【課題】 角膜を切開するのに十分なエネルギーを示し、１５６５ｎｍないし１６２５ｎｍの波長範囲で動作するエルビウム添加ファイバに基づくサブピコ秒レーザを提供すること。
【解決手段】 本発明は高エネルギーサブピコ秒パルスを増幅するチャープパルス増幅ファイバレーザ（１０）に関し、レーザは発振器（１）と、ファイバ伸張器（３）と、エルビウム添加又はエルビウム−イッテルビウム共添加光ファイバ部（４、７）、及び出力増幅器光ファイバ（７）に結合することにより光学的ポンピングを行うのに適したポンプ（８）を備える一つ以上の前置増幅段並びに一つの出力増幅段と、圧縮器（９）とを備える。本発明によれば、出力段のポンプ（８）は１５３０ｎｍないし１５６５ｎｍの範囲にある少なくとも一つのポンプ波長λ_Ｐを発生させ、レーザパルス（２０）の放射波長は１５６５ｎｍないし１６２５ｎｍの範囲にあり、レーザパルス（２０）のエネルギーは１０ｎＪないし数１０μＪの範囲にある。本発明はまたそのようなレーザを含む眼科手術用用具を提供する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構造を保ちつつ、戻り光を低減可能なファイバレーザ装置、レーザ加工装置、及びレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】励起光を放出可能な励起光源と、希土類元素が添加されたコアを有し、前記希土類元素が前記励起光を吸収して入射レーザ光を増幅可能なアクティブファイバと、前記アクティブファイバの一方の端部と接続され、前記励起光を前記アクティブファイバへ入射可能なコンバイナと、前記アクティブファイバの他方の端部からの出射レーザ光を伝送し且つ被照射体に向けて照射可能な伝送用ファイバと、前記他方の端部と前記伝送用ファイバとの間に設けられ、前記被照射体からの散乱光及または反射光の少なくともいずれかの一部を分岐して外部に放出することにより前記他方の端部へ向かう戻り光を低減可能なディバイダと、を備えたことを特徴とするファイバレーザ装置、レーザ加工装置、及びレーザ加工方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】２ステージレーザ装置のレーザ出力のばらつきを少なくし、より高いレーザ出力安定性、より高いレーザ出力を得る。
【解決手段】発振段レーザ装置１００で放電励起されるレーザビームの断面プロファイルおよび増幅段レーザ装置２００で放電励起されるレーザビームの断面プロファイルをビームプロファイラ４０１で計測する。計測結果に基づいて、発振段レーザ装置１００で放電励起されるレーザビームの断面と増幅段レーザ装置２００で放電励起されるレーザビームの断面のずれがなくなるように、発振段レーザ装置１００で放電励起されるレーザビームの断面を光軸周りに回転させる調整を調整手段３００（平凸シリンドリカルレンズおよび平凸シリンドリカルレンズの回転機構）によって行う。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、高い熱負荷状態において、可飽和吸収体を安定して連続的に使用することができる。
【解決手段】可飽和吸収体（ＳＡ）装置３３は、自励発振光や寄生発振光あるいは戻り光のような微弱な光を吸収するために、レーザビームライン中に設けられる。ＳＡガスボンベ３３４（１）からのＳＡガスとバッファガスボンベ３３４（２）からのバッファガスとは混合されて、混合ガスとなる。混合ガスは、供給管路３３３（１）を介して、ＳＡガスセル３３０に供給され、レーザ光Ｌ１に含まれる微弱光を吸収する。混合ガスは、排出管路３３３（２）を介して排出され、熱交換器３３２に送られる。熱交換器３３２で冷却された混合ガスは、循環ポンプ３３１（１）により、再びＳＡガスセル３３０に送られる。 （もっと読む）

レーザ制御システムは、発振器ガスチャンバ及び増幅器ガスチャンバを収容する。第１の電圧入力は、発振器ガスチャンバ内の電極の第１の対及び増幅器ガスチャンバ内の電極の第２の対に電気パルスを送出するように作動的に接続される。ガスチャンバの出力は、台形ウィンドウにより計算されたエネルギ線量である。制御回路は、第１の電圧入力を変更するために第１の電圧入力に接続される。フィードバック制御ループは、第１の電圧入力を変更するために制御回路にガスチャンバの出力を通信する。 （もっと読む）

