【課題】高いパルス伸長率と圧縮率を有する生産性の良いファイバチャープパルス増幅器システムを提供することにある。
【解決手段】コア領域と、コアを取り囲む材料クラッド領域と、材料クラッド領域を実質的に取り囲む空気クラッドと、空気クラッドを取り囲む層とを備える偏光保持空気クラッドファイバであって、ファイバの偏光保持動作は、空気クラッドファイバ中に応力誘起複屈折を生成し前記材料クラッド領域の完全に内部に配置され材料クラッド領域により完全に取り囲まれている応力形成領域を組み込むことにより達成される、偏光保持空気クラッドファイバを提供する。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザシステムは、パルスレーザ光を出力するマスタオシレータと、前記マスタオシレータから出力されたパルスレーザ光のコヒーレンスを低下させる低コヒーレンス化光学システムと、前記パルスレーザ光のスペックルが変化するように前記低コヒーレンス化光学システムを制御するコントローラと、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 周波数変化に伴う、２つのポンプ光間の交叉角度の制御も不要で、テラヘルツ波の出力側に複雑な光学系を設けることなく、簡単な装置構成で、周波数可変のテラヘルツ帯の電磁波を発生することの可能な電磁波発生装置を提供する。
【解決手段】第１のポンプ光を出射する第１のポンプ光出射部２４と、第１のポンプ光とは異なる波長の第２のポンプ光を、波長可変で出射する第２のポンプ光出射部２５と、周期的な分極反転構造を有し、第１のポンプ光と第２のポンプ光との差周波数の電磁波を生成する擬似位相整合素子１９と、第１のポンプ光と第２のポンプ光との交叉角を位相整合範囲角に調整して固定し、第１のポンプ光及び第２のポンプ光を擬似位相整合素子１９に入射させる光学系（Ｍ₆，１８）とを備え、第２のポンプ光の周波数を変えることにより、擬似位相整合素子１９から可変波長のテラヘルツ電磁波を発生させる。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザシステムは、パルスレーザ光を出力するマスタオシレータと、前記マスタオシレータから出力されたパルスレーザ光を増幅する増幅装置と、前記マスタオシレータから出力されるパルスレーザ光のタイミングを検出する第１のタイミング検出器と、前記増幅装置の放電タイミングを検出する第２のタイミング検出器と、前記第１のタイミング検出器と前記第２のタイミング検出器との検出結果に基づいて、前記パルスレーザ光が前記増幅装置の放電空間内を通過する際に該増幅装置が放電するように、前記マスタオシレータが前記パルスレーザ光を出力するタイミングおよび前記増幅装置が放電するタイミングのうち少なくとも一方を制御するコントローラと、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザシステムは、パルスレーザ光を出力するマスタオシレータと、該マスタオシレータから出力された前記パルスレーザ光を増幅する増幅装置と、前記マスタオシレータと前記増幅装置とを制御するコントローラとを備えてもよい。前記マスタオシレータは、励起光を出力するポンピングレーザと、前記励起光によってレーザ発振するシードレーザと、前記シードレーザから出力されたパルスレーザ光を前記励起光によって増幅する増幅器と、前記シードレーザと前記増幅器との間の光路上に設置された少なくとも１つの光シャッタと、を備えてもよい。前記コントローラが、前記光シャッタを通過したパルスレーザ光が前記増幅装置を通過する際に該増幅装置が放電するように、前記光シャッタの開閉と前記増幅装置の放電とを制御してもよい。 （もっと読む）

【課題】光学経路上に配された傾斜プリズムによって生じる光学収差を効果的に補償可能なレーザー照射装置の提供。
【解決手段】光学経路上に、傾斜プリズム３と、傾斜プリズム３を透過する光に生じる非点収差および／または色収差を補償する集光レンズ２２と、を備えるレーザー照射装置などを提供する。集光レンズ２２は、前記光学経路の光軸に対して所定角度θ傾斜されて配設され、この傾きによる逆極性の非点収差によって傾斜プリズム３で生じた非点収差を補正する。 （もっと読む）

【課題】装置内部の摺動部分に生じたダストの付着によって光学素子が損傷することを防止できるレーザ装置を提供する。
【解決手段】励起光Ｌ１を出射する半導体レーザ１０と、励起光Ｌ１が入射し、励起光Ｌ１から生成された出射光Ｌ４を出射するレーザ出力部２０と、レーザ出力部２０を構成する光学素子の少なくともいずれかを支持し、金属製の摺動部分を有するホルダ３０と、ホルダ３０の摺動部分の近傍に配置され、金属片を吸着する強磁性を有する吸着装置４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】広い区域にわたって高繰返し率のレーザ光を用いる表面及び／又は基板の処理を伴う製造工程で使用される高電力及び高安定性ガス放電レーザを提供する。
【解決手段】直列に接続した複数の一次巻線と複数の一次巻線の各々を通る単一の二次巻線とを有する多段分割ステップアップ変圧器と半導体トリガスイッチとを含むＤＣ電源に接続されかつそれぞれの電極に接続した第１及び第２のパルス圧縮及び電圧ステップアップ回路を含む電源モジュールと、単一出力レーザ光パルスビームを生成するためにＰＯＰＡ構成レーザシステム又はＰＯＰＯ構成レーザシステムのいずれかとして第１及び第２のレーザユニットの作動を達成するように、それぞれの第１及び第２のパルス圧縮及び電圧ステップアップ回路の作動パラメータに基づいてそれぞれの半導体スイッチの閉成を計時するように作動するレーザタイミング及び制御モジュールとを含むマルチチャンバレーザシステム。 （もっと読む）

