【課題】外部環境の影響を受けにくく、充分な乱数精度が得られる乱数発生装置を提供する。
【解決手段】磁化の向きが反転可能な磁化自由層と、非磁性材料からなる中間層と、磁化自由層に対して中間層を介して配置され、磁化の向きが固定された磁化固定層とを含み、スピン注入電流により磁化自由層の磁化の向きが反転される磁気抵抗効果素子２０，２１を含み、スピン注入電流に関する特性が互いに異なる、複数個の磁気抵抗効果素子２０及び２１を含んだ乱数発生装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】永久磁石を使用しつつ低いローカルパワーで作動可能な混合器を提供することを主目的とする。
【解決手段】磁化固定層、磁化自由層、および磁化固定層と磁化自由層との間に配設された非磁性スペーサー層を備えた磁気抵抗効果素子２と、磁化自由層に磁場Ｈを印加する磁場印加部３とを備え、高周波の信号Ｓ１およびローカル信号Ｓ２を入力したときに磁気抵抗効果素子２によって両高周波信号Ｓ１，Ｓ２を乗算して乗算信号Ｓ３を生成する。この場合、磁場印加部３は、温度係数が異なり、かつ残留磁束密度の温度変化量が同等の２種の永久磁石３１，３２が磁化方向を互いに逆向きとした状態で磁場Ｈの方向に沿って直列に配設されて構成されている。 （もっと読む）

【課題】スピン消極を引き起こすことなく、また、加熱処理を必要とせずに、［Ｃｏ／Ｎｉ］ｘ積層構造の十分な垂直磁気異方性を確保する。
【解決手段】このスピンバルブ構造は、上部の［Ｃｏ／Ｎｉ］ｘ積層リファレンス層２３の垂直磁気異方性を向上させるため、Ｔａ層と、ｆｃｃ［１１１］またはｈｃｐ［００１］構造を有する金属層とを含む複合シード層２２を備える。［Ｃｏ／Ｎｉ］ｘ積層リファレンス層２３は、ＣｏとＮｉとの界面の損傷を防止し、これにより垂直磁気異方性を保つため、低いパワーと高圧のアルゴンガスとを用いたプロセスにより成膜する。その結果、薄いシード層を用いることが可能となる。垂直磁気異方性は２２０℃の温度で１０時間にわたって熱処理を行った後であっても維持される。この構造は、ＣＰＰ−ＧＭＲ素子やＣＰＰ−ＴＭＲ素子に適用できるほか、スピントランスファー発振器やスピントランスファーＭＲＡＭにも適用できる。 （もっと読む）

【課題】乗算信号の出力の低下を回避しつつ、低いローカルパワーで作動可能とする。
【解決手段】磁化固定層、磁化自由層、および前記磁化固定層と前記磁化自由層との間に配設された非磁性スペーサー層を備え、高周波信号である信号Ｓ１およびローカル信号Ｓ２を入力したときに磁気抵抗効果によって両信号Ｓ１，Ｓ２を乗算して電圧信号（乗算信号）Ｓ４を生成する磁気抵抗効果素子２と、磁化自由層に磁場を印加する磁場印加部３と、電圧信号Ｓ４に対するインピーダンスが信号Ｓ１およびローカル信号Ｓ２に対するインピーダンスよりも高く、かつ各信号Ｓ１，Ｓ２を伝送する伝送路Ｌ１と磁気抵抗効果素子２との間に配設されたインピーダンス回路４（コンデンサ４ａ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 磁気トンネル接合を使用する不揮発性論理装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、レジスタセルであって、不平衡フリップフロップ回路を形成するような、第２のインバータに結合された第１のインバータを含む差動増幅部分と、第１および第２のインバータのそれぞれの一端部に接続された第１および第２のビット線と、第１および第２のインバータのそれぞれの他端部に接続された第１および第２のソース線とを備え、前記第１および第２のインバータのそれぞれの前記他端部に電気的に接続される第１および第２の磁気トンネル接合をさらに備えることを特徴とする、レジスタセルに関する。本明細書に開示するシフトレジスタは、従来のシフトレジスタよりも小さく製造することができ、シフトレジスタの読み書き動作中の消費電力を低くすることができる。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線イメージングにおける解像度を改善する技術を提供すること。
【解決手段】Ｘ線撮像装置１は、スピン固定層１１と、非磁性中間層１２と、スピンフリー層１３とが積層されたスピン注入磁化反転素子６を画素として備え、２次元アレイ上に設けられた複数の画素と、上部電極９と、下部電極８とを有して、スピンフリー層１３側から単色円偏光Ｘ線ビームを受光する受光画素部２と、磁化反転させるスピン注入磁化反転素子６を選択すると共に、受光画素部２の受光面に亘って画素を走査する画素選択手段と、上部電極９および下部電極８を介してスピン注入磁化反転素子６に流れる電流の方向とその大きさを制御して、スピンフリー層１３にスピン注入することで、スピンフリー層１３の磁化方向を反転させる磁化反転電流注入手段と、選択されたスピン注入磁化反転素子６がＸ線を吸収することによって発生する電流の値を検出する信号電流検出処理部４とを備える。 （もっと読む）

