空間フィルタは、第１のフィルタ素子及び第１のフィルタ素子とオーバラップする第２のフィルタ素子を含む。第１のフィルタ素子は、第１の距離だけ離れた第１の対の円柱レンズを含む。第１の対の円柱レンズのそれぞれが第１の焦点距離を有する。第１のフィルタ素子は、第１の対の円柱レンズの間に配置された第１のスリットフィルタも含む。第２のフィルタ素子は、第２の距離だけ離れた第２の対の円柱レンズを含む。第２の対の円柱レンズのそれぞれが第２の焦点距離を有する。第２のフィルタ素子は、第２の対の円柱レンズの間に配置された第２のスリットフィルタも含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射放出プラズマの変換効率を高めることができる放射システムおよびリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】放射システムは、軌跡に沿ってターゲット材料の小滴を供給するターゲット材料源と、増幅器および光学系を含むレーザシステムとを含む。光学系は、増幅器を通過および軌跡上の第１地点を通過する第１ビームパスを確立し、かつ増幅器を通過および軌跡上の第２地点を通過する第２ビームパスを確立する。レーザシステムは、増幅器から放出された光子が軌跡上の第１地点におけるターゲット材料の小滴によって第１ビームパスに沿って反射された場合にレーザ放射の第１パルスを生成する。レーザシステムは、増幅器から放出された光子が軌跡上の第２地点におけるターゲット材料の小滴によって第２ビームパスに沿って反射された場合にレーザ放射の第２パルスを生成する。 （もっと読む）

【課題】高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。
【解決手段】このドライバレーザシステムは、ＭＯＰＡ（master oscillator power amplifier）方式に従って構成されたレーザシステム３であって、単一のレーザ発振器３０１においてレーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数の放電励起式ガスレーザ増幅系３０４（１）及び３０４（２）並びに３０５（１）及び３０５（２）において該レーザ光を増幅するレーザシステム３と、複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するようにレーザシステム３の動作タイミングを制御するレーザシステム制御装置４とを含む。 （もっと読む）

光増幅システムおよび技術では、励起光源は、励起パワーを光源波長で提供する。励起パワーは、カスケード型ラマン共振器への入力として送り出される。波長依存損失要素は、それがカスケード型ラマン共振器に先行するように接続される。波長依存損失要素は、光源波長での光パワーを低損失で伝送し、第１のストークス・シフトで高損失を提供するように構成される。波長依存損失要素は、励起光源とカスケード型ラマン共振器との間での光パワーの蓄積を防止し、それによって励起光源に戻る光パワーの後方伝播を防止する。
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【課題】パルス光の出力を一時停止して再開した場合の光サージの発生が抑制されたレーザ光源を提供することを目的とする。
【解決手段】レーザ光源１は、第１の波長の光をパルス光として出力する第１光源１７と、第１の波長とは異なる第２の波長の光を出力する第２光源２１と、第１光源１７から出力されるパルス光と第２光源２１から出力される光とを入力し、第１光源１７から出力されるパルス光及び第２光源２１から出力される光を増幅して出力する光増幅器である光増幅性ファイバ１２と、第１光源１７からの光の出力に応じて前記第２の光源からの光の出力を制御する制御部２２と、を備え、第１光源１７は、パルス光の一定周期での繰り返し出力が開始・継続するＯＮ状態と、パルス光の出力が一定周期以上の間停止するＯＦＦ状態と、を有し、制御部２２は、第１光源１７がＯＦＦ状態である場合に、第２光源から光を出力させることにより、光増幅性ファイバ１２に添加された希土類系元素の反転分布の上昇を抑制する。 （もっと読む）

【課題】信頼性が高い光ファイバレーザを提供すること。
【解決手段】増幅物質が添加された増幅光ファイバを含む光ファイバ共振器に接続し、外周に形成された被覆部を有し、光出力端部において前記被覆部が除去された出力光ファイバと、前記出力光ファイバの前記光出力端部近傍における前記被覆部の端部の外周に形成された熱伝導性保護材と、を備える。好ましくは、前記被覆部の端部を載置する熱伝導性基材をさらに備える。好ましくは、前記出力光ファイバの前記光出力端部に接続した接続光ファイバをさらに備え、前記熱伝導性保護材は、前記接続光ファイバとの接続点の外周まで延伸して形成されている。 （もっと読む）