【課題】容易に、結晶化の溶融状態、結晶粒径及び粒径バラツキを所望の状態にしたシリコン膜を形成することができるレーザ照射方法を提供する。
【解決手段】レーザ照射方法は、マルチモードのレーザ光を発振させる発振ステップ（Ｓ１０２）と、レーザ光を光ファイバーで伝送する伝送ステップ（Ｓ１０４）と、光ファイバーから出射したレーザ光を重畳し細長い形状に整形する整形ステップ（Ｓ１０６）と、整形されたレーザ光を短軸方向に走査しながらアモルファスシリコン膜に照射することで、ポリシリコン膜に結晶化する照射ステップ（Ｓ１０８）とを含み、照射ステップ（Ｓ１０８）では、走査速度Ｖ（ｍｍ／ｓ）と照射パワー密度Ｐ（ＫＷ／ｃｍ²）との関係をＫ＝Ｐ／√Ｖとし、Ｋ＞４の条件を満足する走査速度と照射パワー密度とで照射することで、レーザ照射領域に所定の溶融状態での結晶を形成させる。 （もっと読む）

【課題】ファイバレーザ装置の出力光に含まれる信号増幅光や背景光の検出精度を向上する。
【解決手段】ＴＡＰカプラ１４３は、光増幅ファイバから出射される出力光の一部を分岐して、サンプリング光を抽出し、光ディテクタ１４６は、抽出されたサンプリング光を光電変換して、サンプリング光の光量（強度）に応じた検出信号を生成する。マルチプレクサ２０５は、信号増幅光が出力される期間を含む第１の期間における検出信号である信号光抽出信号、および、第１の期間を除く第２の期間における検出信号である背景光抽出信号を抽出する。本発明は、例えば、ファイバレーザ装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の安定性を向上する。
【解決手段】光学装置は、レーザ光のビーム伝播経路上に配置された光学モジュールと、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記レーザ光のビーム伝播経路を調節するアクチュエータ部と、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記ビーム伝播経路を検出する計測部と、 前記計測部によって検出された前記レーザ光のビーム伝播経路の検出結果に基づいて、前記アクチュエータ部を制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】品質の向上したレーザ加工装置及び工作物を機械加工する方法の提供。
【解決手段】切れ刃（６２）及び逃げ面（６４）を有する回転バイトが工作物（１１）から製造される。レーザ加工装置（１０）は２つの異なる操作モードで機能する。第１の操作モードで、第１のレーザヘッド（１４）は、第１のレーザヘッド（１４）に対して工作物（１１）の速い前進速度にて工作物（１１）を機械加工するのに使用される。その際、工作物（１１）は所望の大まかな輪郭を示すようにレーザ溶融切削により切削される。第１の操作モードでは、レーザパルスの持続時間はナノ秒範囲である。その後、レーザ加工装置（１０）は第２の操作モードで操作される。その際、レーザパルスはピコ秒範囲のパルス持続時間で生成され、上記のレーザパルスは第１の操作モードのレーザパルスより小さい平均電力を示す。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の低空間コヒーレンス化をはかり、スペックルノイズの発生によるレジストパターン形成への悪影響を低減化すること。
【解決手段】発振段レーザ（ＭＯ）１０からのビームは、ＭＯビームステアリングユニット３０を介して増幅段レーザ（ＰＯ）２０の共振器内に注入され増幅発振される。増幅段レーザ（ＰＯ）２０からのビームは、ＰＯビームステアリングユニット４０を介してＯＰＳ５０に入射し、ＯＰＳ５０からの光はコヒーレンスモニタ６０を介して出力される。レーザコヒーレンスコントローラ６６は、コヒーレンスモニタ６０の検出値に基づいて、増幅段レーザ（ＰＯ）２０の共振器のミラー、ＭＯビームステアリングユニット３０のミラー、ＰＯビームステアリングユニット４０のミラー等のアクチュエータに駆動信号を送り、これらのミラーの角度などを制御する。 （もっと読む）

【課題】波長変換部から高出力で出力光を出射する際に、出力される高調波のビーム径の変動の少ないレーザ光源装置を提供する。
【解決手段】直線偏光されたレーザ光を出力する基本波レーザ光源と前記レーザ光を波長変換して高調波レーザ光を出力する周期的分極反転構造を有する波長変換部とを備えるレーザ光源装置において、前記直線偏光されたレーザ光のうち前記波長変換部の分極反転方向に垂直な方向と一致する偏光成分のみを通過するように、前記基本波レーザ光源と前記波長変換部との間に前記偏光分離素子を配置するレーザ光源装置。 （もっと読む）

