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Fターム[5F088CB20]の内容

受光素子−共通事項、放射線検出 (20,668) | アモルファス以外の製造法、工程 (654) | その他、本項に関する事項 (91)

Fターム[5F088CB20]に分類される特許

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【課題】放射線撮像パネルを構成する光導電体を、感度低下に起因する、ゴーストやコントラスト変化が実質上ないものとする。
【解決手段】放射線画像情報を記録する放射線撮像パネルを構成するBi12MO20(ただし、M はGe,Si,Ti中の少なくとも1種である)からなる多結晶の光導電体を、基板6上にBi12MO20(ただし、M はGe,Si,Ti中の少なくとも1種である)の多結晶体からなるシード層7を成膜し、水熱合成によりシード層上にBi12MO20(ただし、M はGe,Si,Ti中の少なくとも1種である)の多結晶体を成長させる。 (もっと読む)


【課題】 結晶成長方法及び結晶成長装置に関し、基板とエピタキシャル層との格子定数の差を、用いられる物質により一義的決定されることなく一定程度の範囲で任意に設定する。
【解決手段】 湾曲させた基板1上にエピタキシャル成長をさせる。 (もっと読む)


【課題】製造が容易な光電変換装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基板2と、この透明基板2上に配置された複数の有機光電変換素子7とを有する光電変換装置20を作製するにあたって、複数の有機光電変換素子それぞれの構成を、透明基板2上に配置された透明電極3と、この透明電極上にインクジェット方式により形成された有機光電変換部4と、この該有機光電変換部4上に配置された背面電極6とを有する構成とする。 (もっと読む)


【課題】高品質な半導体を備えた検出器を実現することができる光または放射線検出器の製造方法および光または放射線検出器を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体を形成する際に、ダミー基板Dに所定厚みの半導体を蒸着によって形成した後に、そのダミー基板Dから支持基板であるグラファイト基板Gに交換して、そのグラファイト基板Gに半導体を蒸着によって引き続き形成する。ダミー基板Gに所定厚みの半導体を蒸着によって形成する際は初期状態なので、本来であれば形成される不良膜がダミー基板Dに形成される。その後に、交換されたグラファイト基板Gには初期状態でない半導体が形成されるので、従来よりも高品質な半導体を備えた検出器を実現することができる。また、このようにして製造された半導体は、少なくとも厚み方向に連続的に形成されたものとなる。 (もっと読む)


【課題】製造プロセス時にはウエハの補強効果を発揮し、ハンドリング性に優れ、モジュール化工程では安定な実装特性を示し、なおかつ実使用時には高信頼性を示すモジュールからなる光電変換装置を提供する。
【解決手段】
少なくとも片面に、引張弾性率が4GPa以上、線膨張係数が25ppm以下のポリイミド層が直接形成されたウエハを加工して得られた太陽電池などの光電変換モジュールをパネル化して光電変換装置とする。 (もっと読む)


【課題】オプトエレクトロニックデバイスを作製する方法及びそのようなデバイスの提供。
【解決手段】基板上に蒸着された第1電極、少なくとも30nmの二乗平均粗さ及び少なくとも200nmの高さ変化量を有する第1電極の露出された表面を含み、第1電極は透明であるようなオプトエレクトロニックデバイス及びオプトエレクトロニックデバイスを作製する方法。第1有機半導体材料のコンフォーマル層は有機気相蒸着法により第1電極上部へ蒸着され、第1有機半導体材料は低分子材料である。第2有機半導体材料層は、コンフォーマル相を覆って蒸着される。第2有機半導体材料層の少なくともいくらかは前記コンフォーマル層と直接接触する。第2電極が第2有機半導体材料層を覆って蒸着される。第1有機半導体材料は、反対のタイプの材料である第2有機半導体材料に関連してドナータイプまたはアクセプタータイプである。 (もっと読む)


