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Fターム[5F136BB11]の内容

半導体又は固体装置の冷却等 (35,223) | パッケージの放熱部材 (2,466) | 素子搭載用熱拡散部材、サブマウント (209)

Fターム[5F136BB11]に分類される特許

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【課題】絶縁層の熱伝導性が高く、かつ絶縁層と導電層との接着性が高い積層体を提供する。
【解決手段】本発明に係る積層体1は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体2と第1の絶縁層3と第2の絶縁層4とを備える。第1,第2の絶縁層3,4は、同一の硬化性組成物を用いて形成されている。第1,第2の絶縁層3,4はそれぞれ、熱伝導率が10W/m・K以上である無機フィラーを含む。第1の絶縁層3の硬化率が50%以上であり、第2の絶縁層4の硬化率が80%未満である。上記硬化性組成物は、25℃での粘度が15000mPa・s以下である液状エポキシ化合物を含むか、又は融点が140℃未満である結晶性エポキシ化合物を含む。 (もっと読む)


【課題】ダイアタッチパッドや配線部等を構成する金属層が劣化し難い電子デバイスを提供することである。
【解決手段】本発明に係る電子デバイスは、セラミック製の基体2と電子素子1とを具え、基体2の表面21には金属層8が形成され、該金属層8の表面上に電子素子1が設置されることにより、該電子素子1と金属層8とが熱的又は電気的に接続されている。ここで、金属層8は、基体2の表面21の内、電子素子1によって覆われた領域R1の外周縁よりも内側の領域R2に形成されている。 (もっと読む)


【課題】良好な放熱性を提供可能な構造の半導体レーザモジュールを提供する。
【解決手段】III族窒化物半導体レーザ11はサブマウント7とヒートシンク9との間に設けられる。III族窒化物半導体レーザ11はpアップ形態でサブマウント7上に搭載されるので、レーザ導波路からの熱は、レーザ構造体13を介してサブマウント7に伝わる。レーザ導波路からの熱は、高い温度のレーザ導波路からオーミック電極15及びパッド電極45を介して低い温度のヒートシンク9に伝わり、この熱は、オーミック電極15から離れたヒートシンク端に向けてヒートシンク内を伝搬していき、ヒートシンク9の温度分布はレーザ導波路上の中央部からヒートシンク端に向けて低くなる。III族窒化物半導体レーザ11の両端の近傍では、III族窒化物半導体レーザ11の温度はヒートシンク9の温度より低いので、ヒートシンク9の熱はIII族窒化物半導体レーザ11に伝搬する。 (もっと読む)


【課題】より簡単な構成で、熱雑音の増大や信頼性の低下を抑制する。
【解決手段】固体撮像装置は、複数の画素が配置されてなる画素アレイが形成される画素形成領域と、画素アレイから出力される電気信号に対する信号処理を行うロジック回路が形成されるロジック回路形成領域と、少なくとも一部がSi表面を同位体濃縮して形成されている基板とを備え、基板は、ロジック回路形成領域において発生した熱を、外装としてのパッケージに伝達するように設けられる。本技術は、CMOSイメージセンサに適用することができる。 (もっと読む)


【課題】伝導ノイズ及び伝導ノイズをより低減しつつ、破損を防止することが可能な半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体装置16では、正極端子50及び出力端子54の少なくとも一方と第1スイッチング素子34との間には導電性の第1熱緩衝材64aが配置されると共に、負極端子52及び出力端子54の少なくとも一方と第2スイッチング素子40との間には導電性の第2熱緩衝材64bが配置される。第1熱緩衝材64aの線膨張係数は、第1スイッチング素子34の線膨張係数よりも大きく且つ正極端子50又は出力端子54の線膨張係数よりも小さく、第2熱緩衝材64bの線膨張係数は、第2スイッチング素子40の線膨張係数よりも大きく且つ負極端子52又は出力端子54の線膨張係数よりも小さい。 (もっと読む)


