【課題】 分布特性が良好な領域のみ増幅段ゲイン領域に入射させることにより、２ステージ狭帯域化レーザ装置のスペクトル性能を大幅に向上させること。
【解決手段】 発振段レーザ１からのレーザビームは、伝播ミラー４ａ、ビーム整形ユニット５、伝播ミラー４ｂを介して増幅段レーザ２へ導かれ注入される。ビーム整形ユニット５は、増幅段レーザ２のゲイン領域に入射する発振段レーザ１から出射するビームのスペクトル特性が良好となるように、発振段レーザ１から増幅段レーザ２に注入されるレーザビームを整形する。ビーム整形ユニット５としては、例えばビーム切り出しやビーム拡大手段あるいはビーム光軸調整手段などを用いることができる。必要に応じて増幅後のスペクトル性能、スペクトル幅の分布情報を適宜診断してそれに応じてビーム整形の状態を調整してもいい。 （もっと読む）

【課題】簡便で故障検出能が高いパルス光源の故障検出方法及び装置を提供すること。
【解決手段】高パワー光パルスを出力するパルス光源の故障検出装置であって、パルス光源１０からの高パワー光パルスを入射させて入射光パルスと異なるスペクトルをもつ光パルスを発生させる非線形光学媒質２１と、前記非線形光学媒質２１から発生された前記入射光パルスと異なるスペクトルをもつ光パルスを波長選別する波長選別手段２２と、前記波長選別手段２２で選別された前記光パルスを検出する検出手段２３とを有し、前記検出手段２３で検出される前記光パルスの強度で故障を検出することを特徴とする。
非線系光学媒質は、パルス光源から出力される光パルスが入射されると、パルス光源が故障してないときは入射光パルスと異なるスペクトルをもつ光パルスを発生し、故障しているときは入射光パルス或いは入射光をそのまま出射するので、入射光パルスと異なるスペクトル成分を波長選別検出することで、パルス光源の故障を確実に検出することができる。 （もっと読む）

【課題】 更なる出力光の高パワー化と非線形光学現象の発生の充分なる抑制とを両立させることができる光増幅用ファイバを提供する。
【解決手段】 光増幅用ファイバ１０は、石英ガラスを主成分とするものであって、Ｅｒ元素，Ａｌ元素およびＦ元素が添加されたコア領域と、このコア領域を取り囲みコア領域より屈折率が低いクラッド領域とを有する。コア領域に添加されているＥｒ元素濃度は１０００wt.ppm以上５０００wt.ppm以下であり、コア領域に添加されているＡｌ元素濃度は１wt％以上１０wt％以下である。コア領域の外径は１０μｍ以上３０μｍ以下であり、クラッド領域の外径は７５μｍ以上２００μｍ未満である。クラッド領域に対するコア領域の比屈折率差が０.３％以上２.０％以下である。 （もっと読む）

【課題】出力効率の向上したアップコンバージョン光ファイバレーザ装置を提供する。
【解決手段】装置５０は、励起光源５３と、その出力光から第１波長光を含んだ複数の波長光が得られるようにコアが希土類物質でドープされた第１光ファイバ５５と、第１光ファイバの一端に形成した第１ミラー５６ａと、他端に形成した第２ミラー５６ｂを備え、これらミラーの間の第１光ファイバで共振する第１波長光を選択して第２ミラーを通じ出力する第１共振器５７と、第１光ファイバの他端に連結され、第１共振器から入射される第１波長光の出力を増幅させる第２光ファイバを含み、第１波長光以外の波長光は第１波長光に比べ光ファイバ長さ当りの利得が高い第２波長光を含み、これらミラーは第２波長光より第１波長光に対して高い反射率を有し、第１光ファイバの長さを第２波長光に比べ第１波長光が優先的に発振するように設定する。 （もっと読む）

