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Fターム[5F083JA58]の内容

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Fターム[5F083JA58]に分類される特許

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【課題】メモリデータを外部回路を用いずに、コピーを行う半導体記憶装置を提供することを課題とする。
【解決手段】複数のメモリセルの第一端子が共通接続されたビット線と、ビット線に接続され、読み出し時にビット線を特定の電位にプリチャージするプリチャージ回路と、メモリセルから読み出したデータ、もしくはメモリセルへの書き込みデータを一時的に保持する容量素子を有するデータ保持回路と、データ保持回路で保持しているデータの反転データをビット線に出力する反転データ出力回路とを有し、反転データ出力回路は、データ保持回路で保持しているデータの反転データの出力を制御する手段を有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】小型化が可能な不揮発性メモリを備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】基板901上に画素と不揮発性メモリとを備え、不揮発性メモリは、基板901上に形成される半導体活性層と、半導体活性層上に形成される絶縁膜923と、絶縁膜923上に形成されるフローティングゲイト電極907と、フローティングゲイト電極907を酸化して得られる酸化膜908,915,922と、酸化膜908,915,922に接して形成されるコントロールゲイト電極929と、を備え、画素と不揮発性メモリとは、基板901上に一体形成される。 (もっと読む)


【課題】従来の調査方法では、質問事項に対して回答しない客がいるという問題があった
。また客の主観や見栄等による影響があり、客のニーズを的確に判断することが困難であ
った。
【解決手段】客に無線通信が可能なチップ(無線チップ)の装着された物を持たせる。更
に、店舗の売場の入口、出口、及び売場の内部の複数のポイント各々にアンテナを配置す
る。客が入口、出口及び複数のポイントに近づくと、近づいたポイントに配置されたアン
テナから無線チップに位置情報と時刻情報とを書き込む。無線チップに書き込まれた情報
を読み取ることで客の売場内での移動経路等を判断する。この結果をもとに客のニーズを
判断する。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな駆動方法を提供する。また、新たな駆動方法により、メモリ素子への書き込み電位のばらつきを低減し、信頼性を向上させる。
【解決手段】半導体装置の駆動方法において、書き込み電位を段階的に上昇させて、同時に読み出し電流を確認し、読み出し電流の結果を書き込み電位に利用して書き込みを行う。つまり、正しい電位で書き込みが行われたか確認しながら書き込みを行うことで、信頼性の高い書き込みを行うことが可能である。 (もっと読む)


【課題】高集積化を図り、単位面積あたりの記憶容量を増加させた新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。高集積化に伴い増加する回路素子数の低減が可能で、かつ、素子数低減による電力削減が可能な、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ビット線と、m(mは3以上の自然数)本のワード線と、ソース線と、m本の信号線と、第1乃至mのメモリセルと、駆動回路と、を有する半導体装置において、メモリセルは、第1のトランジスタ、容量素子に蓄積された電荷を保持する第2のトランジスタを含み、第2のトランジスタは酸化物半導体層で形成されるチャネルを有する。上記構成において、駆動回路は、第j(jは3以上の自然数)の信号線に出力される信号を用いて第(j−1)の信号線に出力される信号を生成する。 (もっと読む)


【課題】軽量であり、かつ強固な信頼性を備えた半導体デバイスを提供する。
【解決手段】集積回路チップは、プラスチックの基板101と、基板101上に配されたポリマー誘電体103と、電極同士の間に形成された有機半導体材料112および受動層114の少なくとも1つのを含むアクティブデバイス104と、少なくとも1つのアクティブデバイス104に隣接する導電性ポリマー106および/または108とを備えている。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、且つ書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供する。また半導体装置の高集積化を図り、単位面積あたりの記憶容量を増加させる。
【解決手段】トランジスタのオフ電流を十分に小さくすることができる材料、例えば酸化物半導体材料を用いて半導体装置を構成する。また半導体装置の各メモリセルの酸化物半導体材料を用いたトランジスタを直列に接続する。更に、第j(jは2以上m以下の自然数)のメモリセルの容量素子の端子の一方に電気的に接続される配線と、第(j−1)のメモリセルのチャネルが酸化物半導体層に形成されたトランジスタのゲート端子に電気的に接続される配線と、を同じ配線(第jのワード線)とする。これによってメモリセルあたりの配線の数を減らし、メモリセルあたりの占有面積を低減する。 (もっと読む)


