃに接続される。また、入力端子３４ｂ、３４ｃは、Ｙ方向に互いに近接して配置され、入力端子３４ｂの第２コンタクト配線４ｂは、第１コンタクト配線３ｂと隣接し、且つ該第１コンタクト配線３ｂに対しＸ方向に延在する。入力端子３４ｃの第２コンタクト配線４ｃは、第１コンタクト配線３ｃと隣接し、且つ該第１コンタクト配線３ｃ対して第２コンタクト配線４ｂとは逆のＸ方向に延在する。即ち、入力端子３４ｂの第１コンタクト配線３ｂと入力端子３４ｃの第２コンタクト配線４ｃとはＹ方向に互いに対向して配置され、入力端子３４ｂの第２コンタクト配線４ｂと入力端子３４ｃの第１コンタクト配線３ｃはＹ方向に互いに対向して配置される。 （もっと読む）

【課題】チップコストの低下とチップ歩留りの向上とを同時に実現する。
【解決手段】実施形態に係わる半導体チップは、パッド領域１１及び方形でないゲート領域１２を備える第１のレイアウトＬ１と、第１のレイアウトＬ１を１８０°回転させた第２のレイアウトＬ２とを備える。第１及び第２のレイアウトＬ１，Ｌ２は、点対称かつ重なり合わずに結合されることによりチップレイアウトを構成する。チップレイアウトは、方形のチップ領域内に配置され、第１及び第２のレイアウトＬ１，Ｌ２は、それぞれ独立に動作するＬＳＩを構成する。 （もっと読む）

【課題】外部駆動端子の狭ピッチ化に充分答えることができる半導体装置を提供する。
【解決手段】長方形の半導体基板の一方の長辺に沿ってそれぞれ配置された、複数の外部駆動端子（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ）、対応する前記外部駆動端子に接続されたＥＳＤ保護回路（４Ａ，４Ｂ，４Ｃ）、及び対応する外部駆動端子に接続された出力回路（５）を備え、複数個の外部駆動端子は、Ｙ方向に沿って複数列であるｎ列で配置され、各列の間で外部駆動端子の位置が相互にずらされた千鳥状配置を有し、前記出力回路は、Ｙ方向に交差するＸ方向にｎ個の外部駆動端子毎に対応して一列に配置されるｎ個の出力ユニット（５Ａ，５Ｂ，５Ｃ）を有する。ｎ列の千鳥状配置によって外部駆動端子を狭ピッチにできる。ｎ個の外部駆動端子毎に対応される出力回路にはＸ方向に一列で配置されたｎ個の出力ユニットを配置することにより、ｎ個分の出力ユニットの幅を１個分の幅に集約できる。 （もっと読む）

【課題】様々なオン抵抗の素子を容易に製造することができる半導体装置、半導体集合部材及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】実施形態に係る半導体装置は、素子部と、第１の電極部と、第２の電極部と、延出部と、を備える。素子部は、基板に設けられる。第１の電極部は、素子部の上に設けられ、素子部と導通する。第２の電極部は、素子部の上において第１の電極部と離間して設けられ、素子部と導通する。延出部は、素子部の上に設けられ、第１の電極部及び第２の電極部の周縁部から基板の周縁部に向けて延出して設けられる。 （もっと読む）