【課題】簡明な構成で、出力光のスペクトル幅を調整可能なレーザ装置、光源装置これらの調整方法を提供する。
【解決手段】光源装置１は、レーザ装置１０と波長変換部３０とを備えて構成される。レーザ装置１０は、単一波長のパルス光を発生するレーザ光発生部１１と、レーザ光発生部１１により発生されたパルス光Ｌsを増幅する光増幅部１２と、光増幅部１２により増幅されたパルス光Ｌaの一部を時間的に切り出して短パルス光Ｌp出射するパルス光変調部１５と、パルス光変調部１５による切り出しタイミングを調整する遅延調整器８７およびトリガパルス遅延部８４からなるタイミング調整部と、を備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】ファイバレーザおよび非線形光学素子によって、所望の波長および所望のパワーを有するレーザ光を発生させることを可能にする技術を提供する。
【解決手段】レーザ光源１０１は、シードＬＤ２と、光増幅ファイバ１，１１と、励起ＬＤ３，９Ａ〜９Ｄと、波長変換素子を含む波長変換部１４とを備える。シードＬＤ２は、パルスレーザ光を発する。光増幅ファイバ１，１１は、パルスレーザ光と励起光とが入射されることによりパルスレーザ光を増幅可能に構成される。励起ＬＤ３（９Ａ〜９Ｄ）は、励起光を発する。波長変換部１４は、光増幅ファイバ１，１１によって増幅されたパルスレーザ光としての増幅光を受けることによって、増幅光とは波長が異なる波長変換光を発生させる。 （もっと読む）

極端紫外光を生成する方法は、標的材料を標的位置に生成し、増幅帯域を有する少なくとも１つの光増幅器の利得媒質にポンピングエネルギーを供給して増幅光ビームを生成し、光学部品の組のうちの１つ又はそれ以上の光学部品を用いて増幅光ビームを利得媒質を通して伝搬させ、光学部品の組のうちの１つ又はそれ以上の光学部品を用いて増幅光ビームを標的位置に送出し、ガイドレーザを用いて利得媒質の増幅帯域外且つ光学部品の波長範囲内の波長を有するガイドレーザ・ビームを生成し、ガイドレーザ・ビームを光学部品の組を通して方向付け、それにより光学部品の組のうちの１つ又はそれ以上の光学部品を光軸調整するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】広いダイナミックレンジで、高速かつ高精度なレーザエネルギー制御を行う。
【解決手段】シングルまたはマルチ縦モードレーザ光を出力する再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡと、再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡの増幅ラインの範囲において、シングルまたはマルチ縦モードレーザ光が発振可能で該シングルまたはマルチ縦モードレーザ光を再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡに入力する半導体レーザ４であるマスタオシレータと、半導体レーザ４から出射されるシングルまたはマルチ縦モードレーザ光の波長が再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡの増幅ラインに一致するようにマスタオシレータを波長制御するとともに、シングルまたはマルチ縦モードレーザ光のパルス波形および／またはパルス出力タイミングを調整する波形制御を行う半導体レーザシステム８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光ファイバ増幅器を形成する方法を提供すること。
【解決手段】光ファイバ増幅器を形成する方法であって、該方法は、利得材料コアを有する複合プレフォームを提供することであって、該利得材料コアは、該利得材料コアに沿って長手方向に変化する音速のプロファイルを提供するために、１以上の音速変化ドーパントを含み、誘導ブリュアン散乱（ＳＢＳ）閾値を上昇させることによって、ＳＢＳ効果を抑制する、ことと、該光ファイバ増幅器を形成するために、該複合プレフォームを延伸することとを包含する、方法。 （もっと読む）

レーザは、電極及びレーザビームを生成するための電極間の利得媒体を有する放電チャンバと、部分反射性光カプラと、レーザビームの経路内のビーム修正光学システムとを含む再生リング共振器を含む。ビーム修正光学システムは、近視野レーザビームプロフィールがレーザ内の各開口を均一に満たすように、かつ再生リング共振器の内側の光学要素に熱レンズを誘起する電力でレーザを作動させる時に再生リング共振器が条件つき安定か又は僅かに不安定なままに留まるようにレーザビームのプロフィールを横断方向に拡張する。 （もっと読む）

【課題】省エネルギー化を促進するとともに、装置の小型化を促進することができるガスレーザ装置用温度調節装置を提供すること。
【解決手段】精度の高い温度調節を必要とする放電部１１ａ〜１４ａと放電部１１ａ〜１４ａに比して低い精度の温度調節を必要とし放電部１１ａ〜１４ａに比して高い温度の温度調節を許容する電源部１１ｂ〜１４ｂとを有した複数のレーザ装置を温度調節するガスレーザ装置用温度調節装置であって、各放電部１１ａ〜１４ａを温度調節する冷却水を生成するチラー３２と、各電源部１１ｂ〜１４ｂを温度調節する冷却水を生成するチラー３１と、チラー３２と各放電部１１ａ〜１４ａとを並列接続する配管Ｌ２と、チラー３１と各電源部１１ｂ〜１４ｂとを並列接続する配管Ｌ１と、を備える。 （もっと読む）

