【課題】単列構成で、パルスレーザ光の１パルス当り又は単位時間当りのエネルギーを抑えながら大きな出力を達成できる極端紫外光源用ドライバレーザを提供する。
【解決手段】このドライバレーザは、レーザ光をターゲットに照射することによりターゲットをプラズマ化して極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置において用いられるドライバレーザであって、レーザ媒質としてＣＯ_２を用いて、時間と共に強度が増加するパルスレーザ光を生成する発振段レーザ装置と、発振段レーザ装置から出力されるパルスレーザ光を、時間と共に減少する増幅率で増幅することにより、レーザ光のパルス幅を伸長する少なくとも１つの増幅器を含む増幅段装置とを具備する。 （もっと読む）

【課題】繰り返し周波数が可変の複数の超短光パルスを備えるパルスレーザビームを生じさせるレーザ光源を提供する。
【解決手段】このレーザ光源は、光パルスを出力するファイバ発振器と、光パルスを受け取るために配置されるパルスストレッチャとを備える。光パルスは光パルス幅を有する。パルスストレッチャは、光パルス幅を拡大し、引き伸ばされた光パルスを生じさせる分散を有する。レーザ光源は、引き伸ばされた光パルスを受け取るように配置されるファイバ増幅器を更に含む。ファイバ光増幅器は、引き伸ばされた光パルスを増幅するための利得を有する。レーザ光源は、光パルス幅を減少させる分散を有する自動的に調整可能なグレーティングコンプレッサを含む。グレーティングコンプレッサは、異なった繰り返し周波数についてこの分散を自動的に調整する。 （もっと読む）

【課題】低コスト化及び小型化を図りながら、レーザ光の波長及び光強度を安定化できるレーザ光源装置を提供する。
【解決手段】レーザ光源装置１は、電流が供給されることで励起光Ｌ１を出射する励起用光源１０と、励起用光源１０からの励起光Ｌ１を受けてレーザ光Ｌ２を生成する共振器２０と、レーザ光源装置１から出射されるレーザ光の光強度を可変とする光学素子８１を有する光強度変更装置８０と、当該レーザ光源装置１から出射されるレーザ光の光強度を検出する光強度検出装置７０と、励起用光源１０及び光学素子８１を制御する制御装置６０とを備える。制御装置６０は、光強度検出装置７０の検出結果に基づいて、励起用光源１０に供給する電流値を制御する光源制御手段と、光強度検出装置７０の検出結果に基づいて、光学素子８１を制御する素子制御手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】高いパルス伸長率と圧縮率を有する生産性の良いファイバチャープパルス増幅器システムを提供することにある。
【解決手段】コア領域と、コアを取り囲む材料クラッド領域と、材料クラッド領域を実質的に取り囲む空気クラッドと、空気クラッドを取り囲む層とを備える偏光保持空気クラッドファイバであって、ファイバの偏光保持動作は、空気クラッドファイバ中に応力誘起複屈折を生成し前記材料クラッド領域の完全に内部に配置され材料クラッド領域により完全に取り囲まれている応力形成領域を組み込むことにより達成される、偏光保持空気クラッドファイバを提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施形態は、スペクトル幅の拡張と増幅率の向上とを図ることができる光共振器を提供する。
【解決手段】実施形態に係る光共振器は、第１の反射面を有する第１の反射部と、前記第１の反射面に対向する第２の反射面を有する第２の反射部と、前記第１の反射部の前記第１の反射面とは反対側の面に入射させる光を複数の波長成分に分散させる分散部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能なレーザ装置および極端紫外光生成装置を提供する。
【解決手段】レーザ装置は、回折格子と、出力されるレーザ光が前記回折格子に入射し、かつ前記レーザ光それぞれの前記回折格子による異なる次数の回折光の少なくとも１つが所定の方向に進行するように配置される複数の半導体レーザと、を備えてもよい。 （もっと読む）