本発明の具体例にかかる方法は、磁性層（４１）と、下部導電性電極（４３）と、その反対側で磁性層サブスタックを電気的に接続する上部導電性電極（４４）とを含む磁性層サブスタックを含む磁気スタックを形成する工程と、磁気スタックの上に犠牲柱（４６）を形成する工程であって、犠牲柱（４６）は上に横たわる第２の犠牲材料（４５）に対するアンダーカットと、磁気スタックに向かって断面寸法が大きくなる傾斜フットを有する工程と、犠牲柱を磁気スタックのパターニングのために使用する工程と、犠牲柱（４６）の周囲に絶縁層（７０）を堆積する工程と、犠牲柱を選択的に除去し、これによりパターニングされた磁気スタックに向かってコンタクトホール（８０）を形成する工程と、コンタクトホールを電気的な導電性材料（８１）で埋める工程とを含む。
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【課題】電気的操作でＸ線ビームの２次元空間における微細な強度変調が可能なＸ線空間変調装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線空間変調装置１は、スピン注入により磁化方向が反転されるスピン注入型磁化反転素子（以下、素子）５を２次元に配列したＸ線変調手段１０と、２次元に配列した素子５の中から、磁化方向を反転させる素子５を選択する素子選択手段１１と、素子選択手段１１によって選択した素子５に磁化反転のための電流である磁化反転電流を注入して、当該素子５の磁化方向を反転させる磁化反転電流注入手段１２とを備える。Ｘ線空間変調装置１は、素子選択手段１１によって個々の素子５の磁化方向を制御して単色円偏光Ｘ線ビームＢ２に対する素子５の吸収率を変化させることによって、素子５に入射し、当該素子５を透過する単色円偏光Ｘ線ビームＢ２の２次元空間における強度分布を変調する。 （もっと読む）

【課題】電気的操作でＸ線ビームの２次元空間における微細な強度変調が可能なＸ線空間変調装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線空間変調装置１は、スピン注入により磁化方向が互いに逆向きの磁区の境界である磁壁が移動されるスピン注入型磁壁移動素子（以下、素子）５を２次元に配列したＸ線変調手段１０と、２次元に配列した素子５の中から、磁壁を移動させる素子５を選択する素子選択手段１１と、素子選択手段１１によって選択した素子５に磁壁移動のための電流である磁壁移動電流を注入して、当該素子５の磁壁を移動させる磁壁移動電流注入手段１２とを備える。Ｘ線空間変調装置１は、素子選択手段１１によって、個々の素子５の磁壁の位置を制御し、単色円偏光Ｘ線ビームＢ２に対する素子５の吸収率を変化させることによって、素子５を透過する単色円偏光Ｘ線ビームＢ２の２次元空間における強度分布を変調する。 （もっと読む）

【課題】磁気抵抗素子を用いることでＳｉ系ＭＭＩＣにもＧａＡｓ系ＭＭＩＣにも対応可能な周波数変換素子を提供する。
【解決手段】本素子は、磁化自由層、中間層、および磁化固定層を備えた磁気抵抗素子からなる周波数変換素子と前記周波数変換素子に磁場を印加するための磁場印加機構と前記周波数変換素子に局部発振信号を印加するための局部発振器と前記周波数変換素子と電気的に接続され、かつ外部入力信号を入力するための入力端子とを備えている。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波発振素子及びマイクロ波発振装置に関し、複雑な成膜工程や微細加工の必要がない簡単な素子構造によりマイクロ波発振を可能にする。
【解決手段】強磁性体層１１とスピン軌道相互作用を有する金属層１２との積層構造からなり、金属層両端の端子１３_１、１３_２との間に電源１４から電圧を印加して、金属層１２に電流を流す事で、スピンホール効果により金属層１２から強磁性体層１１へ純スピン流が注入され、マイクロ波発振を励起する。 （もっと読む）

