空間フィルタは、第１のフィルタ素子及び第１のフィルタ素子とオーバラップする第２のフィルタ素子を含む。第１のフィルタ素子は、第１の距離だけ離れた第１の対の円柱レンズを含む。第１の対の円柱レンズのそれぞれが第１の焦点距離を有する。第１のフィルタ素子は、第１の対の円柱レンズの間に配置された第１のスリットフィルタも含む。第２のフィルタ素子は、第２の距離だけ離れた第２の対の円柱レンズを含む。第２の対の円柱レンズのそれぞれが第２の焦点距離を有する。第２のフィルタ素子は、第２の対の円柱レンズの間に配置された第２のスリットフィルタも含む。 （もっと読む）

眼科手術のためのレーザシステムは、パルスレーザビームを生成するレーザエンジンと、生成されたパルスレーザビームを受け取り、走査レーザビームを出射するＸＹスキャナとを備える。ＸＹスキャナは、２個のＸ走査ミラーを含むＸスキャナと、２個のＹ走査ミラーを含むＹスキャナとを備える。ＸＹスキャナは、ＸＹスキャナから出射された走査レーザビームが光軸と形成する角度と、出射された走査レーザビームが光軸に直交する後段の基準面と交わる位置とを実質的に独立して変更することができる。 （もっと読む）

【課題】キーホールの形成を抑えつつワークを溶融加工することができるレーザ装置及びレーザ光の調整方法を提供する。
【解決手段】レーザ光出力部１２から出力された第１〜第３ファイバレーザ光ＦＢ１、ＦＢ２、ＦＢ３のそれぞれを集光レンズ６２の中心Ｎから外れた別の位置に入射する。この時、第１〜第３ファイバレーザ光ＦＢ１、ＦＢ２、ＦＢ３は、周方向に１２０°ずつ離間した状態で集光レンズ６２に入射されるように設定されている。また、集光レンズ６２にて集光された第１〜第３ファイバレーザ光ＦＢ１、ＦＢ２、ＦＢ３は、合成ファイバ５４のコア７２の入射端面６１の垂線Ｌに対して交叉した状態で合成ファイバ５４のコア７２の中心に入射される。 （もっと読む）

【課題】高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。
【解決手段】このドライバレーザシステムは、ＭＯＰＡ（master oscillator power amplifier）方式に従って構成されたレーザシステム３であって、単一のレーザ発振器３０１においてレーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数の放電励起式ガスレーザ増幅系３０４（１）及び３０４（２）並びに３０５（１）及び３０５（２）において該レーザ光を増幅するレーザシステム３と、複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するようにレーザシステム３の動作タイミングを制御するレーザシステム制御装置４とを含む。 （もっと読む）

【課題】レーザー加工において使用されるレーザー照射装置及びこれを用いたレーザー加工方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、レーザー光線を出射する光源と、１又は複数のレンズを有し、光源から出射されるレーザー光線を対象物に導光及び集光する照射光学系とを備えるレーザー照射装置であって、この照射光学系の少なくとも一つのレンズの素材として、複屈折材料が用いられていることを特徴とするレーザー照射装置及びレーザー加工方法である。この照射光学系が、凹レンズ又は凸レンズである第１レンズと、凸レンズである第２レンズとをレーザー光線の進行方向順に有し、この第１レンズ及び第２レンズの間隔を変化可能に構成するビームエキスパンダを含み、この第１レンズ及び／又は第２レンズの素材として、複屈折材料が用いられているとよい。 （もっと読む）

光投射システムにおいて、光強度コントロールの潜在的に階層的なレベルは、適当なレーザー光の出力強度、カラーチャネル強度、白色点、左／右のイメージの強度のバランスをとること、又はそれらの組み合わせを保証する。光投射システムは、イメージの経路において、光源のサブシステムの光ダンプの経路において、光変調のサブシステムの光ダンプの経路において、光学的な構成部品から漏らされた光を測定するための位置において、又はそれらの組み合わせで光強度センサーを含むことができる。

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【課題】温度や振動等の影響によりミラーが本来の位置から傾いたとしても光軸を適切に補正する光伝送装置を提供する。
【解決手段】主系統レーザ光を出射する主系統出射器１と、主系統レーザ光を伝送するための１以上の導光ミラー４，５，６と、ダイクロイックミラー１４，１５，１６と、主系統レーザ光の光路上に設けられたチルトミラー３と、第１計測系統レーザ光を出射する計測系統レーザ発生器８ｂと、第１計測系統レーザ光の位置を検出する検出部１０と、検出部１０の検出結果に基づいて導光ミラー４，５，６の各々における角度ずれを算出し、当該角度ずれに基づく光軸ずれを補正するための第１制御信号を生成する制御器１１ｂと、第１制御信号に基づいてチルトミラー３の角度調整を行うミラー駆動部１２とを備え、ダイクロイックミラー１４，１５，１６の各々は、主系統レーザ光を透過させるとともに、対応する第１計測系統レーザ光を反射させる。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工により安定かつ高速に微細な縞状の加工をするレーザ加工装置を得ること。
【解決手段】加工対象の被加工面に対してパルスレーザビームを照射して縞状のレーザ加工を行うレーザ加工装置であって、前記被加工面を上にした状態で前記加工対象を保持するとともに搬送する加工対象搬送手段と、前記加工対象上での前記パルスレーザビームの位置を第１の方向に相対的に移動させるレーザビーム移動手段と、パルスレーザビームを出射するレーザ発振器と、前記パルスレーザビームを、隣接する分岐されたレーザビーム同士が前記第１の方向において規定の距離だけ間隔を有するように配置された分岐パターンへ分岐する回折光学素子と、前記回折光学素子で分岐されたパルスレーザビームを前記被加工面上に集光する集光手段と、を備え、前記分岐されたパルスレーザビームと加工対象とを相対的に移動させて前記被加工面に対して縞状のレーザ加工を行う。 （もっと読む）

