【課題】
２ステージレーザの使用にあたり、直線偏光であって所望の偏光方位のレーザ光を得る。
【解決手段】
ＡＭＰ内の光軸上又はＡＭＰの後の光軸上に、光軸を中心にして回転自在の偏光子を備える。偏光子は、レーザ光を互いに直交する二つの直線偏波成分すなわちＰ偏光成分とＳ偏光成分に分離して出射する。露光装置側で所望の方位の光が必要とされる場合は、所望の方位と偏光子のＰ偏光成分の方位が一致するように偏光子を回転させる。
（もっと読む）

投影露光系のビーム伝送系は、キャビティ内の複数の縦レーザモードからレーザ光ビームを生成するレーザを含む。１つの縦レーザモードによって生成される光は平均線幅λ_latを有し、ビームのレーザ光は、ビームの各横位置において、横レーザモードに対応する第２の線幅λ_latを有し、ビームのレーザ光は、その断面全体にわたって平均化した場合、複数の横レーザモードに対応する線幅λ_bを有し、λ_m＜λ_lat＜λ_bである。ビーム上に配置される光遅延装置は、光路差ΔＩを与える。但し、λ₀は第１のレーザ光ビームの光の平均波長であり、λ_latは第２の線幅を表している。
（もっと読む）

アクティブレーザエネルギ供給システムは、リレーイメージングシステムを備える。レーザエネルギを受け取るよう配置された入力光学装置、入力光学装置に対する入射角が調節可能な伝送ミラー、光学組立品を含むロボット搭載加工ヘッドが、レーザエネルギを移動可能なターゲット像平面に向けるように構成されている。レーザエネルギは、伝送ミラーから受光ミラーまでの、長さ及び入力光学装置に対する角度が変更可能な基本的に一直線の区間を含む光学経路をたどる。加工ヘッドに搭載された診断用装置によって処理が容易となる。
（もっと読む）

【課題】分光された２つのレーザ光のそれぞれが直線偏光であっても、直線偏光では加工孔が楕円になりやすい被加工物に対して、真円状の加工孔を形成することができるレーザ加工機を得ること。
【解決手段】レーザ発振器１から出射されたレーザ光２をガルバノスキャナ１２にて走査して被加工物１３に照射し、該被加工物の所定位置に孔あけ加工を行うレーザ加工機１００において、前記レーザ発振器から出射され前記ガルバノスキャナのミラー１２ａに入射するレーザ光を、該ミラーの入射面に対し略４５°の偏光方位角をもつ直線偏光レーザ光７ａ、８ａに変換する直線偏光光学系１６と、１つのミラー１２ａが１／４波長位相差板の機能を有し、入射された直線偏光レーザ光を円偏光レーザ光７ｂ、８ｂに変換して前記被加工物に照射するガルバノスキャナ１２と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 コストの増大を抑えた安価な構成で、種光パルスを発生し、該種光パルスの光周波数を拡大した光を出力可能な広帯域光源を提供すること。
【解決手段】 連続光を発生する半導体ファブリペローレーザ１と、波長分散を半導体ファブリペローレーザ１の発振波長において異常分散とし、半導体フェブリペローレーザ１から発振された連続光から該連続光の縦モード間隔に相当する繰返し周波数の光パルス列を発生させる分ＳＭＦ３と、光非線形を誘起し、ＳＭＦ３から出力された光パルス列から該光パルス列の周波数成分よりも広帯域な周波数成分を発生させる希土類添加高非線形ファイバ４とを備える。 （もっと読む）

【課題】照射時間の短い干渉光をカットすることで、加工幅や加工深さの分布を低減する。
【解決手段】ビームスプリッターによって分割された二本のパルスビームＰ₁ 、Ｐ₂ を角度θで重ね合わせ得られる干渉光によって基材表面や内部を加工または改質するレーザー干渉加工方法において、パルスビームＰ₁ 、Ｐ₂ の光路に、ビームの断面形状を整形するためのマスク−レンズ系を設けて、両パルスビームＰ₁ 、Ｐ₂ の干渉領域幅ＤＥを、理想平面波による干渉可能領域幅ＡＢより狭くすることで、照射時間の短い干渉光を排除し、干渉光による加工幅や加工深さを均一にする。 （もっと読む）

