【課題】大型の被加工物表面の安定した微細加工とその高速化が容易にするパルスレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】クロック信号を発生する基準クロック発振回路と、クロック信号に同期した一定の周波数のパルスレーザビームを出射するレーザ発振器と、クロック信号に同期してパルスレーザビームを１次元方向のみに走査するレーザ・スキャナーと、被加工物を載置可能で１次元方向に直交する方向に移動するし、回転軸に保持されるロールと、レーザ発振器とレーザ・スキャナーとの間の光路に設けられ、クロック信号に同期してパルスレーザビームの通過と遮断を切り替えるパルスピッカーと、を備えることを特徴とするパルスレーザ加工装置。 （もっと読む）

【課題】ペルチェ素子に適正な面圧を与えることができ且つ光学結晶体の確実なる位置固定を行う。
【解決手段】光学結晶体2を載置した固定板3は、台座5に対してスペーサ6を貫通する第３のネジ12によって間隔を隔てて位置固定される。台座5には、台座5を上下に貫通するネジ山付きの開口102が形成され、この開口102に押し上げ部材104が螺着されている。押し上げ部材104は、これと直交する横方向から接近する固定ネジによって、その高さ位置がロックされる。押し上げ部材104と固定板3との間に熱電素子であるペルチェ素子7が配設される。押し上げ部材104に所定のトルクの回転力を加えることでペルチェ素子7が固定板3に圧接される。 （もっと読む）

【課題】平面導波路の内部を周回する寄生発振光やＡＳＥの発生を抑制することができるようにする。
【解決手段】励起光２によって励起されるコア層１１と、コア層１１の上面に接合された第一クラッド層１２と、コア層１１の下面及び第一クラッド層１２の上面に接合された第二クラッド層１３と、第二クラッド層１３の外側に形成された吸収層１４と、励起光２が入射される平面導波路３の側面３ａと異なる側面に形成された全反射膜１５とを備え、コア層１１で増幅されるレーザ光４が全反射膜１５に反射されながら伝播される一方、平面導波路３の内部に閉じ込められて周回する寄生発振光やＡＳＥ５が吸収層１４によって吸収されるように構成する。 （もっと読む）

【課題】安定した励起光源出力が得られ、レーザ発振時等の励起光源の破壊を防止でき、装置が小型かつ安価で、高効率の導波路型レーザ装置を得る。
【解決手段】レーザ媒質２は、中心軸ＣＡとなす角が鋭角な励起光が入射する第７の面２ｇを有する多角柱形状からなり、励起光源３で励起されてレーザ光を出力する。第７の面２ｇは、励起光入射面の中心軸となる角度がレーザ発振光に対して臨界角より大きく、かつ、励起光がレーザ媒質２の第４の面２ｄに対して臨界角より大きい角度で入射するよう形成されると共に、クラッドの材料が、ｎ_０は空気の屈折率、ｎ_１は第１のクラッドまたは第２のクラッドの屈折率、ｎ_２はレーザ媒質の屈折率とした時にｎ_２×ｓｉｎ（π／２−ｓｉｎ^−１（ｎ_０／ｎ_２））＜ｎ_１＜ｎ_２を満足するよう設定されている。 （もっと読む）

【課題】比較的狭いスペクトルバンド幅を有するレーザパルスを生成する方法及び装置を提供する。
【解決手段】狭スペクトルバンド幅レーザパルス１３０を生成する装置１００は、シードパルス持続期間を有するシードレーザパルスを生成するためのシードパルスレーザ１０１と、シードレーザパルスを受け取り、シードレーザパルスを修正し、シードパルス持続期間より長いパルス持続期間を有し、且つ、光周波数正チャープを有する修正されたレーザパルスを生成するための光ストレッチャ１１０と、修正されたレーザパルスに正常光分散を与える光利得媒体により形成された光増幅器１２０とを備える。光増幅器１２０は、正チャープを有する修正されたレーザパルスをあるパワーレベルまで増幅する。このパワーレベルにおいては、自己位相変調により、増幅され修正されたレーザパルスのスペクトルバンド幅を圧縮する。 （もっと読む）

