【課題】 電力等の信号の合成効率が高く、チップ占有面積を低減可能な半導体装置および半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の半導体装置１０は、電極パッド１１と、複数の信号伝送電極１２ａ、１２ｂおよび１２ｃと、複数の伝送線路１３、１４および１５とを有し、前記電極パッド１１と前記各信号伝送電極１２ａ、１２ｂおよび１２ｃとは、前記各伝送線路１３、１４および１５により電気的に接続され、前記複数の伝送線路１３、１４および１５の少なくとも一本は、その線路長が他の伝送線路１４以上であり、前記線路長が他の伝送線路以上である伝送線路１３および１５は、その一部または全部が空中配線され、前記空中配線された伝送線路１３ａおよび１５ａが、マイクロストリップラインであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、半導体装置単体で負電源を必要とせずにスイッチングが可能な素子を提供することである。
【解決手段】 この発明の半導体装置は、ノーマリオンFETと、一方の電極を前記FETのゲートに、他方の電極を入力端子に電気的に接続されたキャパシタと、アノード電極が前記FETのゲートに、カソード電極が前記FETのソースに電気的に接続されたダイオードと、を前記FETと同一チップ上に形成したことを特徴としており、さらに、前記キャパシタが、前記FETのゲート引き出し電極上に誘電体などの絶縁膜を形成し、形成した前記絶縁膜に金属膜を形成することにより形成されたことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】小型かつ高性能で、性能のばらつきが抑制された半導体装置を提供すること。
【解決手段】ＳｉＣ基板１１上に形成された第１のＧａＮ層１２と、第１のＧａＮ層１２上に形成されたソースパッド２３と、第１のＧａＮ層１２上に形成された複数の円柱状のＧａＮ層１４と、これらの円柱状のＧａＮ層１４の上端に接するように形成された第２のＧａＮ層１６と、第２のＧａＮ層１６上に形成されたドレインパッド２５と、を具備する半導体装置であって、複数の円柱状のＧａＮ層１４は、それぞれ下方から上方に向かって径が連続的に拡大された形状であるとともに、下から順にソース領域１７、ゲート領域１８、ドレイン領域１９からなるとともに、ドレイン領域１９は、ソース領域１７よりも長く形成され、ソース領域１７の周囲には第１の絶縁膜２０、ゲート領域１８の周囲にはゲート電極２１、ドレイン領域１９の周囲には第２の絶縁膜２２がそれぞれ形成される。 （もっと読む）

【課題】外部回路接続に棒はんだを用いる、複数の相互接続金属層およびはんだ濡れ性の前面金属部構造を備えるＨＥＭＴを含むＩＩＩ族窒化物パワーデバイスの、いくつかの典型的な実施形態を提供する。
【解決手段】はんだ濡れ性の前面金属部１４０ａおよび１４０ｂの構成は、ＴｉＮｉＡｇのようなトリメタルからなり、ＨＥＭＴのソースおよびドレインコンタクトを交互の細長いデジットまたはバーとして露出するように設けられる。また、単一のパッケージは、前面金属部構造１４０ａおよび１４０ｂが交互の相互嵌合したソースおよびドレインコンタクトを露出する、こうしたＨＥＭＴを多数集積し、これはＩＩＩ族窒化物デバイスを用いるＤＣ‐ＤＣパワー変換回路設計に有利となり得る。外部回路接続に棒はんだを用いることにより、横方向の導電が可能となり、これによりデバイスのオン抵抗Ｒｄｓｏｎを低減する。 （もっと読む）