【課題】固体レーザー(1)と、ビーム整形レンズ(3）と、振動ミラーのモーター(5、7)と、振動ミラー(4、6)と、フィールドレンズ(9)と、移動プラットフォーム(10)と、工業制御用コンピューター及び制御用ソフトウェア(8)と、を備えた固体レーザーリフトオフ装置である。
【解決手段】ビーム整形レンズ(3）は固体レーザーの後方に配設され、固体レーザー(1)から射出されるレーザービームを必要なレーザービーム形状に整形する。振動ミラーのモーター(5、7)はフィールドレンズ(9)の前方に配設され、制御用ソフトウェア(8)の命令により、振動ミラー(4、6)の作動を制御し、異なるレーザービームスキャンパスを実現する。上記固体レーザーリフトオフ装置のリフトオフ方法で、小レーザースポットを用いてスキャンすることにより、GaN（窒化ガリウム）とサファイア基板を非破壊リフトオフすることが実現できる。 （もっと読む）

【課題】膜付きの基板を加工する際に発生する金属粒子による集光レンズへの影響を抑制する。
【解決手段】ワークであるガラス基板上にレーザ光を照射して加工を行なうと、基板上の膜が気化し、集光レンズ付近に気化した金属粒子（イオン，蒸気）が浮遊し、この粒子が集光レンズ付近に巻き上がる。集光レンズを保持する気密型容器手段内を陽圧に維持し、この金属粒子などが気密型容器手段内に侵入するのを防止する。これによって、気密型容器手段内の集光レンズに金属粒子などが蒸着することがなくなり、集光レンズをクリーンに維持することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】簡明な構成で、出力光のスペクトル幅を調整可能なレーザ装置、光源装置これらの調整方法を提供する。
【解決手段】光源装置１は、レーザ装置１０と波長変換部３０とを備えて構成される。レーザ装置１０は、単一波長のパルス光を発生するレーザ光発生部１１と、レーザ光発生部１１により発生されたパルス光Ｌsを増幅する光増幅部１２と、光増幅部１２により増幅されたパルス光Ｌaの一部を時間的に切り出して短パルス光Ｌp出射するパルス光変調部１５と、パルス光変調部１５による切り出しタイミングを調整する遅延調整器８７およびトリガパルス遅延部８４からなるタイミング調整部と、を備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】加工中においても、加工に使用されるレーザー光の強度を測定でき、レーザー光による加工を安定して行うことが可能なレーザー加工装置を提供する
【解決手段】レーザー光を照射してワークに加工を施すレーザー加工装置１０であって、前記レーザー光を発振するレーザー発振器１１と、加工に使用されるレーザー光の強度を調整する音響光学素子を備えたレーザー光制御部３０と、前記レーザー光が通過するレーザー経路上に配置され、前記レーザー光の一部を反射するとともに残りのレーザー光を透過する部分反射板６１と、この部分反射板６１によって反射されたレーザー光の強度を測定することにより、前記部分反射板を通過したレーザー光の強度を算出する強度算出手段６３と、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特に機械的摺動部を用いることなく、スペックルコントラストを効果的に低減することができるレーザ光源装置を提供すること。
【解決手段】レーザ光源装置（１００）は、レーザ光を出射するレーザ光源（１１０）と、レーザ光源（１１０）から出射されたレーザ光の偏光状態を制御する液晶変調素子（１２０）と、液晶変調素子（１２０）によって偏光状態が制御されたレーザ光を、Ｐ偏光（２３０）成分とＳ偏光（２４０）とに分岐させ、光路差を持たせて伝播させた後に合成する、偏光ビームスプリッタ（１３０）、第１の直角プリズム（１４０）、および第２の直角プリズム（１５０）とを有する。液晶変調素子（１２０）は、レーザ光源（１１０）から出射されたレーザ光の照射範囲を分割した複数のエリアごとに、レーザ光に対する複屈折性および旋光性のうち少なくとも一方を電気的に制御することで、レーザ光の偏光状態を制御する。 （もっと読む）

