ビーム断面長軸とビーム断面短軸とを有し、長軸上の長さが少なくとも200mmであり、短軸上の長さが最大で800μmである線状のビーム断面を有するレーザビームを生成するための方法及び構成であって、レーザビームが、長軸と短軸の両方に関して、それぞれ一つの焦点面を生成し、これらの焦点面上に、レーザビームのビーム断面が分割された多数の部分ビームをそれぞれ合焦させ、続いて、これらの部分ビームを束ねて、ビーム断面が均質化されたレーザビームを形成することによって、レーザ光源から発するレーザビームを長軸と短軸に関して別々に均質化させ、レーザビームが、少なくとも長軸に関してテレセントリックに結像され、すなわち、長軸に関して均質化されたレーザビームが、集光光学系(LACL)によって結像され、伝播方向に向いた平行な光の部分ビームからなる結像レーザビームに割り当てることができる光路が生じるようになる方法及び構成が記述される。本発明は、第一の集光光学系(SACL1)によって、短軸上で均質化して合わさったビーム断面を結像させて、均質な像視野(HFSA1)を生成し、第一の視野レンズ光学系(SAFL1)によって、第一の瞳(P1)を生成し、第一の瞳(P1)に、短軸に関して分割された部分ビームが合焦された焦点面が結像されるステップと、第二の集光光学系(SACL1)によって、均質な像視野(HFSA1)を第二の像視野(HSFA2)に結像し、第二の視野レンズ光学系(SAFL2)によって、第一の瞳(P1)を第二の瞳(P2)に結像させるステップであって、第二の瞳(P2)が、結像面上にレーザビームをテレセントリックに結像させるための結像光学系(pレンズSA)の入射瞳に相当し、結像面上に、長軸に関して均質化されたレーザビームが集光光学系(LACL)によって結像されるステップとを特徴とする。
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【課題】基本波光を波長変換するとともに基本波光の射出を低減可能とし、かつ安定した出力で高い信頼性を持つ照明装置、及びその照明装置を用いるモニタ装置及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】第１波長の光を射出する光源部と、光源部から射出された第１波長の光の一部を、第１波長とは異なる波長である第２波長の光へ変換する波長変換素子と、少なくとも光源部及び波長変換素子を収納する光源用筐体と、を備える光源装置１１と、光源装置１１から射出された第１波長の光を吸収し、第２波長の光を被照射物Ｉへ進行させる波長選択吸収部であるコリメータレンズ１３と、を有し、波長選択吸収部は、光源用筐体の外部に設けられる。 （もっと読む）

【課題】識別可能な印を表面に形成するのに好適なレーザーマーキングシステムを提供すること。
【解決手段】本願発明の識別可能な印を表面に形成するレーザーマーキングシステム３０は、たとえば、マーキング光ビームを提供するファイバレーザー３６と、制御信号に依存して該ファイバレーザー３６を光学的にポンピングするポンプレーザーと、該制御信号を該ポンプレーザーに提供するパルス制御回路３２と、該識別可能な印を該表面に形成するように該表面において該マーキング光ビームをスキャンするスキャナ４０とを備え、該パルス制御回路は、フィードバック回路を有し、該フィードバック回路は、該マーキング光ビームの光出力レベルを所望の光出力レベルと比較し、該マーキング光ビームの光出力レベルを該所望の光出力レベルにもっていくように光学的なポンピングを調整する、レーザーマーキングシステム３０である。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成によりマイクロレンズ透過光と周辺領域透過光との干渉を調整して、ピーク強度の低下やスポット形状の歪みを防止することができるレーザ用マイクロレンズを提供する。
【解決手段】レーザ光が透過し得る材質からなる基板１上に少なくとも１つのマイクロレンズ２が形成されている。マイクロレンズ２を透過するレーザ光と、当該マイクロレンズ２周辺を透過するレーザ光との干渉を調整するために、前記マイクロレンズ２の領域とその周辺領域との間に光軸方向に沿った段差ｓ、又は位相段差が形成されている。
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システム及び方法は、レーザ照射を用いて、半導体基板上又は半導体基板内の構造を加工する。一実施の形態においては、偏向器は、加工窓内でレーザパルスを選択的に偏向するように構成されている。加工窓は、半導体基板を走査し、複数の横方向に離間した構造の行が加工窓を同時に通過するようにする。加工窓を走査させながら、偏向器は、加工窓内で、複数の横方向に離間した行の間で、一連のレーザパルスを選択的に偏向する。このようにして、複数の構造の行を単一の走査で加工できる。 （もっと読む）