【課題】ビーム伝送系のレーザから直接放出されたレーザ光よりもコヒーレンスが低減された光ビームを供給するビーム伝送系を提供する。
【解決手段】投影露光系のビーム伝送系は、キャビティ内の複数の縦レーザモードからレーザ光ビームを生成するレーザを含む。１つの縦レーザモードによって生成される光は平均線幅λ_latを有し、ビームのレーザ光は、ビームの各横位置において、横レーザモードに対応する第２の線幅λ_latを有し、ビームのレーザ光は、その断面全体にわたって平均化した場合、複数の横レーザモードに対応する線幅λ_bを有し、λ_m＜λ_lat＜λ_bである。ビーム上に配置される光遅延装置は、光路差ΔＩを与える。但し、λ₀は第１のレーザ光ビームの光の平均波長であり、λ_latは第２の線幅を表している。 （もっと読む）

【課題】所望の帯域幅および強度を有するＳＣ光を発生させることができる光源装置を提供する。
【解決手段】光源装置１は、ファイバレーザ光源１０、シングルモード光ファイバ２０およびマルチモード光ファイバ３０を備える。シングルモード光ファイバ２０は、ファイバレーザ光源１０の種光出力端１１から出力された種光を第１端２１に入力して導光し、その種光の導光の際に発現する非線形光学現象により帯域を拡大されたＳＣ光を第２端２２から出力する。マルチモード光ファイバ３０は、シングルモード光ファイバ２０の第２端２２から出力されたＳＣ光を入力端３１に入力して導光し、その導光したＳＣ光を出力端３２から出力する。 （もっと読む）

【課題】並行して使用するレーザ光のスポットの形状や大きさを簡単に個別に調整する。
【解決手段】レーザ光λａは、レンズ１２０ａにより結像位置Ｐ１ａにおいて結像した後、レンズ１２１ａによりコリメートされ、２波長性ミラー１２３に入射する。レーザ光λｂは、レンズ１２０ｂにより結像位置Ｐ１ｂにおいて結像した後、レンズ１２１ｂによりコリメートされ、全反射ミラー１２２により反射され、２波長性ミラー１２３に入射する。そして、レーザ光λａおよびレーザ光λｂは、２波長性ミラー１２３により光路が結合され、２波長性レンズ１２４により結像位置Ｐ２において結像する。本発明は、例えば、薄膜太陽電池パネルを加工するレーザ加工装置に適用できる。 （もっと読む）

【課題】 高いパルス伸長率と圧縮率を有する生産性の良いファイバチャープパルス増幅器システムを提供することにある。
【解決手段】 短光パルスを発生する種パルス光源、パルスを伸長する伸長器、及び複数の鎖状につながった偏光を保持しているファイバ区分とからなり、その偏光保持ファイバの少なくとも１つは増幅器であるチャープパルス増幅システムにより、課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】エネルギー変換効率を向上する。
【解決手段】レーザ装置は、一方の主面側に入射した第１レーザ光の一部を第１反射光として反射するとともに残りの一部を第１透過光として透過し、且つ、他方の主面に入射した第２レーザ光の一部を第２透過光として透過するとともに残りの一部を第２反射光として反射するミラーと、前記第１透過光と前記第２反射光との光軸、もしくは、前記第１反射光と前記第２透過光との光軸が略一致するように、前記ミラーへ前記第１および第２レーザ光を入射させる光学系と、前記第１透過光または前記第１反射光のビームパラメータを計測する第１計測部と、前記第２反射光または前記第２透過光のビームパラメータを計測する第２計測部と、前記第１計測部の計測結果に基づいて前記第１レーザ光を調整する第１調整部と、前記第２計測部の計測結果に基づいて前記第２レーザ光を調整する第２調整部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】励起用光源装置の出力を高めた場合であっても蛍光層の発光効率の低下を抑制可能な照明装置を提供する。
【解決手段】本発明の照明装置１０１は、第１の光Ｌａを射出する第１の光源装置１０ａと、第２の光Ｌｂを射出する第２の光源装置１０ｂと、第１の光Ｌａ及び第２の光Ｌｂによって励起される蛍光層４２と、
第１の光Ｌａの少なくとも一部と第２の光Ｌｂの少なくとも一部とが蛍光層４２上において互いに重なりあい且つ蛍光層４２上に形成される第１の光Ｌａのビームスポットのうち光強度が最も大きい第１の高強度領域と蛍光層４２上に形成される第２の光Ｌｂのビームスポットのうち光強度が最も大きい第２の高強度領域とが蛍光層４２上において互いに離間して配置されるように、第１の光Ｌａと第２の光Ｌｂとを蛍光層４２に照射する集光光学系２０と、を備えている。 （もっと読む）