フェムト秒パルス・レーザを構築して動作させる設計態様および技術が提供される。レーザ・エンジンの一例は、フェムト秒の種パルスから成る光線を生成して出力する発振器と、種パルスの存続時間を伸張する伸張器／圧縮器と、伸張済み種パルスを受信し、選択された伸張済み種パルスの振幅を増幅して、増幅済みの伸張済みパルスを生成し、且つ、増幅された伸張済みパルスから成るレーザ光線を、該パルスの存続時間を圧縮してフェムト秒パルスから成るレーザ光線を出力する上記伸張器／圧縮器へと出力する増幅器と、を含んでいる。増幅器は、増幅済みの伸張済みパルスの分散を補償する分散制御器を含むことにより、各処置の間において又は走査の速度に従い上記レーザの繰り返し率を調節可能にする。レーザ・エンジンは、500メートル未満の合計の光路によりコンパクトとされ得ると共に、たとえば50個未満などの少ない個数の光学素子を有し得る。 （もっと読む）

周波数調整可能またはチャープレーザーデバイスが記述され、これは、複数の光学部品から形成されるレーザーキャビティを含む。光学部品は、光線を生成するためのレーザー光源（２０、１８０、２２２、２４０）、スペクトル調整要素（２８、４２、１８８、２３０、２４４、３００）、および、光線をスペクトル調整要素（２８、４２、１８８、２３０、２４４、３００）に向けるための１つ以上のさらなる光学部品（２２、２４、２６、３０、３２、６４、６０、１８４,１９４,１９５,１９８、２２０、２３２、２３４、２４２、２４６、２４８）を含む。複数の光学部品（３４、６４、１９５、２３２、２４２）の少なくとも一つは、第１の自由度（３４；R；２５０）で可動であり；その動き（２８、４２、１８８、２３０、２４４、３００）により、同時にレーザーキャビティの有効光路長およびスペクトル調整要素の調整周波数を変更する。デバイスの有効光路長、および、調整周波数は、前記少なくとも一つの可動の光学部品（３４、６４、１９５、２３２、２４２）の前記第１の自由度以外の自由度のどのような動きにも実質的に反応しない。このことは、モードホッピングが抑制される周波数調整を提供する。
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【課題】位相整合条件の調整が容易なテラヘルツ波発生装置を提供する。
【解決手段】テラヘルツ波発生装置２は、励起光源１０、透過型回折格子３２、可変結像光学系６１および非線形光学結晶７０を備える。透過型回折格子３２は、励起光源１０から出力されたパルス励起光を入力して、そのパルス励起光を回折して出力する。透過型回折格子３２は、パルス励起光の主光線の入射位置を通り格子に平行な直線を中心軸として方位が可変である。可変結像光学系６１は、透過型回折格子３２により回折されて出力されたパルス励起光を入力して、透過型回折格子３２におけるパルス励起光の像を結像するとともに、その結像の倍率が可変である。非線形光学結晶７０は、可変結像光学系６１によりパルス励起光が結像される位置に配置され、可変結像光学系６１を経たパルス励起光を入力してテラヘルツ波Ｔを発生させる。 （もっと読む）