【課題】アルミ系金属材料に対して、スパッタやクラック等の溶接欠陥なく深い溶け込みを実現でき、高速にパルスシーム溶接できるレーザ装置を提供する。
【解決手段】当該レーザ装置は、ＹＡＧパルスレーザ発振器１に所望のパルス幅のパルスレーザ光を発振させるための電流信号を生成するとともに、その電流信号に含まれる変動成分をマスクするためのマスク信号を生成して、そのマスク信号により変動成分がマスクされた電流信号をＹＡＧパルスレーザ発振器１へ供給するパルス電源５を備える。また、ＣＷレーザ発振器６において発振したＣＷレーザ光のスポット形状を菱形流線形状にし、そのＣＷレーザ光の集光スポットに、パルスレーザ光の円形状の集光スポットを内包させる。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で、非線形光学結晶の寿命を短くすることなく基本波レーザ光から第３高調波レーザ光への変換効率を高め、高出力が得られる第３高調波発生レーザ装置及び第３高調波発生方法を提供する。
【解決手段】基本波レーザ光の光軸上に、基本波レーザ光から第２高調波レーザ光を発生させるＳＨＧ結晶４と、基本波レーザ光と第２高調波レーザ光とから第３高調波レーザ光を発生させる第１のＴＨＧ結晶５及び第２のＴＨＧ結晶６と、基本波、第２高調波及び第３高調波レーザ光の夫々について９０％以上の反射率を有する３波長反射ミラーと、を設ける。ＳＨＧ結晶４は第２高調波レーザ光を往復２方向で発生させ、第１のＴＨＧ結晶５及び第２のＴＨＧ結晶６は夫々波長変換により第３高調波レーザ光を発生させる。 （もっと読む）

【課題】高出力な高調波レーザを安定的かつ高効率で発生させるレーザ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基本波を発生するレーザ光源と、前記レーザ光源から発生したレーザ光を略平行光とするためのコリメートレンズと、所望の焦点位置に前記平行光を集光する集光レンズと、前記集光レンズの出射側に配置された前記基本波の波長を変換するための波長変換素子と、前記波長変換素子の高調波出射面と前記波長変換素子の中心とに前記基本波の焦点を結ぶための共焦点反射ミラーとを備えて構成する。 （もっと読む）

【課題】レーザ発振器のアライメント変化或いは、レーザ媒質の利得変化を検出し、最適なアライメント状態を維持する。
【解決手段】アライメント調整機構を有するレーザ発振器６５の外部に空間フィルタ６４が設けられ、空間フィルタ６４に取り付けられた複数の温度センサ６６からの出力信号を演算回路６３で処理し、演算回路６３からの出力によってレーザ光が空間フィルタ６４の光軸上を透過するようにアライメント調整機構の調整式鏡保持機構が動作する。
【選択図】図１１
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【課題】レーザ光源装置の利用時における安全性の向上。
【解決手段】半導体レーザ装置１００ａから出力され、第２高調波発生素子１１０に入射した赤外レーザ光の一部は波長変換されずに第２高調波発生素子１１０から出力される。第２高調波発生素子１１０から出力されるレーザ光は、放射状に広がるため、第２高調波発生素子１１０から出力されるレーザ光の一部は共振器１２０に入射せずに進み、カバー２００の側面で反射され管状部材内部に入射する（赤外レーザ光３０３）。管状部材２１０は赤外光を吸収する材質で形成されているため、レーザ光３０１，３０３のように、可視光が開口部２０１から外部へ射出されるべき方向（光軸方向）に対して所定の角度（θ１，θ２）ずれて開口部２０１に入射する光の一部は、管状部材２１０の側面に当たるたびに少なくとも一部が吸収されるため、赤外光の外部への漏洩を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光源装置の利用時における安全性の向上
【解決手段】赤外レーザ光の一部（赤外レーザ光３１１）は、第２高調波発生素子１１０で変換されずに共振ミラー１２０の反射膜１２１に入射する。共振ミラー１２０の反射膜１２１は入射した赤外レーザ光３１１の一部を反射し、残りの一部を透過する（透過赤外レーザ光３１１ａ）。透過赤外レーザ光３１１ａの一部は、反射膜１２１の射出面に形成された反射膜２５０により反射され（反射赤外レーザ光３１１ｂ）、残りの一部は反射膜２５０を透過する。透過赤外レーザ光３１１ａの少なくとも一部は、非可視光吸収部材２３０および光路変更光学素子２４０を通過する間に、それぞれの部材の入射面および射出面に形成された反射膜２５１〜２５４により反射される。よって、赤外レーザ光は、光学素子を通過するたびに徐々に光量が低減されるため、外部への漏洩が抑制される。 （もっと読む）

