説明

Fターム[5F110NN71]の内容

薄膜トランジスタ (412,022) | その他の構成要素 (47,691) | 他の素子との融合 (7,695)

Fターム[5F110NN71]の下位に属するFターム

Fターム[5F110NN71]に分類される特許

101 - 120 / 2,024


【課題】電源電位の供給が遮断されたときでもデータの保持が可能で、且つ、低消費電力化が可能なプログラマブルなアナログデバイスを提供する。
【解決手段】アナログ素子を含むユニットセルを複数並列に接続されたプログラマブル回路とし、ユニットセル毎に導通または非導通の切り替えを行う。また、当該ユニットセルのスイッチとして、オフ電流を十分に小さくすることができる第1のトランジスタと、ゲート電極が第1のトランジスタのソース電極又はドレイン電極と電気的に接続された第2のトランジスタと、を含む構成とし、当該第2のトランジスタのゲート電位によってユニットセルの導通または非導通を制御する。 (もっと読む)


【課題】低電圧、低電流、或いは低電力といった条件下でも使用することが可能な検波器を提供する。
【解決手段】検波器は、信号入力端子に接続された第1導電型の第1の半導体領域と、信号出力端子に接続された第2導電型の第2の半導体領域であって、第1の半導体領域に接して位置する第2の半導体領域と、交流的に接地された第1導電型の第3の半導体領域であって、第1の半導体領域から離間し且つ第2の半導体領域に接して位置する第3の半導体領域と、一端が第2の半導体領域に接続され、他端が交流的に接地された第1の抵抗素子と、を含む。 (もっと読む)


【課題】半導体装置を小型化する。また、メモリセルを有する半導体装置の駆動回路の面積を縮小する。
【解決手段】少なくとも第1の半導体素子を有する素子形成層と、素子形成層上に設けられた第1の配線と、第1の配線上に設けられた層間膜と、層間膜を介して第1の配線と重畳する第2の配線と、を有し、第1の配線と、層間膜と、第2の配線と、は、第2の半導体素子を構成し、第1の配線と、第2の配線と、は、同電位が供給される配線である半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】半導体装置において、消費電力を低減する。また、スタンバイ回路を少ない素子で構成し、半導体装置の回路面積の増大を防ぐ。
【解決手段】半導体装置に備えるスタンバイ回路をトランジスタ一つのみで構成し、該トランジスタに供給する電圧を切り替えることで、半導体装置の出力電流を制御する。これにより、スタンバイ状態での半導体装置の出力電流をほぼゼロにすることができるため、消費電力の低減が可能になる。なお、トランジスタの半導体層に酸化物半導体を用いることで、リーク電流を極小に抑えることができる。 (もっと読む)


【課題】容易に共振周波数の設定を行う。
【解決手段】コイルとしての機能を有するアンテナと、アンテナと並列接続で電気的に接続される容量素子と、アンテナ及び容量素子と並列接続で電気的に接続されることにより、アンテナ及び容量素子と共振回路を構成する受動素子と、受動素子とアンテナ及び容量素子を並列接続で電気的に接続するか否かを制御する第1の電界効果トランジスタと、記憶回路と、を備え、記憶回路は、チャネルが形成される酸化物半導体層を含み、ソース及びドレインの一方にデータ信号が入力され、ソース及びドレインの他方の電圧に応じて第1の電界効果トランジスタのゲートの電圧が設定される第2の電界効果トランジスタを備える。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化す
る。信頼性の高い半導体装置を歩留まり良く作製する。
【解決手段】酸化物半導体膜を有するトップゲート構造のスタガ型トランジスタにおいて
、酸化物半導体膜と接する第1のゲート絶縁膜を、プラズマCVD法によりフッ化珪素及
び酸素を含む成膜ガスを用いた酸化シリコン膜で形成し、該第1のゲート絶縁膜上に積層
する第2のゲート絶縁膜を、プラズマCVD法により水素化珪素及び酸素を含む成膜ガス
を用いた酸化シリコン膜で形成する。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタの作製工程において、非晶質酸化物半導体膜を形成し、該非晶質酸化物半導体膜に酸素を導入して酸素を過剰に含む非晶質酸化物半導体膜を形成する。該非晶質酸化物半導体膜上に酸化アルミニウム膜を形成した後、加熱処理を行い該非晶質酸化物半導体膜の少なくとも一部を結晶化させて、結晶性酸化物半導体膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】フォトセンサを有する半導体装置において、外光のノイズを軽減し、且つトランジスタのオフ電流によるリークが原因となるノイズも低減する。
【解決手段】マトリクス状に配置された複数のフォトセンサを有する。複数のフォトセンサはそれぞれ、光電変換素子と増幅回路とを有する。バックライトを点灯して被検出物に光を照射して第p行目のフォトセンサでリセット動作及び蓄積動作を行った後、バックライトを非点灯として第(p+1)行目のフォトセンサでリセット動作及び蓄積動作を行い、その後全行のフォトセンサの選択動作を順次行う。隣接する行のフォトセンサで得られた出力信号の差分を取得し、差分を用いて被検出物の撮像画像の生成や被検出物の存在する領域の検出を行う。増幅回路は蓄積された電荷を保持するトランジスタを有し、当該トランジスタはチャネルが酸化物半導体層に形成される。 (もっと読む)