【課題】共振器内に複数対の電極を配置して、放電の周期をずらして交互に発振させるツインチャンバ方式の電源装置において、スイッチング素子のターンオン時間の変化により発振段レーザと増幅段レーザ間の同期ずれが生ずるのを防止すること。
【解決手段】発振段レーザ用の高電圧パルス発生器１２に２個のスイッチＳＷ１−１，ＳＷ１−２を設けて並列に接続し、スイッチＳＷ１−１と増幅段レーザ用の高電圧パルス発生器３３のスイッチＳＷ２−１、および、スイッチＳＷ１−２と増幅段レーザ用の高電圧パルス発生器３４のスイッチＳＷ２−２とをそれぞれ同じタイミングで動作させ、これらを交互に動作させる。これにより、高電圧パルス発生器１２と高電圧パルス発生器３３，３４のスイッチング周波数を同じとし、スイッチング素子のターンオン時間の遅れの変化をキャンセルすることができる。 （もっと読む）

【課題】出力光の波長可変範囲を広げる。
【解決手段】基本波長光発生部は、レーザ装置１の出力光の波長を指令する出力波長指令信号に応じた基本波長の光を発生する。光増幅部２０は、前記基本波長の光を増幅する。波長変換部３０は、各々が波長変換を行う非線形光学結晶３１，３２，３４，３７，３９，４０とそれらをそれぞれ調整する温度調整器１１ａ，３１ａ，３２ａ，３４ａ，３７ａ，３９ａ，４０ａとを有し、光増幅部２０により増幅された光を、出力波長指令信号が示す波長の光に変換する。記憶部６０は、出力波長指令信号が示す波長とその波長に応じて設定すべき各非線形光学結晶の温度との対応関係を示す対応情報を記憶する。制御部は、各温度調整器を、当該温度調整器に対応する前記非線形光学結晶の温度が、出力波長指令信号に応じて前記対応情報により定まる設定すべき温度となるように、制御する。 （もっと読む）

本発明は、単色Ｘ線を生成するための高速ピコ秒パルス化レーザと共に使用し得る、ファブリーペロ型の増幅光共振器に関する。本発明は、平均出力Ｐ_ＭＯＹで高い安定性を有する強力集束されるポンプ化レーザビームを得るために使用し得るファブリーペロ型の増幅光共振器に関する。本発明は、より具体的には、高速ピコ秒ポンプ化レーザビーム（１２）と同期電子ビームとの間のＣＯＭＰＴＯＮ反応によって単色Ｘ線を生成するためのファブリーペロ型の増幅光共振器（４０）に関し、共振器は真空下に配置し得る閉塞囲壁（４２）を含み、閉塞囲壁を通じて電子ビーム管（４６）が延び、囲壁（４２）は、レーザビーム入力手段と、２つの平面光反射器（Ｍ１，Ｍ２）を維持し且つ位置決めするための手段と、相互作用地点で電子ビームと集束し得る２つの球面光反射器（Ｍ３，Ｍ４）を維持し且つ位置決めするための手段とを含む。光反射器（Ｍ１乃至Ｍ４）を維持し且つ位置決めするための手段は、光反射器（Ｍ１乃至Ｍ４）が四面体の頂点を実質的に定めるよう配置される。

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【課題】パルスレーザを放射するスラブ型炭酸ガス（ＣＯ_２）レーザ装置について、より効率の高い、設置面積を縮小できるレーザ装置を提供する。
【解決手段】スラブ型ガスレーザ媒体部３０の一部を挟んで対向する１対の共振器ミラー１１，１２とカップリング装置で構成され、内部で発振したレーザ光を所定の光強度まで増幅した後にカップリング装置を駆動してレーザ光を増幅器部２０に入射させる発振器部１０と、入射したレーザ光を偏向する入射ミラー２１と、スラブ型ガスレーザ媒体部３０の一部を挟んで対向する折返しミラー２２，２３の間をレーザ光が複数回往復するように構成され、レーザ光を所定の出力をもつレーザ光まで増強して出力する増幅器部２０を備える。 （もっと読む）