本願発明は、短いパルスを発生する装置（１）に関連し、該装置は、偏光方向を有する偏光用パルスレーザー（１０、２、３）と、複屈折軸を有する複屈折の光ファイバー（６）であって、前記偏光方向が、該複屈折軸とはコリニア（co-linear）な関係にない光ファイバーと、前記光ファイバーの出力側に配置された出力用偏光子（９）であって、前記光ファイバーの出力において偏光を選択することができる出力用偏光子と、を含み、そして、前記偏光用パルスレーザーが、縦方向の擬似シングルモードのレーザーであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発振段レーザ（ＭＯ）から出力されたビームを効率よく増幅段レーザ（ＰＯ）に注入することができるようにすること。
【解決手段】狭帯域発振段レーザ（ＭＯ）１０と共振器を配置した増幅段レーザ（ＰＯ）２０とからなる注入同期式放電励起レーザ装置において、狭帯域発振段レーザ（ＭＯ）１０と増幅段レーザ（ＰＯ）２０の間にＭＯビーム転写器５を設ける。ＭＯビーム転写器５は、狭帯域発振段レーザ（ＭＯ）１０のＭＯレーザ光の出口近傍におけるビームを転写して、このビーム転写像を増幅段レーザ（ＰＯ）２０の共振器の注入部に結像させる。これにより、発振段レーザ（ＭＯ）からのシード光を効率よく増幅段レーザ（ＰＯ）に注入することができ、また、上記シード光の方向に変動があっても注入効率は変動を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】レーザパルスのキャリアエンベロープ位相を安定化させる。
【課題手段】レーザ装置１００を用いて生成されるレーザパルスのキャリアエンベロープ位相を安定化させる方法であって、光源部１０を用いてレーザパルスを生成する工程と、増幅器２０を用いてレーザパルスを増幅させる工程と、増幅器２０を用いて増幅されたレーザパルスから得られた増幅器出力信号を生成する工程と、増幅器出力信号に基づき増幅器のループ５０を用いてレーザパルスのキャリアエンベロープ位相を制御する工程とを含む。該制御工程は増幅器出力信号に従って増幅部２０の光路を調整する工程を含む。該調整工程は増幅部２０の光路内に分散性物質を位置させることを含む。さらにレーザパルスのキャリアエンベロープ位相を安定化させるための安定化装置と共に、少なくとも一の安定化装置からなるレーザ装置についても記述されている。 （もっと読む）

【課題】レーザ装置、平面パネルディスプレイ等の光学システム、特に電子部品の製造において直線偏光の解消によって生ずる問題を解決する。
【解決手段】｛１１１｝または｛１００｝結晶面及び＜１１１＞または＜１００＞結晶軸をもつ結晶中への光の透過中に直線偏光の解消を引き起こし、防止し、あるいは減ずることができるように配置を行い、結晶表面は直線偏光が４５〜７５℃の角度で衝突する｛１１１｝または｛１００｝面によって形成し、及び前記結晶を、該結晶中へ入った後の光が前記＜１００＞または＜１１１＞結晶軸に対して可能な限り平行に伝搬されるように、及び／または前記結晶中に温度勾配が形成されることを防止する系に調節装置が含まれるように配置する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光照射の途中でレーザ光の波面形状が変化した場合においてもレーザ光の集光スポット径を小さく維持することができるレーザ光照射装置等を提供する。
【解決手段】レーザ光照射装置１は、レーザ光発生部１０、波面形状調整部２０、分岐部３０、集光部４０、波面形状取得部５０、制御部６１、点光源７０および反射鏡８０を備える。点光源７０から出力されて集光部４０を経た基準レーザ光Ｌ_Ｓの波面形状が波面形状取得部５０により取得される。レーザ光発生部１０から出力されたレーザ光Ｌ_０が分岐部３０により２分岐された第２レーザ光Ｌ_２の波面形状が波面形状取得部５０により取得される。基準レーザ光Ｌ_Ｓの波面形状に対して第２レーザ光Ｌ_２の波面形状の凹凸が反転関係になるように、波面形状調整部２０における反射の際にレーザ光Ｌ_０に与えられる付加歪みが制御されて、当該反射後のレーザ光Ｌ_０の波面形状が調整される。 （もっと読む）