【課題】熱分布の発生を抑制して、ビーム品質を高めることができるようにする。
【解決手段】入射面２ａから励起光６を導入して、その励起光６を伝搬させる平板状の励起光導入部２と、励起光導入部２より高い屈折率を有しており、その励起光導入部２により伝搬された励起光６を導入する入射面が、その励起光導入部２の下面２ｃに接合され、その入射面から導入した励起光６を吸収して利得を発生する平板状のレーザ媒質１とを備え、その励起光導入部２における励起光６の入射方向の長さがレーザ媒質１より長く、その励起光導入部２の入射面２ａ付近にはレーザ媒質１が接合されていないように構成する。 （もっと読む）

【課題】光ノイズが小さく安定したＳＨＧ光を出力し、且つ、消費電力が抑制された半導体レーザ励起固体レーザ装置及びレーザ光の出力方法を提供する。
【解決手段】設定温度において、モードホップを生じることなく一定の波長の単一縦モードの励起光を、設定出力値で出射する半導体レーザと、半導体レーザを駆動する駆動装置と、設定温度において出力効率が最大であり、光ノイズが一定値以下の、且つ励起光の出力値が設定出力値である場合に所定の出力値である出力光を、励起光から生成する固体レーザモジュールと、半導体レーザの温度と固体レーザモジュールの温度を調整する単一の温度調整装置と、出力光が所定の出力値であるように駆動装置を制御し、且つ、半導体レーザ及び固体レーザモジュールの温度が設定温度であるように温度調整装置を制御する制御装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】 周波数変化に伴う、２つのポンプ光間の交叉角度の制御も不要で、テラヘルツ波の出力側に複雑な光学系を設けることなく、簡単な装置構成で、周波数可変のテラヘルツ帯の電磁波を発生することの可能な電磁波発生装置を提供する。
【解決手段】第１のポンプ光を出射する第１のポンプ光出射部２４と、第１のポンプ光とは異なる波長の第２のポンプ光を、波長可変で出射する第２のポンプ光出射部２５と、周期的な分極反転構造を有し、第１のポンプ光と第２のポンプ光との差周波数の電磁波を生成する擬似位相整合素子１９と、第１のポンプ光と第２のポンプ光との交叉角を位相整合範囲角に調整して固定し、第１のポンプ光及び第２のポンプ光を擬似位相整合素子１９に入射させる光学系（Ｍ₆，１８）とを備え、第２のポンプ光の周波数を変えることにより、擬似位相整合素子１９から可変波長のテラヘルツ電磁波を発生させる。 （もっと読む）

【課題】導波路型レーザの利得係数が非常に高い場合に、ＡＳＥが発生するが、このＡＳＥの発生を抑え、一方で、レーザ光の発振、増幅には損失を与えない、固体レーザ装置を得る。
【解決手段】導波路型固体レーザ装置の励起媒質１の対向する２辺に施された全反射膜４，５に、レーザ光路２を伝播するレーザ光の入射角に対する反射率依存性を持たせて、レーザ光の最大入射角α以下の範囲の入射角においては、全反射膜４，５の反射率を高い反射率とし、レーザ光の最大入射角αよりも大きい範囲の入射角においては、全反射膜４，５の反射率を低下させることにより、反射時のＡＳＥ光の損失を高くしてＡＳＥの発生を抑制し、一方で、レーザ光には大きな損失を与えることなく、発振、増幅させることができる。 （もっと読む）

【課題】接着剤を用いずに導波路を構成できる構造の平面導波路型レーザ装置を得る。
【解決手段】表面に酸化膜２ａを有するＳｉ基板２と、平板状の形状を成し、酸化膜２ａよりも高い屈折率を有し、厚さ方向に対して垂直な面のうちの一方の面がＳｉ基板２の酸化膜２ａを有する面に、拡散接合または表面活性化接合により直接接合された、レーザ媒質１と、レーザ媒質１の面に、直接接合または成膜されたクラッド層３を備え、レーザ媒質１を導波路のコアとして使用し、酸化膜２ａおよびクラッド層３を導波路のクラッドとして使用する平面導波路型レーザ装置であるので、レーザ光の照射や温度上昇により劣化してしまう接着剤を用いずに導波路を構成することができ、高信頼性化が可能となる。 （もっと読む）