【課題】 光学素子を安価に、また容易に精度良く製造することのできる光学素子の製造方法、およびそれに用いるエッチング方法を提供する。
【解決手段】 受光基板11を準備し、受光基板11の受光面12および、受光基板11の一表面のうちで受光面12以外の部分の少なくとも一部分を覆うように透光部13を形成する。透光部13のうちで受光基板11の受光面12以外の部分を覆う部分、たとえば電極被覆部13aにレーザ光を照射し、孔部24に孔を形成する。この孔部24の孔にエッチング液を充填して透光部13をエッチングする。これによって、ドライエッチング法を用いることなく透光部13を精度良くエッチングすることができるので、光学素子を安価に、また容易に精度良く製造することができる。 (もっと読む)


【課題】 量子ドット光半導体素子に関し、光吸収用量子ドットのサイズを変更することなく、キャリアの捕獲効率を高める。
【解決手段】 第1の量子ドット1による層から中間層3を隔てて、第1の量子ドット1より横幅が大きく第1の量子ドット1のキャリアに対するエネルギーポテンシャルよりも高いエネルギーポテンシャルを持つ第2の量子ドット2による層を配置し、第1の量子ドット1による層と第2の量子ドット2による層の間隔が第1の量子ドット1の歪みの影響により中間層3の格子間隔が変化している範囲以内とする。 (もっと読む)


【課題】マイクロレンズ同士が接触しない固体撮像素子の製造方法を提供し、マイクロレンズの集光効率の向上を図る。
【解決手段】基板1上に形成された複数の受光部と、これら受光部のそれぞれに入射光を集光させる複数のマイクロレンズ13とを備える固体撮像素子の製造方法であって、基板1上の受光部の各位置にガラス系材料からなるピラー13aを立設し、ピラー13aの基板1側とは反対側の先端部を局所的に加熱溶融処理により凸曲面形状に加工することでマイクロレンズ13を形成する。 (もっと読む)


【課題】安定性の高い化合物半導体からなる放射線検出器を短時間のうちに簡便に選別する方法を提供する。
【解決手段】第1の測定部20および第2の測定部30は、異なる印加電圧である第1の印加電圧V1と第2の印加電圧V2により電極に電圧を印加して暗電流を測定し、選別部12は、第1の印加電圧における測定電流を第1の暗電流値とし、第2の印加電圧における測定電流を第2の暗電流値とすると、第2の暗電流値を第1の暗電流値で除算した比率値を演算し、比率値が、所定の値の範囲内であるか否かにより選別するので、短時間のうちに安定性の高い放射線検出器を容易に選別することができる。 (もっと読む)


【課題】CdTe材料の放射線感応膜で構成される二次元放射線検出器において、基板に接する側と膜露出側の膜質を均一化し、電荷収集効率を上げ感度向上を図る。
【解決手段】第一の基板2上に放射線感応膜として機能する積層膜を成膜したあと、前記積層膜が露出している膜面に導電性接着層として機能するカーボン厚膜4を介して第二の基板5を貼り付けた後、前記第一の基板2と前記積層膜の内膜質が思わしくない積層膜31を研磨除去して、良好な膜質の積層膜32の膜面を露出させ、該膜面にアクティブマトリクス基板を貼り付けた構造とする。したがって、基板に接する側と膜露出側の膜質を良好で均一なものとすることが可能であり、電荷収集効率を上げ感度向上が期待できる。 (もっと読む)


【課題】所定以上の大きな排気能力による排気を必要とする高真空チャンバを含む複数の真空チャンバを備えた真空装置を低コストに構成する。
【解決手段】高真空チャンバ2を備えた真空装置1において、高真空チャンバ2に開閉自在のバルブ3、4を介してそれぞれ接続された少なくとも2つのバッファチャンバ5、6と、該バッファチャンバ5、6のそれぞれに、開閉自在のバルブ7、8を介して接続された真空チャンバ9、10と、バッファチャンバ5、6のそれぞれに接続された、該バッファチャンバ5、6内を排気する真空ポンプ11、12とを備え、適宜バルブ3、4、7、8を開閉させ、高真空チャンバ2を同時に2つの真空ポンプ11、12により排気を可能とするとともに、高真空チャンバを含む複数の真空チャンバを少数の真空ポンプにより適宜排気可能とする。 (もっと読む)