【課題】非接触にて、被写体の位置情報の取得を容易に行うことができる固体撮像装置、または半導体表示装置の提供。
【解決手段】第1入射方向から第1入射角を有する光が入射する複数の第1フォトセンサと、第1入射方向とは異なる第2入射方向から第2入射角を有する光が入射する複数の第2フォトセンサとを有し、複数の第1フォトセンサのうち、第1入射方向の上流側の一つの第1フォトセンサの方が、第1入射方向の下流側の他の一つの第1フォトセンサよりも、第1入射角が大きく、複数の第2フォトセンサのうち、第2入射方向の上流側の一つの第2フォトセンサの方が、第2入射方向の下流側の他の一つの第2フォトセンサよりも、第2入射角が大きい。 (もっと読む)


【課題】トランジスタの損傷、破壊の発生を抑制することができる半導体装置を提供する。
【解決手段】第1の基板11上の第1の絶縁層12と、第1の絶縁層上のトランジスタ13と、トランジスタ上の第2の絶縁層14と、第2の絶縁層14に設けられた開口部を介して、トランジスタのソース領域又はドレイン領域に接続された第1の導電層15〜18と、第1の導電層上の第3の絶縁層38と、第3の絶縁層38上の第2の基板19と、を有し、トランジスタは、半導体層20と、第2の導電層22と、半導体層20と第2の導電層22の間に設けられた第4の絶縁層21とを有し、第1の絶縁層12、第2の絶縁層14、第3の絶縁層38及び第4の絶縁層21から選択された一つ又は複数は、トランジスタと重ならないように設けられた段差部を有する。 (もっと読む)


【課題】画素部と同じ絶縁基板上において、大きな電流供給能力が得られるトランジスタで構成される電源線駆動回路を備えたEL表示装置を提供する。
【解決手段】絶縁基板上に複数の画素と複数の信号線、複数の走査線、及び複数の電源線を有するアクティブマトリクス型表示装置において、前記絶縁基板上に電界効果移動度が少なくとも80cm/Vs以上、好ましくは120cm/Vs以上を有する酸化物半導体のトランジスタを有し、トランジスタを1つの構成要素とする電源線駆動回路を有するEL表示装置である。 (もっと読む)


【課題】In−Sn−Zn−O系半導体を用いた半導体装置を作製する際の加工技術を確立する。
【解決手段】Clまたは、BClまたは、SiClなどの塩素を含むガスを用いたドライエッチングによりIn−Sn−Zn−O系半導体層を選択的にエッチングする。In−Sn−Zn−O系半導体層上に接して形成する導電層を選択的に除去してソース電極層及びドレイン電極層を形成する場合、塩素を含むガスに加えて酸素を含むガス、またはフッ素を含むガスを用い、In−Sn−Zn−O系半導体層がほとんど除去されないように導電層を選択的にエッチングすることができる。 (もっと読む)