【課題】増幅器ファイバの分散勾配の整合、および非線形性の複雑なバランスの調整を容易にするファイバ伸張器、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ファイバ伸張器はコア領域、内側の溝領域、環状領域、外側の溝領域、および外側のクラッド領域を含む。コア領域は屈折率ｎ_１、屈折率がｎ_０である外側のクラッド領域について正の有効屈折率差Δｎ_１を有し、内側の溝領域はコア領域を取り囲み、屈折率ｎ_２、負の有効屈折率差Δｎ_２を有する。環状領域は溝領域を取り囲み、ｎ_３、正の有効屈折率差Δｎ_３を有し、外側の溝領域は環状領域を取り囲み、屈折率ｎ_４、負の有効屈折率差Δｎ_４を有する。外側のクラッド領域は外側の溝領域を取り囲む。各部位の外側半径、Δｎ_１、Δｎ_２、Δｎ_３、Δｎ_４の値がファイバに負の分散を持たせ、かつ選択された動作波長帯の中の特定の波長において０．００５ｎｍ^−１よりも大きい相対分散勾配を持たせる。さらに伸張器は、第二のファイバと組み合わせて使用されてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＭＯＰＯ方式の高安定性、高出力効率、細い線幅である利点を活かしつつ、空間コヒーレンスを低くした半導体露光用２ステージレーザ装置を提供する。
【解決手段】発振段レーザ５０と、発振段レーザで発振されたレーザ光を入力してそのレーザ光を増幅して出力する増幅段レーザ６０とからなり、前記発振段レーザ、増幅段レーザ共にレーザガスが充填されたチャンバーを備えている露光用２ステージレーザ装置において、発振段レーザ５０として発振レーザ光に発散を有するものが用いられ、前記増幅段レーザ６０は入力側ミラー１と出力側ミラー２とからなるファブリペローエタロン型共振器を備え、該共振器を安定共振器とした構成とする。 （もっと読む）

【課題】従来のピコ秒マスターレーザーとＮｄドープバナデート結晶からなる光増幅器とを組み合わせた光増幅システムでは、５ｐｓ以下の短いパルス幅を保存したまま増幅して十分に高いレーザー出力を得ることができないという問題があった。
【解決手段】Ｇｄ及びＹを有するＮｄイオンドープバナデート混晶を用いたレーザー増幅器の構成を有する。また、このレーザー増幅器とレーザーとを用いた光増幅システムの構成を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＭＯＰＯ方式の高安定性、高出力効率、細い線幅である利点を活かしつつ、空間コヒーレンスを低くした半導体露光装置用に適した２ステージレーザ装置を提供する。
【解決手段】発振段レーザ５０と増幅段レーザ６０とからなる露光用２ステージレーザ装置であって、発振段レーザ５０として発振レーザ光に発散を有するものが用いられ、増幅段レーザ６０は入力側ミラー１と出力側ミラー２とからなるファブリペローエタロン型共振器を備え、その共振器は安定共振器を構成している。 （もっと読む）

異方性結晶、例えば、Ｎｄ：ＹＶＯ_４、Ｎｄ：ＹＬＦ及びＮｄ：ＧｄＶＯ_４が多くのレーザ用途のための好適な利得物質になっている。異方性利得媒質では、補助的な補償なしでも、レーザモードが利得媒質を通過する際に劣化することはない。異方性利得媒質を組み込んだ光パワー増幅器は、複数のパスによるパワースケーリングを達成できると共に、各パスの間、レーザと励起光との間の良好なモード整合を維持することもできる。好ましい実施の形態では、シードレーザビーム（１００）が異方性利得媒質（１０２）を複数回通過し、各通過の間、ビーム変位角を実質的にゼロにすることができる。マルチパスシステムは、マイクロマシニング、ビア穴あけ及び高調波変換用途の要求を満たす高パワーＴＥＭ_００を実現する経済的で信頼できる方法を提供する。 （もっと読む）

レーザで被加工物を加工することは、第１のパルス繰り返し周波数でレーザパルスを発生させることを含む。前記第１のパルス繰り返し周波数は、前記加工物に対してビーム送達座標を位置合わせするために、ビーム位置決めシステムと１つ又は複数の協働するビーム位置補償要素とを調整するための基準タイミングを提供する。本方法はまた、前記第１のパルス繰り返し周波数より低い第２のパルス繰り返し周波数で、選択的に前記レーザパルスのサブセットを増幅することを含む。前記サブセットに含まれるレーザパルスの選択は、前記第１のパルス繰り返し周波数と前記ビーム位置決めシステムから受け取る位置データとに基づく。本方法は、前記加工物上の選択されたターゲットに前記増幅されたレーザパルスを向けるように、前記１つ又は複数の協働するビーム位置補償要素を使用して、前記ビーム送達座標を調整することを更に含む。 （もっと読む）