ターゲット構造のマイクロマシニングのために、一連のレーザパルスバンドル又はバーストを使用する。各バーストは、時間的パルス幅が約１ナノ秒未満である短レーザパルスを含む。レーザマイクロマシニング方法は、レーザパルスのバーストを生成するステップと、ターゲット箇所を加工するためにレーザパルスのバーストのエンベロープを調整するステップとを有する。この方法は、ターゲット箇所における第１の特徴形状の加工特性に基づいて、バースト内の１つ以上の第１のレーザパルスを第１の振幅に選択的に調整すること、及びターゲット箇所における第２の特徴形状の加工特性に基づいて、バースト内の１つ以上の第２のレーザパルスを第２の振幅に選択的に調整することによって、バーストのエンベロープを調整するステップを含む。この方法は、更に、レーザパルスの振幅が調整されたバーストをターゲット箇所に方向付けるステップを有する。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、熱によって変化する、レーザ光の波面を適切に補正する。
【解決手段】レーザ発振器２０から出力されるレーザ光を増幅させるための増幅システム３０内に、少なくとも一つ以上の波面補正器３４と、センサ３６とを設ける。センサ３６は、レーザ光の角度（方向）や波面の曲率の変化を検出して出力する。波面補正コントローラ（WFC-C）５０は、センサ３６の計測結果に基づいて、波面補正器３４に信号を出力する。波面補正器３４は、波面補正コントローラ（WFC-C）５０からの指示に従って、レーザ光の波面を所定の波面に修正する。チャンバ１０内にレーザ光を供給する集光システム４０内にも、別の波面補正器及びセンサを設けることができる。 （もっと読む）

【課題】種光源から任意の繰り返し周波数および任意のパルス幅で出力されるパルス光の出射および出射停止を切換える構成において、出射開始時に、所望のピークパワーを有するパルス光を得ることが可能なレーザ光源装置、およびそのレーザ光源装置を備えるレーザ加工装置を提供する。
【解決手段】レーザ光源装置１１０は、光増幅媒体（光ファイバ１）を含む光増幅器と、種光源としての半導体レーザ２と、励起光源としての半導体レーザ３とを備える。半導体レーザ２は、予め設定された主照射期間にはパルス光を種光として出射し、予備照射期間には、パルス光のピークパワーよりも小さいパワーを有し、かつ実質的な連続光を種光として出射する。半導体レーザ３は、予備照射期間には、主照射期間に比較して励起光のパワーが小さくなるように励起光を発する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ペルチエ要素（１８）を具備し、主に、高い熱応力にさらされレーザビーム（２）、基本的にはレーザパルスを発生する光学クリスタルまたはレーザクリスタル（５）の冷却を意図した冷却装置（７）に関し、クリスタルの焼損を避けつつ効果的な冷却をおこなう。
【解決手段】冷却装置は、例えば、光学増幅器または発振器の冷却に使用される。クリスタル（５）はそれを冷却するペルチエ要素（１８）と共に、乾燥材を使用して真空排気され、および、または、乾燥状態にされた密封容器（８）内に配設される。クリスタルは、レーザビーム（２）を通過せしめる少なくとも１つのブリュースターの窓（３２、３３）を有し、その窓は光学軸に対してブリュースター角に対応する角度で取り付けられている。 （もっと読む）

本発明は、二ステージ輝度変換装置（１００）を提供する。第一の輝度変換ステージ（１０２）にレーザキャビティがあり、そのレーザキャビティには、活性イオンを添加した第一の光導波管があって、それが、光吸収を有する第一の光波長帯域と、光吸収及び光利得を有する第二の光波長帯域と、光利得を有する第三の光波長帯域との範囲を限定している。第一のレーザキャビティを励起する励起パワー（Ａ）の波長は第一の光波長帯域にあり、それにより、第二の光波長帯域で中間光信号（Ｂ）を発生する。第一の輝度変換ステージとカスケード接続される第二の輝度変換ステージ（１０４）に、前記活性イオンを添加した第二の光導波管がある。第二の輝度変換ステージを、中間光信号（Ｂ）で励起することにより、第三の光波長帯域で高輝度光信号（Ｃ）が得られる。 （もっと読む）

レーザ処理システムは、選択的に整形されたバースト包絡線を有する超高速レーザパルスのバーストを供給する。バーストパルスレーザは、列中の各パルスが独立して制御された振幅を有するパルスの列を送り出すために高い繰返し率の超高速レーザを含む。群の中の各超高速パルスのそれぞれの振幅は「バースト包絡線」を規定する。バースト包絡線内の各超高速パルスの振幅を独立して制御することに加えて、このシステムは、各超高速パルス間の間隔、及び/又はバースト包絡線の全時間幅の選択的制御を行うこともできる。したがって、このシステムは、特定のレーザ処理用途のためにバースト包絡線の選択的整形を行う。 （もっと読む）

【課題】 高いパルス伸長率と圧縮率を有する生産性の良いファイバチャープパルス増幅器システムを提供することにある。
【解決手段】 短光パルスを発生する種パルス光源、パルスを伸長する伸長器、及び複数の鎖状につながった偏光を保持しているファイバ区分とからなり、その偏光保持ファイバの少なくとも１つは増幅器であるチャープパルス増幅システムにより、課題が達成される。 （もっと読む）