【課題】 太陽電池製造装置を改良し、ＸＹテーブル、レーザー発生装置及び光学系部材が高精度であり、正確なレーザースクライブが可能である太陽電池製造装置を提供する。
【解決手段】 太陽電池製造装置１は、ＸＹテーブル２と、４基のレーザー発生装置３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄと、光学系部材５及び空調室６によって構成されている。レーザー発生装置３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄＣ、いずれもファイバーレーザー装置である。レーザー発生装置３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄのそれぞれと、光学系部材５はユニット化されている。ＸＹテーブル２の上部に設けられた架台２０にユニット２６ａ，２６ｂ，２６ｃ，２６ｄが取付けられており、レーザー発生装置３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄと、光学系部材５の全てが、ＸＹテーブル２の上方にある。空調室６内にＸＹテーブル２と、レーザー発生装置３と、光学系部材５の全てが設置されている。 （もっと読む）

【課題】レーザーアブレーション技術を用いて基板上に配列された素子を選択的に剥離する際に、効率良くエネルギーを伝達して高精度且つ高速に素子の転写を行うことが可能な素子の転写方法を提供する。
【解決手段】レーザービームを発生させるレーザー光源１０と、そのレーザー光源１０からのレーザービームを所要の方向に反射させる反射手段１１と、その反射手段１１と連動してレーザービームの照射及び非照射を制御する制御手段とを有するレーザー照射装置を用いて、転写元基板上に複数配列された素子の一部に対してレーザービームを選択的に照射し、該レーザービームの照射によるレーザーアブレーションを発生させる。この選択的なレーザーアブレーションによって素子の一部が転写先基板上に高精度に転写される。 （もっと読む）

【課題】利用ツールへの光源としての送出のために出力レーザ光パルスを含む出力レーザビームをガス放電レーザで生成する方法及び装置を提供する。
【解決手段】ビーム経路とビーム経路におけるビームホモジナイザーとを含むことができる利用ツールに対する光源として送出するための出力レーザ光パルスを含む出力レーザビームをガス放電レーザで生成する方法及び装置。ビームホモジナイザーは、空間的干渉セル位置移動機器を含むことができる少なくとも１つのビーム像インバータ又は空間回転子を含むことができる。ホモジナイザーは、ソースビームの時間的干渉長さよりも長いが、それとほぼ同じ遅延である遅延経路を含むことができる。ホモジナイザーは、部分反射コーティングを各々の相互接合面に有する一対の相互接合ダブプリズム、ソースビームに面する斜辺面と全反射する隣接する側面とを含む直角三角形プリズム、又はソースビームに面する面と全反射する隣接する側面とを有する二等辺三角形プリズム、又はこれらの組合せを含むことができ、これらは、ソースビーム多重交替反転像作成機構として機能することができる。ビーム経路は、数十フェムトメートル以内の精度で５００フェムトメートル未満の範囲の出力レーザ光を含む出力レーザビームの帯域幅を測定する帯域幅の一部とすることができる。ホモジナイザーは、エッチングされてもよいグランドグラス拡散器とすることができる回転拡散器を含むことができる。波長計はまた、拡散光を平行化するビーム経路内のコリメータと、エタロンに入射する平行光に基づいて出力を作成する共焦点エタロンと、共焦点エタロンの出力を検出する検出器とを含むことができ、また、共焦点エタロンにわたって平行光を走査するか又は平行光にわたってエタロンを走査することができる、共焦点エタロンに入射する平行光の入射角を走査する走査機構を含むこともでき、かつ音響光学スキャナを含むことができる。共焦点エタロンは、測定されているビームのＥ５９幅にほぼ等しい自由スペクトル領域を有することができる。検出器は、共焦点エタロンの出力の強度パターンを検出する光電子増倍管を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】 ダイオード・ポンプ・ソリッド・ステート・レーザ源（２２０、２２２、２２４）から２つ以上の波長のレーザ・ビームを供給するシステム、装置、および方法を提供する。
【解決手段】 異なる波長を有するこれらのレーザ・ビームは、レーザ源（２２０、２２２、２２４）によって発生され、そのビーム経路を、光学構成によって共通光軸２８０に沿ってそろえ、少なくとも１つの目標区域を処置することができる。複数のダイオード・ポンプ・ソリッド・ステート・レーザ空胴から出力される周波数倍増レーザ・ビームを、屈曲ミラー（Ｍ２、Ｍ５、Ｍ８）に通過させ、１つ以上のコンバイナ・ミラー（Ｍ１０、Ｍ１１、Ｍ１２）を用いて、共通光軸２８０上で結合し、ビーム経路を統一することができる。１つ以上の伝達システムを用いて、選択したレーザ・ビームを目標に伝達することができる。
（もっと読む）