【課題】 複数台のレーザ光源を用い、かつ、回折像の寸法を回折光学素子の設計仕様の下限値程度まで小さくすることができるレーザ照射装置を提供する。
【解決手段】 第１及び第２のレーザ光源が、第１及び第２のビームを出射する。第１及び第２の収束光学素子が、第１及び第２のビームを収束させる。反射部材の第１の反射界面が、第１の収束光学素子で収束された第１のレーザを、ビーム径の小さな位置において、第１の方向に反射させる。反射部材の第２の反射界面が、同様に、第２のビームを第１の方向に反射させる。第１及び第２の反射界面で反射し、発散光線束となった第１及び第２のビームが入射する位置であって、両者の経路が部分的に重なる位置にコリメートレンズが配置されている。コリメートレンズは、第１及び第２のビームをコリメートする。コリメートレンズを通過した第１及び第２のビームが入射する位置に被照射物は保持される。 （もっと読む）

同調可能パルスレーザ源は、シード信号を発生するようになっているシード源と、シード源に結合された第１ポート、第２ポート及び第３ポートを有する光サーキュレータとを含む。同調可能パルスレーザ源は、また、整形電気波形を生成するようになっている変調器ドライバと、変調器ドライバに結合し、且つ、整形電気波形を受信するようになっている振幅変調器を含む。振幅変調器は、光サーキュレータの第２ポートに結合された第１側面及び第２側面を特徴とする。同調可能パルスレーザ源は、さらに、入力端及び反射端を特徴とする第１光増幅器を含む。入力端は、振幅変調器の第２側面に結合される。さらに、同調可能パルスレーザ源は、光サーキュレータの第３ポートに結合された第２光増幅器を含む。 （もっと読む）

ワークピース上の異なる種類のターゲットをレーザ処理する方法およびシステムが提供される。この方法は、加工される第１の種類のターゲットに基づいて、１またはそれ以上の設定されたパルス幅を有する１またはそれ以上のレーザ出力パルスを選択的に提供すべく、１またはそれ以上のレーザパルスのレーザパルス幅を設定するステップを具える。この方法はさらに、前記加工されるターゲットの種類に基づいて、設定されたパルス形状を有する１またはそれ以上の出力パルスを選択的に提供すべく、前記１またはそれ以上の出力パルスのパルス形状を設定するステップを具える。この方法はさらに、前記１またはそれ以上の設定されたパルス幅と設定されたパルス形状を有する前記１またはそれ以上の出力パルスを、前記第１の種類の少なくとも１のターゲットに供給するステップを具える。この方法は最後に、加工される第２の種類のターゲットに基づいて、１またはそれ以上の再設定されたパルス幅を有する１またはそれ以上のレーザ出力パルスを選択的に提供すべく、前記１またはそれ以上のレーザパルスのレーザパルス幅を再設定するステップを具える。 （もっと読む）

【課題】出力光の精度を極めて高くし、精密に制御できるレーザ加工装置等を提供する。
【解決手段】極超短パルスレーザ光を加工対象物質に照射し、極超短パルスレーザ光のエネルギーで加工対象物質に加工を行うレーザ加工装置であって、極超短パルスレーザ光を出力するレーザ光源と、レーザ光源から放射される極超短パルスレーザ光を空間的な任意の形状に成形する空間光変調素子と、成形された極超短パルスレーザ光の各点で生じる多光子吸収により発せられる光エネルギーの波長に感度を有する多光子吸収検出器と、多光子吸収検出器での検出結果に基づき、空間光変調素子が極超短パルスレーザ光を変調可能としている。これにより、レーザ加工装置で現に得られる出力光を多光子吸収検出器で検出し、これに基づいて空間光変調素子を制御できるので、設計上の誤差を調整した極めて高精度な加工が可能となる。 （もっと読む）