光放射（１０）を提供する装置であって、この装置は、ポンピング放射（２）を提供するポンピング源（１）と、輝度コンバータと、を有し、この装置は、輝度コンバータ（３）が、その長さの少なくとも一部に沿って実質的に堅い領域を含んでいることを特徴としている。
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【課題】 より精密なレーザ加工を行うことができるレーザ光源等を提供する。
【解決手段】 レーザ光源１は、パルスレーザ光λ_１，λ_２を互いに同一の繰り返し周波数で出力する光源部１０と、この光源部１０から出力されたパルスレーザ光λ_１，λ_２を共通の光増幅媒体により増幅して出力する光増幅部２０と、この光増幅部２０から出力されたパルスレーザ光λ_１，λ_２を互いに分波する光分波部３０と、この光分波部３０により分波されたパルスレーザ光λ_１，λ_２を合波して出力する光合波部４０と、光分波部３０と光合波部４０との間においてパルスレーザ光λ_１，λ_２の間の光路長差を調整する光路長差設定部５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）極紫外線（ＥＵＶ）又は軟Ｘ線光源のための駆動レーザシステムを提供する。
【解決手段】固体シードレーザ主発振器レーザと駆動レーザ出力光ビームを生成するガス放電エキシマレーザ利得発生器とを含むＥＵＶ駆動レーザシステムを含むことができる装置及び方法。固体シードレーザは、同調可能とすることができる第３高調波Ｎｄ：ＹＬＦレーザを含むことができる。ガス放電エキシマ利得発生器レーザは、ＸｅＦエキシマレーザ電力増幅器又は電力発振器を含むことができる。固体レーザは、固体レーザを含むレーザ結晶の温度を変えることにより、又は波長選択要素、例えばリオ・フィルタ又はエタロンを利用することによって同調される同調可能レーザを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 レーザー光のコントラストを小型の装置構成で、簡便にかつ安価に向上させる方法及びレーザー発生装置を提供する。
【解決手段】 レーザー発振器１１のパルス光出力を、パルス幅拡張器１２、前段部増幅器１３、減衰器１４を経て、光パラメトリック増幅器１５に導入し、その後光パラメトリック増幅器１５の出力を後段部増幅器１６、パルス幅圧縮器１７を経て取り出す。 （もっと読む）

ファイバ発振器と高電力ファイバ増幅器とを含むレーザシステムのモードロック動作を始動し、および維持するのに必要とされる条件を検出し、および制御する方法ならびに装置である。本発明を用いて、ファイバ発振器の出力電力および繰り返し周波数を監視し、および発振器の動作を制御して温度などの環境条件の変化にも拘らず、さらには構成要素の経年変化または劣化による変化があっても、発振器が正しいモードロック動作を獲得し、および維持するようにする。
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本発明は、ＭＯＰＯ方式の高安定性、高出力効率、細い線幅である利点を活かしつつ、空間コヒーレンスを低くした半導体露光装置用に適した２ステージレーザ装置に関するものであり、発振段レーザ（５０）と増幅段レーザ（６０）とからなる露光用２ステージレーザ装置であって、発振段レーザ（５０）として発振レーザ光に発散を有するものが用いられ、増幅段レーザ（６０）は入力側ミラー（１）と出力側ミラー（２）とからなるファブリペローエタロン型共振器を備え、その共振器は安定共振器を構成している。
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本発明は、材料のレーザ処理方法、具体的には周囲の軟もしくは硬生体材料のいずれに対しても損傷を与えないように材料のレーザ除去を行う必要がある医学的用途および歯科用途で特に重要な、材料のレーザ除去のためのレーザ誘導アブレーションプロセスを提供する。そのアブレーションプロセスは、多光子吸収により高反応性および損傷性のイオンを発生しないようなやり方で材料の短寿命振動またはフォノンの直接および特異的励起によるインパルス熱蓄積（ＩＨＤ）によって達成される。レーザ照射のための指定の時間および波長条件下での熱蓄積およびその後のアブレーションプロセスは、音響もしくは熱膨張または熱拡散による周囲組織への熱移動よりも速く行われるが、そうでなければ過剰熱関連損傷が生じるであろう。結果的に、全ての蓄積レーザエネルギーが、アブレーションプロセスに最適に送出され、そこでは光力学的膨張力および熱駆動相転移の両方からの慣性的に制限された応力ならびに関連する体積変化が積極的に干渉して、最も効率的なアブレーションプロセスが駆動され、それにより、電離放射線または熱効果による周囲領域への損傷を最小化することが可能となる。赤外線レーザパルスの特定の波長範囲、空間的および時間的整形を選択することで、付随損傷の低減に関するアブレーションプロセスの効率をさらに高めるように、そのエネルギーを最適に蓄積することができる。
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本発明は、高パルスエネルギーの超短光パルスの生成のためのチャーピングパルス増幅システムにおけるブラッグ光ファイバの使用に関する。気体コアブラッグ光ファイバ導波路（２０２）は、パルスが増幅されるように、パルスの持続時間を伸長するようにそのようなシステムで有利に用いられることができ、及び／又は、ブラッグファイバは、光信号が増幅された後に光信号をかなり短いパルスに圧縮するように用いられることができ、ブラッグファイバはまた、増幅器部分において略ゼロ分散の遅延線として機能する。