【課題】量子ドット赤外線検知器に関し、電流ブロック層を成す結晶の成長が容易であること、及び、同じく暗電流に対する電位障壁高さが高いことを両立させ、特性良好な量子ドット型赤外線検知器を実現しようとする。
【解決手段】GaAsからなる埋め込み層1の上に形成され且つGaAsに比較して禁制帯幅が小さいInGaAsからなる電流捕獲層2と、電流捕獲層2の上に形成された量子ドット5と、量子ドット5が形成された面内に於ける量子ドット5が存在しない領域に形成され且つ少なくともGaAsに比較して禁制帯幅が大きいAlGaAsからなる電流ブロック層3とを備えること、及び、量子ドット5を作製するには、ストランスキー・クラスタノフ成長モードに依ることが基本になっている。 (もっと読む)


【課題】光エネルギー変換装置における窒化物半導体を用いた半導体光電極の劣化防止を図る。
【解決手段】互いに電気的に接続された半導体光電極15と対向電極16を有し、半導体光電極15が表面に酸化チタン膜19を成膜した窒化物半導体18で形成され、対向電極16及び半導体光電極15が溶液13中に配置されて成る。 (もっと読む)


【課題】例えば光エネルギーを電気エネルギーに変換出来るエネルギー伝達性に優れた微細構造体とその製造方法の提供。
【解決手段】配列の規則化度が50%以上のマイクロポアを有する微細構造体であって、少なくとも
(A)可視光吸光性エネルギー供与体
(B)エネルギー受容体
を有する微細構造体。 (もっと読む)


【課題】安価な手法によりアクティブマトリクス基板3の表面の平坦化を実現し、X線光導電層4の特性を向上できるX線検出器1を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス基板3の画素電極9が設けられた表面に、エッチングによる除去性がアクティブマトリクス基板3の表面の材質より高い材質の平坦化層21を形成する。エッチングにより画素電極9の表面までの平坦化層21を除去し、アクティブマトリクス基板3の表面より窪む凹部20に平坦化層21を残し、アクティブマトリクス基板3の表面を平坦化する。安価な手法によりアクティブマトリクス基板3の表面の平坦化を実現し、X線光導電層4の特性を向上させる。 (もっと読む)


【課題】 液相法により、粒子径の小さなBi12MO20粉体(ただし、MはSiまたはGeである。)を製造する。
【解決手段】 アルカリ可溶性ケイ素化合物またはアルカリ可溶性ゲルマニウム化合物のアルカリ性溶液と、水溶解性ビスマス化合物溶液とをヒドロキシエチルセルロースおよび/またはヒドロキシプロピルセルロースの存在下で攪拌混合して反応させる。 (もっと読む)


【課題】 有機光電変換膜を含む光電変換素子、撮像素子を有機光電変換膜にダメージを与えることなく製造すること。
【解決手段】 半導体基板1内に無機光電変換膜3−1,3−2を有し、該無機光電変換膜の上方に有機光電変換膜21を積層してなる光電変換素子において、該有機光電変換膜21をシャドーマスク法により作製する。対向電極接続電極11を設けることによりシャドーマスク法により有機光電変換膜等21〜23を積層することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、経時的に増加する漏れ電流を低減でき長時間の使用に耐えうる高S/N比の有機光電変換センサを提供することを目的とし、スキャナ、コピー機などにおいて物体の形状や画像等の各種情報を電気信号として取り出す情報読取装置への利用が可能で、長時間の使用にも耐えられる情報読取装置が得られる有機光電変換センサを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の有機光電変換センサ1は、基板2上に形成された少なくとも2つの電極4,6と、電極4,6間に形成された有機光電変換層5と、を備えた有機光電変換センサ1であって、電極4,6が、実質的にアルカリ金属元素及び/又はアルカリ士類金属元素を含有していないことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】光電変換率が高い光電変換素子、放射線画像検出器及び放射線画像撮影システムを提供すること。
【解決手段】
光電変換素子10aは、入射した電磁波により励起されて電荷を発生する有機化合物を含有する電荷発生層30aと、電荷発生層30aで発生した電荷のうち、一方のキャリアを集める透明電極20と、他方のキャリアを集める対電極40とを備え、有機化合物に、ハロゲン化ペンタセンを含有させるとともに、この光電変換素子10aを適用した放射線画像検出器50及び、放射線画像撮影システム90とする。 (もっと読む)


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