【課題】１パルスあたりの出力エネルギーおよびパルス幅を変えることなく、連続的なパルス周波数の調整やパルス出力タイミングの制御を実現し、耐振動性や耐衝撃性などの信頼性に優れるとともに、励起源の寿命による出力劣化や温度変動などに対しても、自動的に周波数調整が可能な受動Ｑスイッチレーザ装置を得る。
【解決手段】励起源１０２および共振器を有し、励起源１０２により励起された発振光ＬＯを共振器から出力する受動Ｑスイッチレーザ１０１と、励起源１０２に一定のオフセット電流を供給する駆動電源１１２と、オフセット電流に電流パルスＩｐを付加するパルス発生電源１１１とを備える。電流パルスＩｐにより発振光ＬＯのパルス出力タイミングを制御する。 （もっと読む）

【課題】レーザービームを放射するための軸方向冷却を伴う反横断レーザー発振装置を提供する。
【解決手段】本発明は２つの面Ｓ１とＳ２をつなぐ表面積Σにより範囲を定められ、そして利得媒体となるためにその面の両方、又はその内の１つを通じてポンピングされることを目的とする、蛍光波長λを持つ円筒形の固体増幅媒体（１）を含む、レーザービームを放射するための装置に関する。装置は面のうちの１つにわたり増幅媒体（１）と接触する熱伝導率Ｃｒの冷却液（３１）と、その表面積Σにわたり増幅媒体（１）と接触する熱伝導率Ｃｉ＜０．３Ｃｒの、蛍光波長を吸収し又は散乱させる屈折率整合液（２１）とを含む。 （もっと読む）

【課題】 交換性、拡張性、及び調整容易性に優れたレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】 レーザビームを出射する光源と、光源を出射したレーザビームのビーム径を変化させるエキスパンダ光学系と、エキスパンダ光学系を出射したレーザビームの断面形状を整形するマスク光学系と、マスク光学系で整形されたレーザビームの断面形状を加工点に転写倍率可変に転写する転写倍率変化光学系と、転写倍率変化光学系を出射したレーザビームを、集光して加工点に入射させる集光光学系と、光源と加工点との間のレーザビームの光路上に配置され、入射するレーザビームの通過と遮蔽とを切り替えることができるシャッタ光学系とを有し、エキスパンダ光学系、マスク光学系、転写倍率変化光学系、集光光学系、シャッタ光学系の少なくとも一つは、一体化されたモジュールとして構成されているレーザ加工装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】励起光とレーザ光とのビームオーバーラップ効率を高め、励起光からレーザ光への光−光変換効率を向上させた固体レーザ装置を得る。
【解決手段】励起光およびレーザ光が入射される薄板状の固体の励起媒質１を備えている。励起媒質１は、全反射コート４、５が施された非平行な２辺を有し、レーザ光は、非平行な２辺を多重反射してジグザグに進行する。励起媒質１内のレーザ光が分散する部分の励起密度よりも、励起媒質１内のレーザ光が集中する部分の励起密度の方が高く設定されている。 （もっと読む）

【課題】半導体レーザーから出射された半導体レーザー光を光ファイバーにより転送して、該半導体レーザー光を励起光として固体レーザー媒質に入射するようにした半導体レーザー励起固体レーザー装置において、光ファイバーの脱着をレーザーの特性を変化させること無く高精度に行えるようにする。
【解決手段】光ファイバーにおける半導体レーザー光の出射側端部側に、コリメーターレンズを固定的に配設し、レーザー共振器を配置したレーザーヘッドに、コリメーターレンズにより平行光とされた半導体レーザー光を集光して固体レーザー媒質に入射する集光レンズを固定的に配設し、コリメーターレンズにより平行光とされた半導体レーザー光が、集光レンズにより固体レーザー媒質に集光して入射されるように、コリメーターレンズと集光レンズとを着脱自在に連結する。 （もっと読む）