【課題】製造工程において高温で短時間のアニールを可能にすることにより、イオン注入の工程が不要なＡｌ_ｘＧａ_１−ｘＮ／Ａｌ_ｙＧａ_１−ｙＮヘテロ接合のオーミック電極を備える電子デバイスを提供する。
【解決手段】
電子デバイスは、ワイドバンドギャップ化合物半導体層と、前記ワイドバンドギャップ化合物半導体層上に形成されるオーミック電極とを含む電子デバイスであって、前記ワイドバンドギャップ化合物半導体層は、Ｉｎ_ｉＡｌ_ｊＧａ_ｋＮ（ｉ＋ｊ＋ｋ＝１，０≦ｉ≦１，０＜ｊ≦１，０≦ｋ＜１）からなる化合物半導体バリア層とＡｌ_ｙＧａ_１−ｙＮ（０＜ｙ≦１）からなる化合物半導体チャネル層からなり、前記オーミック電極は、前記化合物半導体バリア層上に密着層が積層され、前記密着層上にオーミック層が積層されて形成された電極であり、前記密着層はＺｒからなるようにする。 （もっと読む）

【課題】小型かつ高性能で、性能のばらつきが抑制された半導体装置を提供すること。
【解決手段】ＳｉＣ基板１１上に形成された第１のＧａＮ層１２と、第１のＧａＮ層１２上に形成されたドレインパッド２３と、第１のＧａＮ層１２上に形成された複数の円柱状のＧａＮ層１４と、これらの円柱状のＧａＮ層１４の上端に接するように形成された第２のＧａＮ層１６と、第２のＧａＮ層１６上に形成されたソースパッド２５と、を具備する半導体装置であって、複数の円柱状のＧａＮ層１４は、それぞれ下方から上方に向かって径が連続的に拡大された形状であるとともに、下から順にドレイン領域１７、ゲート領域１８、ドレイン領域１７よりも短いソース領域１９からなり、ドレイン領域１７の周囲には第１の絶縁膜２０、ゲート領域１８の周囲にはゲート電極２１、ソース領域１９の周囲には第２の絶縁膜２２がそれぞれ形成される。 （もっと読む）

【課題】電流コラプスが抑制された窒化物半導体を用いた電界効果トランジスタを容易に実現できるようにする。
【解決手段】電界効果トランジスタは、基板１００の上に形成され、第１の窒化物半導体層１２２及び第２の窒化物半導体層１２３を有する半導体層積層体１０２を備えている。半導体層積層体１０２の上には、互いに間隔をおいてソース電極１３１及びドレイン電極１３２が形成されている。ソース電極１３１とドレイン電極１３２との間には、ソース電極１３１及びドレイン電極１３２と間隔をおいてゲート電極１３３が形成されている。ドレイン電極１３２の近傍には正孔注入部１４１が形成されている。正孔注入部１４１は、ｐ型の第３の窒化物半導体層１４２及び第３の窒化物半導体層１４２の上に形成された正孔注入電極１４３を有している。ドレイン電極１３２と正孔注入電極１４２とは、電位が実質的に等しい。 （もっと読む）

【課題】電流駆動型の半導体装置のゲートへの寄生インダクタンスによる外乱ノイズを低減し、ゲート駆動を高精度化及び安定化させる。
【解決手段】半導体装置１００であって、電流駆動型の半導体素子３と、半導体素子３を制御するゲート駆動回路１１と、接続端子部とを備え、半導体素子３は、窒化物半導体層の積層体の上に形成されたゲート電極パッド１と、オーミック電極パッド２及び５とを有し、接続端子部は、オーミック電極パッド２と接続されたオーミック電極端子６と、オーミック電極パッド５と接続されたオーミック電極端子１０と、オーミック電極パッド２と接続されたゲート駆動用端子７と、ゲート電極パッド１と接続されたゲート端子８とを有し、ゲート駆動回路１１の入力端子はゲート駆動用端子７に接続され、ゲート駆動回路１１の出力端子はゲート端子８に接続され、ゲート駆動回路１１の基準電位をオーミック電極パッド２の電位とする。 （もっと読む）