【課題】ＲＥ−ＴＭ合金を含むことで優れた磁気特性を有する垂直磁気異方性の磁気抵抗素子において、この磁気特性が維持できる磁気抵抗素子を提供する。
【解決手段】磁化固定層１１と中間層１２と磁化反転層１３とを積層して備え、磁化固定層１１および磁化反転層１３の少なくとも一方がＲＥ−ＴＭ合金を含む磁気抵抗素子１であって、上下に接続された一対の電極２，３間を絶縁するための絶縁層６が、磁気抵抗素子１に接触して配され、シリコン窒化物からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】電子と正孔の相互作用による、磁化方向が略平行なときの電流Ｉ_Ｄ^Ｐと、磁化方向が略反平行なときの電流Ｉ_Ｄ^ＡＰとの差の絶対値の減少を抑制することを可能にする。
【解決手段】表面にｎ型の半導体領域が設けられた半導体基板１０と、半導体領域上に離間して設けられたソース電極３０ａおよびドレイン電極３０ｂであって、ドレイン電極は半導体領域上に設けられ半導体領域の半導体よりもバンドギャップが大きくかつ価電子帯端が半導体領域の半導体の価電子帯端よりも低いエネルギーを有するｎ型の第１半導体層３１ｂと、第１半導体層上に設けられた第１強磁性層３４ｂとを有し、ソース電極は半導体領域上に設けられた第２強磁性層３４ａを有する、ソース電極およびドレイン電極と、ソース電極とドレイン電極との間の半導体領域に設けられたゲート電極２４と、を備え、第１および第２強磁性層のうちの一方は磁化方向が不変であり、他方は磁化方向が可変である。 （もっと読む）

【課題】スピンＭＯＳＦＥＴのソース／ドレイン領域におけるＭＴＪの強磁性体に垂直磁化膜を用いても、隣接トランジスタへの漏れ磁界による影響を抑制し、シフト調整を可能にし、チャネル領域中のスピン緩和を抑制することを可能にする。
【解決手段】半導体基板６１上に設けられた磁化の向きが膜面に略垂直でかつ不変な第１強磁性層７２と、第１強磁性層上に設けられたチャネルとなる半導体層７４と、半導体層上に設けられた、磁化の向きが膜面に略垂直でかつ可変な第２強磁性層７８と、第２強磁性層上に設けられた第１トンネルバリア８０と、第１トンネルバリア８０上に設けられた、非磁性膜をはさんで反強磁性結合する２層の強磁性膜からなる積層構造を有する第３強磁性層８２と、半導体層の側面に設けられたゲート絶縁膜９０ａと、ゲート絶縁膜に対して半導体層と反対側に設けられたゲート電極７６と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】強磁性体からなるソース・ドレインと有機チャネルとの間の界面抵抗が低く、良好なトランジスタ動作を実現するスピントランジスタ及び論理回路装置を提供する。
【解決手段】基板５と、基板上に設けられたチャネル層７と、チャネル層上に設けられ、強磁性体を含む第１電極１０及び強磁性体を含む第２電極２０と、チャネル層上において前記第１及び第２電極との間に設けられたゲート電極８と、チャネル層と第１及び第２電極との間のそれぞれに設けられた第１挿入層３０及び第２挿入層４０と、を備えたスピントランジスタを提供する。チャネル層は、六員環ネットワーク構造を有する炭素材料からなる。第１及び第２挿入層は、Ｐを含むＧｅ、Ｂを含むＧｅ、Ｐｄ、Ｃｏ及びＲｈの少なくともいずれかを含む、または、Ｌｉ、Ｎａ、Ｃａのいずれか、または、それらのいずれかの化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】低消費電力で、多入力信号の加算処理に優れた信号処理デバイスおよび信号処理方法を提供することを可能にする。
【解決手段】少なくとも１層以上の磁性層を含む連続膜１０と、連続膜上に、連続膜に直接に接触するかまたは絶縁層を介して接触するように設けられ、前記連続膜との接触面の形状はドット形状であり、入力信号を受けることにより、連続膜との接触面直下の、連続膜の磁性層の領域にスピン波を発生させる複数のスピン波発生部２０_１〜２０_ｎと、連続膜上に設けられ、スピン波発生部によって発生されられて連続膜を伝播するスピン波を電気信号として検出する少なくとも１個の信号検出部３０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】スピンＲＡＭ、スピントルク発振器などに適用できるクラスターを提案する。
【解決手段】本発明の例に係わるクラスターは、磁性発振素子としての第一磁気抵抗効果素子MTJ１と、メモリセルとしての第二磁気抵抗効果素子MTJ２とを備える。第一及び第二磁気抵抗効果素子MTJ１，MTJ２は、磁化方向が可変の磁気フリー層１１−１，１１−２、磁化方向が不変の磁気ピンド層１２−１，１２−２、及び、これらの間に配置されるスペーサー層１３−１，１３−２を基本構造とする。第一磁気抵抗効果素子MTJ１の磁気フリー層１１−１は、第一磁気抵抗効果素子MTJ１に発振閾値電流よりも大きい電流を流したときに、第二磁気抵抗効果素子MTJ２の磁気フリー層１１−２と磁気ピンド層１２−２との残留磁化の磁化方向に依存した周波数で磁化振動する。 （もっと読む）