【課題】素子で生じた熱を放出し易くでき、かつ、基板からの実装高さを低くすること。
【解決手段】一方主面20aと他方主面20bと貫通孔22とを有する基板20と、貫通孔22を塞ぐように配設され、基板20の一方主面20aよりも他方主面20b側に凹む実装面232を有する熱伝導部230と、実装面232上に固定された素子40とを備える。基板の一方主面に第2の配線28が形成され、熱伝導部230は導電性を有しており、基板220の他方主面であって貫通孔の開口周縁部に、第2の配線に電気的に接続された介在配線229が形成され、熱伝導部230は、基板の他方主面側で貫通孔の開口を閉塞するように広がる板状の本体部234を有し、前記熱伝導部の本体部が、前記介在配線に電気的に接続された状態で、前記基板の他方主面であって前記貫通孔の開口部に配設されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、熱抵抗を大きくすることなく、半導体素子に加わる応力を低減可能な半導体装置を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の半導体装置10は、半導体素子1と、第一の接合材2を介して前記半導体素子1と接合される、導電性を有する第一の電極3と、前記半導体素子1に対して前記第一の電極3の反対側に、第二の接合材4を介して前記半導体素子1と接合される、導電性を有する第二の電極5と、前記第二の電極5に対して前記半導体素子1の反対側に、第三の接合材7を介して前記第二の電極5と接合される、前記第二の電極5よりも線膨張係数の小さい緩衝部材8と、これらを封止する第一の樹脂6と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】素子において発生する熱による熱膨張及び熱収縮を抑えることのできるメタルベース及びその製造方法、並びにこれを用いた素子パッケージを提供する。
【解決手段】少なくとも1つの素子10が実装されるメタルベース110であって、素子10が実装される実装部が一方の面に形成される第1のベース部材111と、第1のベース部材111よりも小さい熱膨張係数を有し、第1のベース部材111の他方の面に貼着されて第1のベース部材111の熱収縮及び熱膨張を拘束する第2のベース部材112と、を備える。 (もっと読む)


【課題】樹脂モールド部にクラックやボイドが発生し難い半導体モジュール、及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】半導体モジュール1は、第1の面と、第1の面の反対面である第2の面と、第1の面と第2の面とをつなぐ側面と、を備えた金属ブロック30と、金属ブロックの第1の面に設置された半導体素子10,11と、金属ブロックの第2の面を覆う第1の絶縁層と、第1の絶縁層から延在して金属ブロックの側面の少なくとも一部を覆う第2の絶縁層と、を含む絶縁層40と、半導体素子及び金属ブロックの少なくとも第1の面を封止する封止部51と、第2の絶縁層と接しないように封止部の外縁部から金属ブロックの第2の面側に立設された側壁部52と、を含む樹脂モールド部50と、を有する。 (もっと読む)


【課題】セラミック基板を用いたBGA実装構造を有する気密半導体パッケージであって、半導体素子の放熱特性を向上させた半導体パッケージを得ること。
【解決手段】実施の形態の半導体パッケージ100は、半導体素子5を直接上に搭載するヒートスプレッダ4と、前記ヒートスプレッダ4の周囲側面と接触して前記半導体素子5の気密性を保持する多層セラミック基板1と、前記ヒートスプレッダ4を下から支え、前記多層セラミック基板1の周囲側面と接触し前記多層セラミック基板1とほぼ同等の線膨張係数を持つ金属ブロック15と、前記多層セラミック基板1および前記金属ブロック15の下面に接合された複数のはんだボール9とを備える。 (もっと読む)


【課題】部品の熱を効率よく放熱すると共に部品が基板上により良好な状態で接合された電子機器および基板アセンブリを提供する。
【解決手段】電子機器は、筐体と、筐体内に設けられ、表面に露出した複数の第1のパッドと、略矩形であって該略矩形の内部に貫通孔部26を有する複数の第2のパッドとを備えた基板と、基板の表面に対向する基板対向面に露出して接合剤30a、30bを介して第1のパッドに接合された複数の第1の電極と、基板対向面に露出して接合剤を介して第2のパッドに接合された第2の電極とを備えた部品とを有する。 (もっと読む)


【課題】熱膨張率が小さく、かつ熱伝導率が大きいCr−Cu合金を用いて、製造プロセスが簡略で、経済的で生産性が高く、高精度の半導体用放熱部品および半導体用ケース,半導体用キャリア,パッケージを提供する。
【解決手段】粉末冶金法を適用して製造したCr−Cu合金に加工を施して得たCr−Cu合金板を冷間プレス加工した成形体であり、かつCr含有量が30質量%超え80質量%以下で残部がCuおよび不可避的不純物からなり、不可避的不純物がO:0.15質量%以下,N:0.1質量%以下,C:0.1質量%以下,Al:0.05質量%以下,Si:0.10質量%以下である半導体用放熱部品である。 (もっと読む)


【課題】小電流用配線が自身よりも大電流が流れる部位と導通することを抑制できる半導体装置を提供する。
【解決手段】大電流が流れるエミッタ用パッド12a及びコレクタ用パッド12bと、小電流が流れる小電流用配線(131,133,134)とを含む半導体チップ10と、コレクタ用パッド12bに電気的に接続された金属からなるコレクタ用端子30と、エミッタ用パッド12aに電気的に接続された金属からなる第2部材(ブロック体50及びエミッタ用端子20)とを備え、半導体チップ10、ブロック体50、エミッタ用端子20、コレクタ用端子30が一体的にモールド樹脂60にてモールドされた半導体装置100である。この第2部材(ブロック体50及びエミッタ用端子20)は、一部がモールド樹脂60の外部に露出し、小電流用配線(131,133,134)を覆っている絶縁性保護膜80に対向する位置にスリット部51が設けられている。 (もっと読む)