【課題】Ｔｉ、ＰｔおよびＡｕからなるゲート電極を有するリセス構造を有し、Ｔｉ上のＰｔ若しくはＡｕが、素子領域表面のＡｌＧａＡｓ層に拡散することを抑制する半導体装置を提供する。
【解決手段】ＧａＡｓ基板１１上に形成された素子領域１６と、第１のリセス領域２５と、第２のリセス領域２６と、第１のリセス領域２５外の素子領域１６上に、互いに離間して形成されたドレイン電極１３およびソース電極１４と、第２のリセス領域２６の表面の一部に接し、第１のリセス領域２５の表面の一部に接するゲート電極１５を具備し、最下層が、第１のリセス領域２５、および第２のリセス領域２６の表面の一部に接するように、隙間を有して形成された第１のＴｉ層２９と、第１のＴｉ層２９上に、第１のＴｉ層２９の隙間を埋めるように形成されたＡｌ層３０と、Ａｌ層３０上に形成されたＰｔ層３２と、Ｐｔ層上に形成されたＡｕ層３３と、を含むように構成する。 （もっと読む）

【課題】半絶縁性基板に形成されたゲートパッドにマイナスの電圧が印加され、半絶縁性基板の裏面に形成された裏面電極にプラスの電圧が印加されても、リーク電流を抑制できる半導体装置を提供する。
【解決手段】裏面電極１０が形成された半絶縁性基板１１の表面上に並列に形成された、複数のゲート電極１５がゲート電極接続部２１に接続されるとともに、このゲート電極接続部２１が複数に分割された半導体装置であって、ゲート電極接続部２１間の半絶縁性基板１１の表面に形成されたｎ型の抵抗層２２と、このｎ型の抵抗層２２の周囲を覆うように、ｐ型不純物層２３と、このｐ型不純物層２３の周囲を覆うように、所望の濃度で形成されたｎ型不純物層２４と、を具備し、ゲートパッド２９は、ゲート電極接続部２１と、このゲート電極接続部２１に隣接するｎ型の抵抗層２２上の引き出し電極２５とを接続するように形成される。 （もっと読む）

【課題】ＦＥＴセルごとに電源を用意・制御することなく、所望の出力電力値に合わせて、出力電力値を調整可能な高周波半導体装置を提供する。
【解決手段】分配・入力整合回路３２と入力伝送線路パターン３６とを搭載した分配・入力整合回路基板１４と、複数の入力キャパシタセル４０を搭載した入力キャパシタ基板１６と、複数の電界効果トランジスタセルを搭載した半導体基板１８と、複数の出力キャパシタセル４１を搭載した出力キャパシタ基板２０と、出力伝送線路パターン３８と合成・出力整合回路３４とを搭載した合成・出力整合回路基板２２とを備え、所望の出力電力値に合わせて複数のセルからなる電界効果トランジスタのセル数を接続・非接続により、総ゲート電極長を実質的に変化させて、出力電力値を調整可能な高周波半導体装置３０。 （もっと読む）

【課題】保護素子の素子面積を小さく抑え且つ製造工程を複雑にすることなくサージ耐性が高い半導体装置を実現できるようにする。
【解決手段】半導体装置は、第１の素子領域１０６Ａに形成された第１のトランジスタ１１１と、第２の素子領域１０６Ｂに形成された第２のトランジスタ１２１を含む第１の保護素子とを備えている。第２の保護素子オーミック電極１２３Ｂは第１のゲート電極１１５と接続され、第１の保護素子オーミック電極１２３Ａは第１のオーミック電極１１３Ａと接続され、第１の保護素子ゲート電極１１５は、第１の保護素子オーミック電極１２３Ａ及び第２の保護素子オーミック電極１２３Ｂの少なくとも一方と接続されている。第２の素子領域１０６Ｂの面積は、第１の素子領域１０６Ａよりも小さい。 （もっと読む）