【課題】不良を抑制しつつ微細化を達成する半導体装置の作製方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】絶縁表面上に、酸化物半導体層と、酸化物半導体層と接するソース電極およびドレイン電極と、を形成し、ソース電極上およびドレイン電極上にそれぞれ絶縁層を形成し、酸化物半導体層、ソース電極、ドレイン電極および絶縁層上にゲート絶縁層を形成し、ゲート絶縁層上に導電層を形成し、導電層を覆うように絶縁膜を形成し、導電層におけるソース電極またはドレイン電極と重畳する領域の少なくとも一部が露出するように絶縁膜を加工し、導電層の露出した領域をエッチングして、ソース電極とドレイン電極に挟まれた領域の少なくとも一部と重畳するゲート電極を自己整合的に形成する半導体装置の作製方法である。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】メモリセルアレイを構成する複数のメモリセルが、複数行ごとに複数のブロックに分割され、共通ビット線は、各ブロックにおいて、選択トランジスタを介して分割ビット線と電気的に接続されており、メモリセルの一は、第1のチャネル形成領域を含む第1のトランジスタと、第2のチャネル形成領域を含む第2のトランジスタと、容量素子と、を有し、ソース線は、第1のソース電極と接続され、分割ビット線は、第1のドレイン電極および第2のソース電極と接続され、ワード線は、容量素子の電極の一方と接続され、信号線は、第2のゲート電極と接続され、第1のゲート電極と、第2のドレイン電極と、容量素子の電極の他方とが接続される半導体装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の動作を安定化させつつ、面積効率の向上を図る。
【解決手段】半導体基板10に設けられ、メモリセルを構成する拡散層50、及びダミーセルを構成する拡散層52と、半導体基板10上に設けられた層間絶縁膜20、22と、層間絶縁膜22上に設けられ、拡散層50と重なる少なくとも1つの凹部32を有するシリンダー層絶縁膜24と、拡散層50上に設けられたコンタクトプラグ102と、拡散層52上に設けられたコンタクトプラグ104と、凹部32の側面及び底面上に設けられ、コンタクトプラグ102を介して拡散層52と接続する下部電極130と、下部電極130上、シリンダー層絶縁膜24上、及びコンタクトプラグ104上に設けられ、コンタクトプラグ104を介して拡散層52と接続する誘電体膜132と、誘電体膜132上に設けられた上部電極134と、を備える。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】トランジスタのオフ電流を十分に小さくすることができる材料、例えば、ワイドギャップ半導体である酸化物半導体材料を用いて半導体装置を構成する。トランジスタのオフ電流を十分に小さくすることができる半導体材料を用いることで、長期間にわたって情報を保持することが可能である。また、メモリセルアレイを有する半導体装置において、直列に接続された第1乃至第mのメモリセルに含まれる各ノードに生じる寄生容量の値を同等の値とすることで、安定して動作可能な半導体装置とする。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】ソース線と、ビット線と、第1の信号線と、第2の信号線と、ワード線と、ソース線とビット線との間に、並列に接続されたメモリセルと、ソース線及びビット線と電気的に接続された第1の駆動回路と、第1の信号線と電気的に接続された第2の駆動回路と、第2の信号線と電気的に接続された第3の駆動回路と、ワード線と電気的に接続された第4の駆動回路と、を有し、メモリセルは、第1のゲート電極、第1のソース電極、および第1のドレイン電極を有する第1のトランジスタと、第2のゲート電極、第2のソース電極、および第2のドレイン電極を有する第2のトランジスタと、容量素子と、を有し、第2のトランジスタは、酸化物半導体材料を含んで構成される。 (もっと読む)