【課題】熱サイクル負荷を受けた際にも、回路層の表面にうねりやシワ等の塑性変形が発生することを抑制でき、かつ、セラミックス基板と回路層との接合界面に熱応力が作用することを抑制でき、その接合信頼性を向上させる。
【解決手段】回路層7として、電子部品搭載面7aを構成するアルミニウム純度が質量%で99.0%以上99.95%以下の第1層11と、アルミニウム純度99.99%以上の第2層12とを含む2以上の層を積層してなるクラッド材を用い、その第2層12をセラミックス基板3にろう付けにより接合する。 (もっと読む)


【課題】パワーモジュールの使用時に絶縁回路基板の絶縁層に割れが発生することを防止しうる絶縁回路基板を提供する。
【解決手段】絶縁回路基板4は、絶縁板5の一面に導電層6がろう付されたものであり、導電層6における絶縁板5にろう付された面とは反対側の面が電子素子搭載面8となっている。導電層6の輪郭を形成しかつ導電層6の厚み方向に幅を持つ輪郭面9に、ろう材を、絶縁板5に対して非接触状態で溜めるろう材貯留部11を形成する。導電層6の輪郭面9に、絶縁板5側の端部から電子素子搭載面8に向かって所定の幅を有し、かつろう材貯留部11内のろう材と絶縁板5との接触を抑制する接触抑制部12を設ける。ろう材貯留部11は、輪郭面9における接触抑制部12よりも電子素子搭載面8側の部分に形成し、かつ接触抑制部12に対して凹んだ凹部13からなる。 (もっと読む)


【課題】
耐クラック性及び耐剥離性に優れたアルミニウム合金−セラミックス複合体を効率的に生産することができるアルミニウム合金−セラミックス複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明によれば、平板状のセラミックス多孔体にアルミニウム合金を含浸することにより、両主面にアルミニウム合金層を有する平板状のアルミニウム合金−セラミックス複合体母板を形成する工程と、前記複合体母板の少なくとも一主面に直線状欠陥又は断続的欠陥を導入し、その後、割断することにより、側面において前記セラミックス多孔体及び前記アルミニウム合金層が露出したアルミニウム合金−セラミックス複合体を形成する工程を備え、前記セラミックス多孔体は、炭化珪素と黒鉛の少なくとも一方を含有し、セラミックス充填量が50質量%以上であり、且つ厚さが0.35mm〜3.8mmであり、前記アルミニウム合金は、アルミニウムの含有量が70質量%以上であり、前記複合体母板は、厚さが0.5mm〜4.0mmであり、前記アルミニウム合金層は、厚さが0.01mm〜0.3mmである、アルミニウム合金−セラミックス複合体の製造方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】半導体素子と金属部材のはんだ接合部に生じる熱応力を低減することのできる半導体装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置10は、はんだ17を介して接続された半導体素子11,12と少なくとも金属を含む金属部材16を有する。半導体素子11の一面には、はんだ17を取り囲むように所定厚さを有するはんだ形状制御部材21が設けられている。そして、はんだ形状制御部材21の内周面と、半導体素子11,12の一面とのはんだ17側でなす角度が90度未満となっている。 (もっと読む)


【課題】発熱部材の動作性能を適正に維持すると共に、結露の発生を未然に防止する。
【解決手段】筐体内に設けられたLD18,20、LED19と、LD18,20、LED19に対して設けられ、LD18,20、LED19から吸熱するペルチェ素子26,29,32と、外部空気を筐体内に導入し、導入した空気流をLD18,20、LED19に当てて冷却する冷却ファン36と、LD18,20、LED19の温度を検出する温度センサ27,30,33と、検出した温度に基づいてLD18,20、LED19が過冷却状態であるか否かを判断し、過冷却状態であると判断した場合にはペルチェ素子26,29,32での冷却能力を下げると共に、冷却ファン36での冷却能力を上げるCPU40及び投影光駆動部39とを備える。 (もっと読む)


【課題】複数の半導体チップを含む半導体装置であって、放熱性向上が図られた半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、支持部材上方に、複数の半導体チップを並べて配置する工程と、支持部材上に配置された複数の半導体チップの少なくとも側面を覆って、第1熱伝導層を形成する工程と、複数の半導体チップの上方に、第1絶縁層を形成する工程とを有し、第1熱伝導層は、第1絶縁層よりも熱伝導率の高い材料で形成される。 (もっと読む)


【課題】炭素系材料からなる熱拡散部材を用いつつ、接合界面の熱応力を抑制することができる熱拡散部材の接合構造、発熱体の冷却構造、及び熱拡散部材の接合方法を提供する。
【解決手段】炭素系材料を用いて板状に形成され、表面に金属薄膜を有し、板状の厚さ方向に熱を伝導させる熱拡散部材としての第1部材は、少なくとも第2部材との対向面に、金属薄膜を有する。そして、第1部材の金属薄膜形成面と第2部材における金属薄膜形成面の対向面との間に、接合部材として金属粒子の焼結体が介在されている。 (もっと読む)


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