本発明は、半導体部品、特に、高い電流許容能力を有するラテラル半導体構成エレメント用のスケーラビリティを有する構造に関する。本発明に係るある一つのトランジスター・セルは、一つの制御端子、多数のスプリング・フィールド、並びに、多数のシンク・フィールドを包含している。尚、該制御端子は、少なくとも一つのスプリング・フィールド、或いは、シンク・フィールドを完全に取り囲んでいる。また本発明に係るある一つのトランジスターは、複数のトランジスター・セルを基質上に有しているが、各々のトランジスター・セルは、一つのスプリング・コンタクト・フィールド、及び/或いは、一つのシンク・コンタクト・フィールドを包含している。スプリング・コンタクト・フィールドは、基質の裏側において互いに導通するようにつながれており、シンク・コンタクト・フィールドも、基質の裏側において互いに導通するようにつながれている。本発明に係るトランジスターの製造方法は、以下の工程を包含している：基質を準備する；基質上に、一つの制御端子、多数のスプリング・フィールド、多数のシンク・フィールドを有する多数のトランジスター・セルを形成する；制御端子を互いに導通するようつなぐ；各トランジスター・セルにスプリング・コンタクト・フィールド、及び/或いは、シンク・コンタクト・フィールドを形成する；各トランジスター・セルのスプリング・フィールドとスプリング・コンタクト・フィールドを導通するようにつなぐ；各トランジスター・セルのシンク・フィールドをシンク・コンタクト・フィールドと導通するようにつなぐ；少なくとも一つのバンプを各スプリング・コンタクト・フィールドと各シンク・コンタクト・フィールドに形成する；配線基板を用意する；スプリング・コンタクト・フィールドのバンプを互いに導通するように配線基板上の配線路を介して接続する；そして、シンク・コンタクト・フィールドのバンプを互いに導通するように配線基板上の配線路を介して接続する。このようなバンプと配線基板上の配線路の配置により、ワイヤー・ボンディングが半導体表面に設けられることを低減できる。スプリング・フィールド、シンク・フィールド及び制御端子のバンプに対する本発明に係る配置は、アクティブなトランジスター領域とバンプ間の熱抵抗を低減できるものである。
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【課題】同一のボンディングパッドに対して異なる金属のボンディングワイヤーを用いて信頼性の高い配線を行う。
【解決手段】窒化物半導体ヘテロ接合型電界効果トランジスタにおけるソース電極８,ドレイン電極９,ソースパッド８'およびドレインパッド９'をＴi,Ａl,ＭoおよびＡuを順次積層して形成し、ソースパッド８'およびドレインパッド９'の一部をエッチングによって開口して、Ａl露出部を形成している。したがって、ソースパッド８'またはドレインパッド９'におけるＡu露出部に対しては、Ａuボンディングワイヤーを用いたワイヤーボンディングを行う一方、上記Ａl露出部に対しては、Ａlボンディングワイヤーを用いたワイヤーボンディングを行うことによって、優れた密着性とエレクトロマイグレーション耐性を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化合物半導体素子の動作に関係なく、リーク電流を防止することができる化合物半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】化合物半導体装置１は、２ＤＥＧ３１０を有する第１の化合物半導体層３１と、第１の化合物半導体層３１上に配設され、キャリア供給層として機能する第２の化合物半導体層３２と、２ＤＥＧ３１０上に配設された第１の電極６１と、２ＤＥＧ３１０上において第１の電極６１から離間して配設された第２の電極４２と、を備えた化合物半導体素子１０と、化合物半導体素子１０の周囲を取り囲む領域の一部において２ＤＥＧ３１０上に配設され、この２ＤＥＧ３１０のキャリア濃度を低減させる外周電極６２を有する外周領域１１とを備える。 （もっと読む）