【課題】低消費電力で動作し、記憶情報の信頼性が高く、小型で軽量、安価な記憶装置と
その駆動方法を提供することを課題とする。さらに低消費電力で動作し、記憶情報の信頼
性が高く、無線通信距離の長い、小型で軽量、安価な半導体装置とその駆動方法を提供す
ることを課題とする。
【解決手段】記憶装置は、少なくとも記憶素子がマトリックス状に配置されたメモリセル
アレイと、書き込み回路とを有し、記憶素子は第一の導電層と、第二の導電層と第一の導
電層と第二の導電層とに挟まれて設けられた有機化合物層とを有し、書き込み回路は、複
数回印加する電圧を発生させる電圧発生回路と、電圧の出力時間を制御するタイミング制
御回路とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供する。
【解決手段】第1のトランジスタと第2のトランジスタを有し、第1のトランジスタと第2のトランジスタとは少なくとも一部が重畳する第1のメモリセルと、第3のトランジスタと第4のトランジスタを有し、第3のトランジスタと第4のトランジスタとは少なくとも一部が重畳する第2のメモリセルと、駆動回路と、を有し、第2のメモリセルは、第1のメモリセル上に設けられ、第1のトランジスタは、第1の半導体材料を含んで構成され、第2のトランジスタ、第3のトランジスタ、および第4のトランジスタ、は、第2の半導体材料を含んで構成される半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】第1のトランジスタ上に設けられた第2のトランジスタと容量素子とを有し、第1のトランジスタのゲート電極と、該ゲート電極に接する第2のトランジスタのソース電極とは、エッチングの選択比がとれる材料を用いて形成される半導体装置を提供する。第1のトランジスタのゲート電極と、第2のトランジスタのソース電極とをエッチングの選択比がとれる材料を用いて形成することで、レイアウトのマージンを低減させることができるため半導体装置の集積度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】高度な集積化を実現した、新たな構造の半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層と、チャネル形成領域と電気的に接続するソース電極およびドレイン電極と、チャネル形成領域と重畳するゲート電極と、チャネル形成領域とゲート電極との間のゲート絶縁層と、を含み、ゲート絶縁層の側面の一部と、ソース電極またはドレイン電極の側面の一部と、は、平面方向から見て概略一致している半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】半導体素子のビア構造物及び導電構造物を提供する。
【解決手段】前記ビア構造物は、平坦部及び突出部を含む表面を有する。前記導電構造物は前記平坦部のうち、少なくとも一部上に形成され、前記突出部のうち、少なくとも一部上には形成されない。例えば、前記導電構造物は前記平坦部上のみに形成されて前記突出部上には全く形成されない。これによって、前記導電構造物と前記ビア構造物との間に高品質の接続を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】回路面積を低減する。
【解決手段】第1の信号が入力され、第2の信号を出力する論理回路を具備し、論理回路は、ゲートに第1の信号が入力され、ゲートの電圧に応じて第2の信号の電圧を第1の電圧に設定するか否かを制御するP型トランジスタと、エンハンスメント型であり、閾値電圧の絶対値がP型トランジスタより大きく、ゲートに第1の信号が入力され、ゲートの電圧に応じて第2の信号の電圧を第1の電圧より高い第2の電圧に設定するか否かを制御するN型トランジスタと、を備え、P型トランジスタは、チャネルが形成され、第14族の元素を含有する半導体層を含み、N型トランジスタは、チャネルが形成され、キャリア濃度が1×1014/cm未満である酸化物半導体層を含む。 (もっと読む)


【課題】データを保持する期間を確保しつつ、単位面積あたりの記憶容量を高めることができる記憶装置の提案を目的の一とする。
【解決手段】記憶素子と、記憶素子における電荷の蓄積、保持、放出を制御するための、酸化物半導体を活性層に含むトランジスタと、記憶素子に接続された容量素子とを有する記憶装置。上記容量素子が有する一対の電極の少なくとも一方は、遮光性を有している。さらに、上記記憶装置は遮光性を有する導電膜或いは絶縁膜を有しており、上記活性層が、遮光性を有する電極と、遮光性を有する導電膜或いは絶縁膜との間に位置する。 (もっと読む)


【課題】不揮発性記憶装置の特性を向上させる。
【解決手段】第1の配線と第2の配線とに接続された記憶セルを備え、前記記憶セルは、複数の層を有し、前記複数の層は、第1の電極膜と第2の電極膜に挟まれ、炭素を含有する記憶層と、前記第1の電極膜と前記記憶層との間および前記第2の電極膜と前記記憶層との間の少なくともいずれかに設けられた、炭素を含有するバリア層と、を有し、前記バリア層は、前記記憶層よりも電気抵抗率が低いことを特徴とする不揮発性記憶装置が提供される。 (もっと読む)


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