開示されるレーザーシステムは、ビームパスに沿ってレーザービーム（１２）を発するためのレーザー光源（１０）と、レーザービームの周波数を安定させる手段（２６，２８，３０）と、使用時に後方散乱光を生じさせる光学部品（１３４）の少なくとも１つと、後方散乱光の位相を変調するための位相変調器（１２０）と、を含む。光学部品は、平面鏡や光ファイバーでもよい。位相変調器は、モータ（１２６）によって任意に駆動される振動ガラスブロック（１２４）でもよい。位相変調器は、圧電素子によって周期的に圧縮されるガラスブロックであってもよい。
（もっと読む）

モジュール式超高速パルスレーザシステムは、モジュールとして作られ、個々に予備テストされた構成要素で組み立てられている。個々のモジュールは、発振器、前置増幅器とパワー増幅器ステージ、非線形増幅器、及び伸長器と圧縮器、を含んでいる。個々のモジュールは、一般的に単純なファイバスプライスによって接続される。 （もっと読む）

本発明の一態様は、電磁放射線システム内で使用する開口絞りアセンブリを備え、これは、印加された電磁放射線に対し少なくとも部分的に透過性の材料で作られた開口絞りを含み、開口絞りの少なくとも一部は、電磁放射線を少なくとも部分的に透過性の材料に偏向させるために開口のへりに形成される。本発明は、さらに、電磁放射線のビームの少なくとも一部をブロックする方法、及び電磁放射線システムにおいて使用するフーリエ・フィルタにも関係する。

（もっと読む）

【課題】集積回路リソグラフィのような用途において利用される高ピークパワー短パルス持続時間ガス放電レーザシステム、例えばエキシマ又は他のフッ素ガス放電レーザ、例えばフッ素分子ガス放電レーザシステムを提供する。
【解決手段】高ピークパワー短パルス持続時間ガス放電レーザ出力パルスを供給するための装置及び方法が開示され、これは、パルスストレッチャを含むことができ、これは、出力レーザパルスの一部分を光遅延経路を有する光遅延内に迂回させるレーザ出力パルス光遅延開始光学機器と、光遅延の出力をレーザ出力パルス光遅延開始光学機器に送出するように直列に整列した複数の共焦点共振器とを含むことができる。複数の共焦点共振器は、１２パス４ミラー構成を構成する４つの共焦点共振器を含む。複数の共焦点共振器の各々は、曲率半径を有する第１の凹球面ミラーと、同じ曲率半径を有し、その曲率半径だけ離間している第２の凹球面ミラーとを含むことができる。パルスストレッチャは、第１の共焦点共振器セルを含むことができ、この第１の共焦点共振器セルは、第１の凹球面ミラーの面上の第１の点での出力レーザパルスの部分を含むレーザ出力パルス光遅延開始光学機器からの入力ビームを受光して第１の反射ビームを発生させる曲率半径を有する第１の凹球面ミラーと、同じ曲率半径を有してその曲率半径だけ第１の凹球面ミラーから離間し、第２の凹球面ミラーの面上の第１の点で第１の反射ビームを受光して、第１の凹球面ミラーの面上の第２の点に入射する第２の反射ビームを発生させる第２の凹球面ミラーとを含むことができ、第２の反射ビームは、第１の凹球面ミラーにより第１のミラー上の第２の点から反射されて第１の共焦点共振器セルからの出力ビームを形成し、この第１の共焦点共振器セルは、更に、第１の共焦点共振器セルの出力ビームを第２の共焦点共振器セルの入力ビームとして受光する第２の共焦点共振器セルを含むことができる。この装置及び方法は、ビーム送出ユニットの一部を形成することができ、かつ集積回路リソグラフィ光源又は集積回路リソグラフィツールの一部とすることもできる。この装置及び方法は、複数、例えば２つのパルスストレッチャを直列に含むことができ、かつ空間コヒーレンス測定法を含むこともできる。 （もっと読む）

印を読み取るための電気光学リーダにおいて、緑色レーザ・ビームが生成され、合焦され、非対称ビーム断面をもつように成形される。緑色レーザ・ビームは、さらに、読み取り前に、印上の照準スポット又はパターンを照明するように用いられる。
（もっと読む）