超音波検査のための小型の高平均出力中赤外範囲レーザーである。このレーザーは、８０８ｎｍでダイオードによって励起され、１μｍの出力ビームを形成するＮｄ：ＹＡＧレーザーまたはＹｂ：ＹＡＧレーザーの一方を備える。１μｍの出力ビームは、光パラメトリック発振器に配向され、この発振器でビームの波長が１．９４μｍに変換され、中赤外放射ヘッドに送られる。放射ヘッドは、第２の光パラメトリック発振器に光学的に結合されたＨｏ：ＹＡＧレーザーまたはＨｏ：ＹＬＧレーザーの一方を備える。第２の光パラメトリック発振器は、ターゲット上に超音波変位を生じさせるための生成出力ビームを形成する。生成出力ビームの波長は、約３μｍ〜約４μｍの範囲であり、３．２μｍとすることができる。 （もっと読む）

【課題】環境が変化しても超短パルスレーザを発生させることのできるレーザ発生装置を提供する。
【解決手段】偏光ビームスプリッター１２ａは、シードレーザ発振器１１からの低エネルギーのフェムト秒パルスレーザ光を、非偏波保持光ファイバ１２ｂに入射させる。レーザ光は、ファラデーローテータミラー１２ｃにて非偏波保持光ファイバ１２ｂを介して偏光ビームスプリッター１２ａに戻る。このとき、非偏波保持光ファイバ１２ｂにより、入射時の偏光状態が光ファイバ１２ｂの伝搬とともにランダムに変化する。偏光ビームスプリッター１２ａは、非偏波保持光ファイバ１２ｂに入射した時のレーザ光の偏光状態に対して９０度回転した偏光状態のレーザ光を反射させる。反射したレーザ光は、再生増幅器１３にて増幅された後に、レーザパルス圧縮器１４にてパルス幅が圧縮されて高ピークのフェムト秒パルスレーザ光となる。 （もっと読む）

２つのパルスレーザ（１４)またはレーザのセットは、直交関係にある偏光状態を有するパルス（２０）のビームを伝播させる。ビームコンバイナー（２４）は直交するビームを結合して、共通のビーム経路（１６）に沿って伝播し光変調器（３０）と交差する結合ビームを形成する。その光変調器は、どちらか一方のビームの選択されたパルスの偏光状態を選択的に変更し、直交するビームから同様に偏光されたパルスを含む合成ビーム（１８）を提供する。合成偏光ビームは、いずれのレーザによって提供されるものよりも大きい合成平均パワーと合成繰り返し率を有する。光変調器は、選択的に、いずれか一方のレーザからのパルスの偏光状態を制御して、下流側の偏光子（３２）を通過させる又は阻止させることができる。さらなる変調器は、パルスのパルス整形を容易にしてよい。システムは、単一レーザまたはレーザ対とビームコンバイナー及び変調器とのセットの追加によって拡張することができる。 （もっと読む）

【課題】 フェムト秒台の高出力光パルスを発生させる手段を提供すること。
【解決手段】 本発明の高出力光パルスの発生装置は、信号光を生成するファイバー発振器１０と、非線形位相遅れをもち信号光を受光して増幅するとともに圧縮するソリトン・ラマン圧縮器（ＳＲＣ）を兼ねた増幅ファイバー１１と、増幅された光パルスを周波数変換して高出力光パルスとする周波数変換器であるＰＰＬＮ（周期性ポーリングＬｉＮｂＯ₃）２０とを有する。分散補償ファイバー１８により分散が補償される。また、ファラデー回転鏡（ＦＲＭ）１９により光パルスが反射されてダブルパス形態を取っている。ポンプ１６から注入されるポンプ光からのエネルギーを得て、信号光は増幅されるとともに圧縮され、ＰＰＬＮ周波数変換器２０により周波数変換された波長で、フェムト秒台の高出力光パルスが得られる。 （もっと読む）

【課題】より高出力なカスケードラマンレーザを提供すること。
【解決手段】励起光を発生する励起レーザ光源と、前記励起光を受け付け、前記励起光に対するラマン散乱の第ｎストークス光（ｎは１以上の整数）に対応する各波長の光を選択的に反射する入力側光反射器と、前記入力側光反射器に接続し、少なくとも前記励起光によってラマン散乱光を発生させるラマンファイバと、前記ラマンファイバに接続し、前記第ｎストークス光に対応する各波長の光を選択的に反射する出力側光反射器とを有するカスケードラマン共振器と、前記励起レーザ光源と前記カスケードラマン共振器との間に介挿され、前記カスケードラマン共振器内で発生する前記第１ストークス光が前記励起レーザ光源側に入力することを阻止する阻止デバイスと、を備える。 （もっと読む）