モジュール式超高速パルスレーザシステムは、モジュールとして作られ、個々に予備テストされた構成要素で組み立てられている。個々のモジュールは、発振器、前置増幅器とパワー増幅器ステージ、非線形増幅器、及び伸長器と圧縮器、を含んでいる。個々のモジュールは、一般的に単純なファイバスプライスによって接続される。 （もっと読む）

【課題】レーザビームによるターゲットの照射により開始されたプラズマによって生成されるＥＵＶ光源を提供する。
【解決手段】初期ターゲット照射パルスでプラズマ開始ターゲットを照射して帯域内ＥＵＶ光を放出する放出領域を有するプラズマを発生させるＥＵＶを形成するレーザ初期ターゲット照射パルス発生機構と、プラズマの放出領域に向けてプラズマ内の放出材料を圧縮するために初期ターゲット照射パルス後にプラズマをプラズマ照射パルスで照射するレーザプラズマ照射パルス発生機構とを含むことができる、ＬＰＰのＥＵＶ光源においてプラズマ照射レーザ光パルスを有効かつ効率的に供給するための機器及び方法。プラズマ照射パルスは、関連のより低い臨海密度を有して放出材料の圧縮を達成するために初期ターゲット照射サイトから十分に分離されたプラズマ照射パルスの波長によって形成されたプラズマの領域におけるプラズマ内で発生する吸収をもたらすように、初期ターゲット照射パルスの波長よりも十分に長い波長を有するレーザパルスを含むことができ、かつ放出領域を圧縮することができる。レーザプラズマ照射パルスは、変換効率増大のために好都合に放出されるプラズマを閉じ込めるのに十分なプラズマの融除雲内の空中質量密度を生成することができる。プラズマ照射パルスに対する堆積領域は、好都合に放出されるプラズマの圧縮を保証するために初期ターゲット表面から十分に除去することができる。高変換効率レーザ生成プラズマ極紫外線（ＥＵＶ）光源は、ターゲット照射パルスでプラズマ開始ターゲットを照射して帯域内ＥＵＶ光を放出するプラズマを発生させるＥＵＶを形成するレーザ初期ターゲット照射パルス発生機構と、プラズマを実質的に取り囲んでプラズマの膨張を抑制するプラズマタンパーとを含むことができる。 （もっと読む）

所望されるアウトプット波形を提供する高エネルギー光ビーム生成器である。その生成器は、インプットビームを生成するための、モードロックレーザ（４０）のようなマスター発振器（１０）、周波数成分にインプットビームを分解するための第１の分散要素（１４）、周波数成分を個別に変調するための位相振幅変調器のセット（１６）、周波数成分を個別に増幅するためのパワー増幅器のセット（１８）、および単一のアウトプットビーム（２２）に、増幅され、変調された周波数成分を再結合するための第２の分散要素（２０）を含む。位相コントロールエレクトロニクス（６０）は、意図されるアプリケーション、および、インプットビームとアウトプットビームの感知された特性に基き、アウトプットビーム（２２）の所望される波形を提供するために変調器（１６）をコントロールする。
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本発明は、再現可能な増幅器原理によって操作する高度に繰り返すレーザーシステムに関する。前記システムは、少なくとも一つの増幅したレーザー媒質（６）と、少なくとも一つの共振ミラー（５）と少なくとも一つの変調器（３）と前記レーザー媒質（６）をポンプするために用いられるポンプ源、特にレーザーダイオード源とを備えたレーザー共振器とからなる。前記高度繰り返しレーザーシステムは、構造又は材料によって高度分散効果を有するパルス拡張器（７）がレーザー共振器に集積化されることのおかげでコンパクトである。
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【課題】
【解決手段】
ターゲット材料を囲む少なくとも１つの材料の電気的または物理的な特徴に望ましくない変化を起こすことなく、微視的な領域内においてターゲット材料を処理するためのレーザに基づくシステムにおいて、システムが、シードレーザと、光学増幅器と、ビーム発射装置とを具える。シードレーザは、第１の予め定められた波長を有する連続するレーザパルスを発生するためのシードレーザである。光学増幅器は、増幅された連続する出力パルスを得るために、連続するパルスの少なくとも一部を増幅するための光学増幅器である。ビーム発射装置は、増幅された連続する出力パルスの少なくとも１つのパルスをターゲット材料に発射して焦点を合わせるためのビーム発射装置である。少なくとも１つの出力パルスが約１０ピコ秒から１ナノ秒未満の範囲のパルス持続時間を有する。パルス持続時間が熱処理範囲内である。少なくとも１つの焦点を合わせられた出力パルスがターゲット材料内の位置で十分なパワー密度を有し、ターゲット材料の反射力を減少して、ターゲット材料を除くために焦点を合わされた出力をターゲット材料内に効果的に結びつける。 （もっと読む）

特別形態の時間的パワープロファイルのレーザパルスは、従来の時間的波形又はほぼ正方形の波形の変わりに、ICリンクを切断する。特別形態のレーザパルスは、好適に、レーザパルスの開始でのオーバーシュート又はレーザパルスの持続時間内のスパイクパルスのいずれかを有する。スパイクピークのタイミングは、リンク部がほぼ完全に除去されるときの時間の前に、好適に設定される。特別形態のレーザパルス・パワープロファイルは、例えば、緑色、UV域などの、レーザパルスの広いパワー範囲と、短いレーザ波長の使用を可能とし、基板及びリンクの側部及び下部のいずれかに配置する不動態化構造部に、ほぼダメージを与えることなく、リンクを切断する。
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マスターオシレータ増幅器において、ダイオードレーザー(202)の駆動回路(208)を特別に制御して２つ以上の注入レーザーパルスの組を発生し、これらのパルス組を非飽和状態で動作する増幅器(204)に注入して、これらの注入レーザーパルスの時間的なパワー特性を複製したレーザーパルス(52)の組(50)を発生して、メモリーまたは他のＩＣチップ内の導電リンク２２及び／またはその上にあるパシベーション層(44)を除去する。各組(50)は、少なくとも１つの特別に整形したパルス(52)及び／または異なる時間的なパワー特性を有する２つ以上のパルス(50)を含む。組(50)の持続時間は十分小さく、通常の位置決めシステム(380)によって単一の「パルス」として扱われ、オン・ザ・フライのリンク除去が停止なしに実行される。
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少なくとも約50000パルス/秒のパルス繰り返し数と1ピコ秒よりも短いパルスあたりの長さとを有するパルスの流れを生成させ、数秒程度の時間内に手術を完了させるために、少なくとも多数のパルスたとえば10秒よりも短い時間内に100000パルスを使用して、外科手術処置(たとえば、眼科の)のための組織切断に適した出力光パターンを走査しながら、前記流れを集束させることを特徴とする装置と方法である。一部の実施形態においては、あらかじめ調節するための負の分散を発生させ、該分散が走査システムにおける正の分散を補償する。また、一部の実施形態においては、レーザーおよび走査システムを使用して微小レンズを切断し、該レンズが角膜表面を通過するように形成された側部スリットを通して機械的に取り出される。 （もっと読む）