【課題】高出力及び長寿命で、発振周波数が安定な磁性発振素子を提案する。
【解決手段】本発明の磁性発振素子は、磁化方向が可変の磁気フリー層１と、磁化方向が不変の磁気ピンド層３と、両者間に配置されるスペーサー層２と、磁気フリー層１に外部磁場を与える磁場発生部７とを備える。磁気フリー層１は、一軸磁気異方性を有し、それに発振閾値電流よりも大きな電流が流れることにより磁化振動を行う。磁場発生部７は、磁化振動による反磁場に起因する発振周波数のシフト量と磁気フリー層１の一軸磁気異方性による磁場に起因する発振周波数のシフト量とを相殺する方向に外部磁場の大きさ及び方向を制御する。磁気フリー層１の磁化振動の中心となる方向と磁気ピンド層３の磁化方向とのなす角度θは、０°≦θ≦７０°及び１１０°≦θ≦１８０°の範囲内にある。 （もっと読む）

【課題】複数の出力電圧のバラつきを低減可能なスピン流回路を提供する。
【解決手段】スピン流回路は、スピン流を発生する第1スピン注入素子ＳＩＥと、第1スピン注入素子ＳＩＥにおいて発生したスピン流が流れる非磁性のチャンネル層５Ａと、チャンネル層５Ａ上の異なる位置に設けられた複数の磁化自由層４，６と、チャンネル層５Ａとそれぞれの磁化自由層４，６との間に介在するトンネル障壁１９Ｂ，１９Ｃとを備えている。それぞれの磁化自由層４，６とチャンネル層５Ａの間の電圧が、それぞれ検出される。各フリー層４，６とチャンネル層５Ａとの間にトンネル障壁１９Ｂ，１９Ｃを介在させておくことで、各フリー層４，６とチャンネル層１９Ｂ，１９Ｃとの間の出力電圧のバラつきを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】メモリセルを可及的に小さくできるとともにセル単位で書き込み消去が可能な不揮発性半導体メモリを提供する。
【解決手段】ＮＡＮＤ列であって、絶縁膜１１上の半導体領域と、ソース／ドレイン領域１４ａ、１４ｂと、チャネル領域１２と、電荷をトラップできる電荷トラップ膜２０と、磁化の向きが固定された第１のハーフメタル強磁性金属からなるソース／ドレイン電極４０_１とを有し、各電荷トラップ膜上に設けられ、第２のハーフメタル強磁性金属からなるゲート電極３０_ａ１、３０_ａ２であって、前記ゲート電極は、磁化の向きが前記ソース／ドレイン電極の磁化の向きに略平行な第１の領域と、磁化の向きが略反平行な第２領域から構成され、前記第１の領域が、前記ゲート電極に電流を印加することにより、前記電荷トラップ膜上から前記絶縁膜上へ、及び前記絶縁膜上から前記電荷トラップ膜上へと、可逆的に移動可能となっているゲート電極と、を備える。 （もっと読む）