【課題】記憶回路におけるデータの保持期間を長くする。また、消費電力を低減する。また、回路面積を小さくする。また、1回のデータの書き込みに対する該データの読み出し可能回数を増やす。
【解決手段】記憶回路を具備し、記憶回路は、ソース及びドレインの一方にデータ信号が入力される第1の電界効果トランジスタと、ゲートが第1の電界効果トランジスタのソース及びドレインの他方に電気的に接続される第2の電界効果トランジスタと、一対の電流端子を有し、一対の電流端子の一方が第2の電界効果トランジスタのソース又はドレインに電気的に接続される整流素子と、を備える。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体層を用いる薄膜トランジスタにおいて、酸化物半導体層と電気的に
接続するソース電極層またはドレイン電極層との接触抵抗の低減を図ることを課題の一と
する。
【解決手段】ソース電極層またはドレイン電極層を2層以上の積層構造とし、その積層の
うち、酸化物半導体層と接する一層を酸化物半導体層の仕事関数より小さい仕事関数を有
する金属又はそのような金属の合金とする。二層目以降のソース電極層またはドレイン電
極層の材料は、Al、Cr、Cu、Ta、Ti、Mo、Wから選ばれた元素、または上述
した元素を成分とする合金か、上述した元素を組み合わせた合金等を用いる。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い表示装置を提供する。
【解決手段】酸化物半導体を有するトランジスタを有し、酸化物半導体の下に設けられた絶縁膜と、酸化物半導体の上に設けられた絶縁膜とを有する。平坦性を持たせるため、有機材料を含む絶縁膜をさらに設ける。シール材は、有機材料を含む絶縁膜と重なることはなく、絶縁膜と接している。 (もっと読む)


【課題】周辺の回路構成を複雑にすることなく、繰り返しのデータの書き込みの際の劣化を低減することが可能な、不揮発性スイッチとして用いる半導体装置を提供する。
【解決手段】電源電圧が停止しても導通状態に関するデータの保持を、チャネル形成領域に酸化物半導体層を有する薄膜トランジスタに接続されたデータ保持部で行う構成とする。そしてデータ保持部は、ダーリントン接続された電界効果トランジスタ及びバイポーラトランジスタを有する電流増幅回路における、電界効果トランジスタのゲートに接続することでデータ保持部の電荷をリークすることなく、導通状態を制御する。 (もっと読む)


【課題】コイル状のアンテナ部の内部に、占有面積が大きい導電層が設けられていると、電源を安定して供給することが困難になっていた。
【解決手段】記憶回路部とコイル状のアンテナ部とを積層して配置することにより、記憶回路部が含む占有面積の大きい導電層に電流が流れてしまうことを防止することができ、省電力化を図ることができる。また、記憶回路部とコイル状のアンテナ部とを積層して配置することにより、スペースを有効に利用することができる。従って、半導体装置の小型化を実現することができる。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを具備する画素において、開口率の向上
を図ることのできる発光表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】薄膜トランジスタ、及び発光素子を有する複数の画素を有し、画素は、走査
線として機能する第1の配線に電気的に接続されており、薄膜トランジスタは、第1の配
線上にゲート絶縁膜を介して設けられた酸化物半導体層を有し、酸化物半導体層は、第1
の配線が設けられた領域をはみ出て設けられており、発光素子と、酸化物半導体層とが重
畳して設けられる。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化することを目的の一とする。
【解決手段】第1の絶縁膜を形成し、第1の絶縁膜上に、ソース電極およびドレイン電極、ならびに、ソース電極およびドレイン電極と電気的に接続する酸化物半導体膜を形成し、酸化物半導体膜に熱処理を行って、酸化物半導体膜中の水素原子を除去し、水素原子が除去された酸化物半導体膜に酸素ドープ処理を行って、酸化物半導体膜中に酸素原子を供給し、酸素原子が供給された酸化物半導体膜上に、第2の絶縁膜を形成し、第2の絶縁膜上の酸化物半導体膜と重畳する領域にゲート電極を形成する半導体装置の作製方法である。 (もっと読む)


【課題】配線層中の配線をゲート電極として使用し、かつ拡散防止膜と同一層にゲート絶縁膜を有している半導体素子を有する半導体装置において、拡散防止膜の機能を損なうことなく、半導体素子のオン抵抗を低くする。
【解決手段】第1配線層150を構成する絶縁層の表層には、第1配線154及びゲート電極210が埋め込まれている。第1配線層150と第2配線層170の間には、拡散防止膜160が形成されている。ゲート絶縁膜230は、拡散防止膜160のうちゲート電極210と重なる領域及びその周囲の上面に凹部を形成し、この部分を薄くすることにより、形成されている。 (もっと読む)


101 - 120 / 2,024