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【課題】半導体露光装置の２ステージシステムの紫外ガスレーザにおいて、出力エネルギーを減少させることなくレーザ光の偏光純度を高くすること。
【解決手段】レーザ光を出力する発振段レーザと、前段のレーザから出力されたレーザ光を増幅して出力する一以上の増幅段レーザと、少なくとも一つの前記増幅段レーザのレーザ光軸上に設けられ、レーザ光に含まれ互いに直交する二つの直線偏波状態の成分のうちの一方を高反射率で反射し、他方を高透過率で透過する偏光子と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。
【解決手段】 ＭＯＰＡ（master oscillator power amplifier）方式に従って構成されたレーザシステム３であって、レーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数のレーザ増幅系３０４（１）及び３０４（２）並びに３０５（１）及び３０５（２）において該レーザ光を増幅するレーザシステムと、複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するようにレーザシステムの動作タイミングを制御するレーザシステム制御装置４とを含む。 （もっと読む）

赤外領域の信号光を発生させるレーザ光源１０と、ファイバー光増幅器２１，２２を有しレーザ光源１０で発生された信号光を増幅する光増幅器２０と、光増幅器２０で増幅された信号光を紫外光に波長変換して出力する波長変換光学系３０とを備え、光増幅器２０における少なくとも１段のファイバー光増幅器２２の励起光源としてシングルモードファイバーレーザ２６を用いて紫外光源１を構成する。
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本発明の目的は、改良型マイクロマシニング装置、及びその使用方法を提供することである。本発明のもう１つの目的は、増大した速度でポリマー材料を切る、又は刻むことのできるダイオード励起固体レーザー、及びその使用方法を提供することである。本発明のこれら及び他の目的は、マイクロマシニング装置で実現される。その装置は、出力ビームを生成する発振器空洞を定める高反射器及び出力カプラーを持つ、モードロックされた赤外線レーザーシステムを含む。利得媒体及びモードロックデバイスは、発振器空洞内に配置される。ダイオード励起源は、利得媒体に入射する励起ビームを生成する。第二高調波生成器が、発振器空洞に結合される。第三高調波生成器が、第二高調波生成器に結合され、UV出力ビームを生成する。出力ビーム方向付け装置は、その出力ビームを物品のポリマー表面に向ける。少なくともポリマー材料の一部が、その出力ビームによりマイクロマシニングされる。
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半導体ウエハ検査システムやフォトマスク検査システムなどの検査システムに使用するレーザ照射器を提供する。照射器の利得媒体は光ファイバを備え、増幅と、ビームスプリッティングと、周波数および／または帯域幅の変換と、ピーク出力低下と、Ｑスイッチまたはモード同期となどを用いることができる。ドープファイバ、格子、飽和性吸収体、レーザダイオードを含む構成を開示して、照射を向上させる。
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本発明は、最初に、フォトレジストの電子バンドギャップより大きいエネルギーで露光されると相変化を示す無機フォトレジストを提供するフォトニック結晶の製造方法に関する。このフォトレジストを、エネルギーがフォトレジストの電子バンドギャップ未満であるが焦点における強度がそこで非線形作用を生ずる大きさのレーザービームで露光させることにより、このフォトレジスト内で相変化が生ずる。次いで、この露光されたフォトレジストを、好ましくはこのフォトレジストの１相を溶解させるエッチング溶液に曝し、最後にこれから現像されたフォトレジストをフォトニック結晶の形で取り出す。本発明にかかる方法により製造された無機フォトニック結晶は、完全光学装置、回路及び光学通信又はコンピュータシステムに好適である。
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【課題】 レーザ装置において、光学系の精密な角度調整を容易にして光学系の部品を短時間に交換することができる調整方法を提供する。
【解決手段】 この調整方法は、レーザ発振用ミラーの替わりに複数のピンホール板をレーザ装置に取り付けて可視光源及びレーザ装置において光軸を合わせるステップと、レーザ発振用ミラーを保持するミラーホルダの保持角度を調整用の平行基板ミラーを保持するミラーホルダの保持角度に合わせて調整するステップと、レーザ発振用ミラーを取り付けるためのベースプレートに平行基板ミラーを保持するミラーホルダを取り付けて第１のピンホールからレーザチャンバに可視光を入射させて反射される可視光を観測することにより、ベースプレートのあおり角を調整するステップと、ベースプレートにレーザ発振用ミラーを保持するミラーホルダを取り付けるステップとを具備する。 （もっと読む）

【課題】
中心波長の制御に影響を与えることなくスペクトル純度幅（スペクトル指標値）の安定化制御を行えるようにして、見かけ上のスペクトル純度幅の制御を行うことで発生する上記諸問題点を解消する。
【解決手段】
増幅用レーザ装置３００から出力されるレーザ光のスペクトル純度幅E95をスペクトル純度幅計測手段で計測し、計測されたスペクトル純度幅E95が、目標スペクトル純度幅E950の許容幅E950±ｄE95内に収まるように、発振用レーザ装置１００で放電を開始してから増幅用レーザ装置３００で放電を開始するまでの放電タイミングを制御することで、スペクトル純度幅E95を安定化制御する。
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