レーザは、電極及びレーザビームを生成するための電極間の利得媒体を有する放電チャンバと、部分反射性光カプラと、レーザビームの経路内のビーム修正光学システムとを含む再生リング共振器を含む。ビーム修正光学システムは、近視野レーザビームプロフィールがレーザ内の各開口を均一に満たすように、かつ再生リング共振器の内側の光学要素に熱レンズを誘起する電力でレーザを作動させる時に再生リング共振器が条件つき安定か又は僅かに不安定なままに留まるようにレーザビームのプロフィールを横断方向に拡張する。 （もっと読む）

【課題】波長変換光学素子の交換直後に稼働できるレーザ装置を提供する。
【解決手段】昇温状態で使用される波長変換光学素子がヒータとともにケースに収容されて一体の素子ユニットが形成される。制御ラックには、ユニット保管部８０が設けられ予備の素子ユニット５０´が保管される。制御部７０は、レーザヘッド１０で使用中の素子ユニットの使用時間が交換推奨時間に到達する以前に、予備の素子ユニット５０´に対するＮ₂ガスの供給および波長変換光学素子の温度調整を開始させ、使用時間が交換推奨時間に到達したときに、予備の素子ユニット５０´の波長変換光学素子が、予め設定された準備時間Ｎ₂ガスの供給下で所定温度に保持された状態となるように制御する。 （もっと読む）

【課題】光軸の安定性が高いレーザ光増幅器を提供する。
【解決手段】このレーザ光増幅器は、レーザ媒体を収納する容器と、レーザ媒体中で放電を行うことによりレーザ媒体中にレーザ光の増幅領域を形成する１対の電極と、互いに共役な第１の点と第２の点との間の光路中に増幅領域が配置され、第１の点に入射するレーザ光が増幅領域中を少なくとも２回通過しながら増幅されて第２の点に転写されるように、レーザ光が入射する第１の点とレーザ光が出力される第２の点との間の光路を形成する光学システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、熱によって変化する、レーザ光の波面を適切に補正する。
【解決手段】レーザ発振器２０から出力されるレーザ光を増幅させるための増幅システム３０内に、少なくとも一つ以上の波面補正器３４と、センサ３６とを設ける。センサ３６は、レーザ光の角度（方向）や波面の曲率の変化を検出して出力する。波面補正コントローラ（WFC-C）５０は、センサ３６の計測結果に基づいて、波面補正器３４に信号を出力する。波面補正器３４は、波面補正コントローラ（WFC-C）５０からの指示に従って、レーザ光の波面を所定の波面に修正する。チャンバ１０内にレーザ光を供給する集光システム４０内にも、別の波面補正器及びセンサを設けることができる。 （もっと読む）

【課題】あらゆる規模の光学系器材に適用でき、しかも伝送するレーザ光に直接影響を与えず、光軸を適切に補正する光伝送装置を提供する。
【解決手段】レーザ光を伝送するための１以上のミラー１ｂと、対応するミラーの角度に連動する１以上の小型ミラー４ａ，４ｂと、１以上の小型ミラー４ａ，４ｂに対して回転ミラー７を介して補正用可視レーザ光を照射する補正用可視レーザ光照射部と、１以上の小型ミラー４ａ，４ｂのいずれかにより反射された補正用可視レーザ光を検知する検知部８と、補正用可視レーザ光が照射された小型ミラー４ａ，４ｂの位置と検知部８により検知された補正用可視レーザ光の位置とに基づいてレーザ光の光軸ずれを補正するための補正信号を生成する制御部９と、ミラー１ｂの後段に設けられ、制御部９により生成された補正信号に基づいて入射光軸に対する自己の角度を調整する微動ミラー５とを備える。 （もっと読む）

【課題】長期的に高い信頼性を有する、ダブルクラッドファイバー（ＤＣＦ）のの光除去方法、および、光除去装置を提供する。
【解決手段】ＤＣＦ（１）のアウタークラッド部を除去し、インナークラッドを露出させたインナークラッド露出部（７）を、無機材料により構成される２枚の光学基板（６Ａ，６Ｂ）で挟むように構成する。除去したアウタークラッドの屈折率ｎ４と、光学基板（６Ａ，６Ｂ）の屈折率ｎ６との間にはｎ６＞ｎ４の関係を有するようにする。ＤＣＦ（１）の使用状態において、ＤＣＦ（１）のインナークラッドを伝播してきた光は、インナークラッド露出部（７）と光学基板（６Ａ，６Ｂ）との接触部から、光学基板（６Ａ，６Ｂ）内に、第二の光の伝播方向に見て不均一に放射される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ペルチエ要素（１８）を具備し、主に、高い熱応力にさらされレーザビーム（２）、基本的にはレーザパルスを発生する光学クリスタルまたはレーザクリスタル（５）の冷却を意図した冷却装置（７）に関し、クリスタルの焼損を避けつつ効果的な冷却をおこなう。
【解決手段】冷却装置は、例えば、光学増幅器または発振器の冷却に使用される。クリスタル（５）はそれを冷却するペルチエ要素（１８）と共に、乾燥材を使用して真空排気され、および、または、乾燥状態にされた密封容器（８）内に配設される。クリスタルは、レーザビーム（２）を通過せしめる少なくとも１つのブリュースターの窓（３２、３３）を有し、その窓は光学軸に対してブリュースター角に対応する角度で取り付けられている。 （もっと読む）