【課題】複数に分割された接続部とこれらの接続部の間に形成された抵抗体とが、電極パッドにより良好に接続される半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】複数のＦＥＴ１２が化合物半導体基板１１上に並列に形成され、ゲートパッド２７が複数に分割された半導体装置の製造方法であって、化合物半導体基板１１上に抵抗体２２を形成する工程と、抵抗体２２上にこの抵抗体２２を保護する保護パターン２３を形成する工程と、複数のＦＥＴ１２、抵抗体２２および保護パターン２３を含む化合物半導体基板１１上に保護膜２４を形成する工程と、複数のＦＥＴ１２の各電極１３、１４、１５をそれぞれ接続する電極接続部１７、１８、２１上および保護パターン２３上の保護膜２４をエッチングにより除去する工程と、エッチングにより除去した位置に電極パッド２５、２６、２７を形成する工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】オン抵抗の上昇を抑制しつつ閾値電圧を大きくできる電界効果トランジスタを提供する。
【解決手段】キャリア走行層１３である第１窒化物半導体層13と、第１窒化物半導体層13の上に設けられた、第１窒化物半導体層よりもバンドギャップエネルギーの大きい第２窒化物半導体層14と、第２窒化物半導体層14の上に順に設けられた、ＩｎＧａＮ16層と、ｐ型窒化物半導体層18と、ゲート電極２２とを備える電界効果トランジスタであって、ＩｎＧａＮ層16は、ゲート電極２２直下の表面に第１の凹部１９を有する。これにより、オン抵抗を一定に抑えつつ、閾値電圧を大きくすることができ、ノーマリオフ型のトランジスタが実現できる。 （もっと読む）

【課題】小型かつ高性能な半導体装置を提供すること。
【解決手段】ＳｉＣ基板１１上に形成された第１のＧａＮ層１２と、第１のＧａＮ層１２上に形成されたソースパッド２３と、第１のＧａＮ層１２上に形成された複数の円柱状のＧａＮ層１４と、これらの円柱状のＧａＮ層１４の上端に接するように形成された第２のＧａＮ層１６と、第２のＧａＮ層１６上に形成されたドレインパッド２５と、を具備する半導体装置であって、複数の円柱状のＧａＮ層１４は、それぞれ下から順にソース領域１８、ゲート領域１９、ソース領域よりも径が細いドレイン領域１７からなり、ソース領域１８の周囲には第１の絶縁膜２０、ゲート領域１９の周囲にはゲート電極２１、ドレイン領域１７の周囲には所定の空間を介して第２の絶縁膜２２がそれぞれ形成される。 （もっと読む）

【課題】パワー半導体素子を駆動するためのドライバを低コストで得ることが可能な半導体装置およびそれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】半導体装置１０１は、ハイサイド駆動部６２からの駆動信号を受ける第１のスイッチング機能部と、ローサイド駆動部６４からの駆動信号を受ける制御電極とを有する第２のスイッチング機能部とを備え、ハイサイド駆動部６２は、ノーマリーオン型の電界効果トランジスタを含み、スイッチング制御信号の基準電圧を出力ノードの電位へシフトした駆動信号を出力し、第１のスイッチング機能部はノーマリーオン型の第１の電界効果トランジスタＴｒ１を含み、第２のスイッチング機能部はノーマリーオン型の第２の電界効果トランジスタＴｒ２を含み、ハイサイド駆動部６２および第１の電界効果トランジスタＴｒ１は第１の半導体チップ７１に含まれている。 （もっと読む）

【課題】静電破壊対策においてペレットサイズに影響を与えず、かつレイアウトに影響されない構成とする。
【解決手段】ＦＥＴ領域２００に形成されたＦＥＴと、周囲領域２０２において、基体表面に形成された第１の不純物拡散領域１０６ａと、それぞれ第１の不純物拡散領域１０６ａの一端１０７ａおよび他端１０７ｂ上に形成された第１のオーミックメタル端子１１４ａおよび第２のオーミックメタル端子１１４ｄとを含むゲート抵抗１０７と、平面視において、ゲート抵抗１０７の一端１０７ａとゲート電極１２２との間には、ドレイン不純物拡散領域１０６ｂおよびドレイン電極１１４ｂの組合せ、またはソース不純物拡散領域１０６ｃおよびソース電極１１４ｃの組合せの一方が存在し、当該組合せの一方は、ゲート抵抗１０７の一端１０７ａと他端１０７ｂとを結ぶ直線を遮るように、ＦＥＴ領域２００から延在して形成された遮断部１３４を含む。 （もっと読む）