波長調節可能な光源（１）の少なくとも１つの実施形態では、それは動作中に電磁放射線（Ｒ）を生成することができる出力源（２）を備える。さらに、光源（１）は、出力源（２）の下流に位置している波長選択的な第１のフィルタ要素（５）を有する。また、光源（１）は、第１のフィルタ要素（５）の下流に位置し、出力源（２）によって放出される放射線（Ｒ）を少なくとも部分的に増幅することができる第１の増幅媒体（３）を含有する。光源（１）は、第１の増幅媒体（３）の下流に位置している、少なくとも１つの波長選択的な第２のフィルタ要素（６）をさらに備え、第２のフィルタ要素（６）は、第１のフィルタ要素（５）に対する光学間隔（Ｌ）を有する。第１のフィルタ要素（５）および少なくとも１つの第２のフィルタ要素（６）は、光源（１）が有する制御ユニット（１１）を介して調節可能である。
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【課題】光源の長いコヒーレンス長を実現できる、ＴＥＦＤ‐ＯＣＴ画像化に用いる周波数掃引レーザ光源を提供する。
【解決手段】ＴＥＦＤ‐ＯＣＴ画像化に用いる周波数掃引レーザ光源は、レーザ光源を備える光学ベンチ上に一体型クロックサブシステムを含む。クロックサブシステムは、光信号が走査帯域にわたって同調されると、周波数クロック信号を生成する。レーザ光源はさらに、光キャビティ内の可変同調フィルタと利得媒質との間にキャビティ拡張器を含み、レーザ強度パターン雑音の位置を制御するために、可変同調フィルタと利得媒質の間の光学的距離を増加させる。レーザはまた、キャビティ長の制御を可能にする一方でキャビティ内の複屈折を制御する、ファイバスタブを含む。 （もっと読む）

【課題】加工用レーザ光線及び案内レーザ用光線のそれぞれのパターンを統一して加工用素材上に描画するできるレーザ加工装置及び方法の提供。
【解決手段】レーザ装置１の光学系４は、少なくとも１つの回折素子７、二色性ミラー８、９及び反射鏡１０、１１を含んで構成され、案内用レーザ光線３のパターン６′が加工用レーザ光線２のパターン６に適合される。すなわち、二色性ミラー８により、案内用レーザ光線３が加工用レーザ光線２から分離され、前記二色性ミラー８、９との間隔が可変の反射鏡１０、１１により案内用レーザ光線の断面が拡大され、二色性ミラー９により加工用レーザ光線２に結合されて加工用素材５、５′へと向かう。 （もっと読む）

【課題】マルチモードパルスレーザーの繰り返し周波数を高周波数化する。
【解決手段】パルスレーザー発生装置は、モードロック方式によってレーザーパルス光を生成するレーザー共振器と、レーザーパルス光に含まれるモード光を間引く櫛形フィルター手段と、を有する。櫛形フィルター手段は、レーザーパルス光の周波数成分（モード）を一定周波数間隔で間引くことで、パルス列の繰り返し周波数が高められる。櫛形フィルター手段は、分光したレーザーパルス光に対して光学スリットを適用する構成とできる。また、櫛形フィルター手段として、エタロンを採用することも好適である。 （もっと読む）

【課題】 パルス往復回数およびパルス繰り返し周波数の変化に伴う増幅出力レーザパルスの分散の変化が生じた場合でも位相分散を補償し、最適なパルス幅を得ることが可能なレーザパルス圧縮装置を提供する。
【解決手段】 レーザパルス光を反射させる第１回折格子と、第１回析格子で反射した入射回析光を受光する第２回折格子と、第２回析格子で反射した回析光を反復反射させて第２回析格子に入射させるプリズムと、第２回析格子に入射した反復反射光を第１回析格子を介して反復レーザパルス光として外部に出力するレーザパルス圧縮装置において、第１回析格子で反射した入射回析光の光軸に対して平行移動可能なスライド機構部と、スライド機構部に第２回析格子を固定した可動台と、これらを収納する筐体と、筐体外部から第１回析格子と第２回析格子との距離を可変する調整手段とを備えるようにした。 （もっと読む）