【課題】同じレーザ光源装置を用いて、加工精度を良好に保ちつつ、レーザ光のパルスエネルギーおよび繰返し周波数を変化させる。
【解決手段】シードLD１５１から射出されたレーザ光を、ファイバ増幅器１５３およびファイバ増幅器１５５により増幅した後、固体レーザ増幅器１５８により増幅する。制御部１６０は、固体レーザ増幅器１５８の固体レーザ媒質を励起する励起光をレーザ光に同期して固体レーザ媒質に照射するように制御するとともに、励起光の単位時間あたりのパワーが所定の値になるように、レーザ光の繰返し周波数に応じて励起光の強度を制御する。本発明は、例えば、レーザリペア装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】長期劣化への耐性を有する固体レーザ、およびそのようなレーザを提供する。
【解決手段】高強度の内部赤外放射による長期劣化への耐性をレーザに付与するための、ダイオード励起赤外レーザの利得媒質の共ドーピングに関する。Ｃｒ３＋およびＣｅ３＋などのイオンを用いる利得媒質の共ドーピングは、外部イオン化放射への耐性を利得媒質に付与し、利得媒質の長期劣化の問題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶ光源のための高電力ガス放電レーザシステムを提供する。
【解決手段】方法及び装置は、線狭化パルスエキシマ又は分子フッ素ガス放電レーザシステムを含むことができ、システムは、パルスのレーザ出力光ビームを含む出力を生成し、かつ第１のガス放電エキシマ又は分子フッ素レーザチャンバと第１の発振空洞内の線狭化モジュールとを含むことができるシードレーザ発振器と、シードレーザ発振器の出力を受け取ってシードレーザ発振器の出力を増幅し、パルスのレーザ出力光ビームを含むレーザシステム出力を形成する第２のガス放電エキシマ又は分子フッ素レーザチャンバに増幅利得媒体を収容し、かつリング電力増幅ステージを含むことができて、シードレーザ発振器の出力がこのリング電力増幅ステージの増幅利得媒体をループ毎に少なくとも２回通過するレーザ増幅ステージとを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】調整の容易化、組立作業の簡略化を図ることのできる平面導波路型レーザ装置および平面導波路型レーザ装置の製造方法を得る。
【解決手段】導波路構造を有するレーザ媒質（３ｃ）を含む導波路型固体レーザ素子（３）と、導波路構造を有する非線形材料（４ｃ）を含む導波路型光学素子（４）と、両素子（３、４）を実装するために一体構成されたヒートシンク（１）とを備え、導波路型固体レーザ素子（３）の励起光入射側の端面方向を規定する第１の当て面および第２の当て面と、導波路型固体レーザ素子の励起光入射側の端面方向と平行になるように導波路型光学素子（４）のレーザ光出射側の端面方向を規定する第３の当て面および第４の当て面とをヒートシンク（１）上に形成するステップと、当て面を用いて導波路型固体レーザ素子および導波路型光学素子を配置するステップとを備える。 （もっと読む）

【課題】 光源の性能を最適化するための光学的位置調整が簡単で、輝度が高く発光効率の高い光源装置を提供する。
【解決手段】 励起光源として半導体発光素子を備えた半導体光源を具備しかつ該励起光を吸収して発光する発光媒質を備え、該発光媒質の発光の一部を出力光として出力するレーザ光源装置において、該励起光を共振させてその光強度を増強する光路Ａを構成する複数の反射要素からなる光共振器Ａと、該発光媒質の発光を共振させてその光強度を増強する光路Ｂを構成する複数の反射要素からなる光共振器Ｂを、該光路Ａと該光路Ｂを一部共有させて備え、且つ、該半導体発光素子を該光共振器Ａ内の該光路共有部に、該発光媒質を該光共振器Ｂ内の光路Ｂに、配置し、さらに、該光共振器Ａと該光共振器Ｂのそれぞれの反射要素のうち、互いに一つの共有する反射要素１を備え且つ該反射要素１が該出力光と該励起光を共に反射することを特徴とするレーザ光源装置。 （もっと読む）