本発明は、単一角度操作により入出力光の位置が変更されなく、更に、いつも最上の効率を保持することができるようにした波長可変装置、及びその方法に関する。このために透過型回折板の最適な効率反射角をいつも保持する光経路が構成されるように、回折板と鏡を一体に構成し、このような一体型構成を回転させて、所望の波長を得ることにより、操作及び制御の、効率性と精度を高め、費用を減らすことができる効果がある。
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【解決手段】 本発明は、スペクトルビーム結合のシステムおよび方法を提供するものであり、複数の分散素子をそれぞれ使って空間チャープ（揺らぎ）を複数の入力ビームレットの各々に適用し、前記空間チャープを取り除くように構成された分散素子を使用して前記空間チャープ済みのビームレットを単一の平行（コリメート）出力ビームへと結合するシステムおよび方法である。ある実施形態においては、各分散素子はレンズと組み合わされた回折格子であり、前記レンズは、前記回折格子に焦点を共有し、且つ光線スペクトル成分の横方向分散が生成されるフーリエ面にも焦点を共有する。最後のレンズ−回折格子ペアはレンズと回折格子を含み、前記レンズは前記回折格子に焦点を共有し、且つ前記フーリエ面にも焦点を共有するものである。
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レーザ光源は、パルス動作用に適合される半導体レーザと、部分伝達型で波長選択性の光反射器とを具える。半導体レーザは前面ファセットと後面ファセットとを具える。前面ファセット及び後面ファセットは内部レーザキャビティを規定する。内部レーザキャビティはレーザ活性媒体を具える。部分伝達型で波長選択性の光反射器は前記レーザ活性媒体の利得帯域幅内にピーク反射率を有する。波長選択性の光反射器及び後面ファセットは外部レーザキャビティを規定する。外部レーザキャビティ中の光の往復時間は約２０ナノ秒又はそれ未満である。波長選択性の光反射器の全幅半値帯域幅は、少なくとも１２の内部レーザキャビティの縦モードと、少なくとも２５０の外部レーザキャビティの縦モードとを収容するように適合される。 （もっと読む）

【課題】狭帯域のスペクトルを持つ光源の波長を広い帯域で高速、且つ連続的に走査でき、しかも、必要とする光アイソレータの数を削減した波長走査型のレーザ光源を提供する。
【解決手段】広帯域光源１１と、上記広帯域光源１１から出射される広帯域光から所望の波長帯域の光を取り出す波長可変フィルタ部１２からなり、上記波長可変フィルタ部１２は、上記広帯域光源１１から出射される光の出射光光路中に設けられた互いに近接したＦＳＲを有する空間のファブリペロー共振器１３Ａ，１３Ｂに電気光学結晶を内在させてなる２台のファブリペロー電気光学変調器と、上記近接したＦＳＲを有する２台のファブリペロー共振器の共振器長を一定範囲で周期的に変化させる共振器長制御部１５とを備え、上記２台のファブリペロー電気光学変調器の内の少なくとも一方で上記共振器長制御部１５により与えられる周期的な走査信号により通過する光を光変調する。 （もっと読む）

【課題】光ファイバに励起されたエネルギーを効率よく取り出すことができるファイバ増幅器を提供する。
【解決手段】シード光を放射するシード光源と、コアに希土類元素が添加され、前記シード光を増幅する光ファイバと、前記希土類元素を励起する励起光源と、ファラデー回転子と、前記シード光源と前記ファラデー回転子との間に配置され、前記シード光を通す第１の偏光子と、前記ファラデー回転子と前記光ファイバの一方の端部との間に設けられた第２の偏光子と、を含む光アイソレータと、前記光ファイバの他方の端部からの増幅光を反射し、前記他方の端部に入射させる反射ミラーと、前記一方の端部と前記シード光源との間に配置され、前記一方の端部からの増幅光を反射させて出力する偏光ビームスプリッタと、を備えたことを特徴としたファイバ増幅器が提供される。 （もっと読む）

システム及び方法は、レーザ照射を用いて、半導体基板上又は半導体基板内の構造を加工する。一実施の形態においては、偏向器は、加工窓内でレーザパルスを選択的に偏向するように構成されている。加工窓は、半導体基板を走査し、複数の横方向に離間した構造の行が加工窓を同時に通過するようにする。加工窓を走査させながら、偏向器は、加工窓内で、複数の横方向に離間した行の間で、一連のレーザパルスを選択的に偏向する。このようにして、複数の構造の行を単一の走査で加工できる。 （もっと読む）