【課題】コンパクトなパッケージで、機械的な振動と環境変動から保護され、最適な性能を得るために頻繁な調整を必要としない光学部品を用いた短パルスレーザを提供する。
【解決手段】パルスレーザ１００は、発振器１０２と増幅器１０６を有し、パルスレーザ１００からのレーザパルス出力の性能と或いは品質とを改善するために、発振器１０２と増幅器１０６との間にパルスコンディショナ１０４が配置されてもよい。パルスコンディショナ１０４は減衰器及び／或いは予備圧縮器で構成され、予備圧縮器は発振器１０２と増幅器１０６の間に設けるスペクトルフィルタ及び／或いは分散素子からなる。パルスレーザ１００は、通信コード等級の品質と信頼性を持つモジュール型デバイスを有するモジュール型デザインにしても良い。 （もっと読む）

【課題】レーザ光ビームを、可及的に大きなフレキシビリティでかつ特別の知識を要することなく可及的に短時間で変更することができ、かつそのスペクトル組成（構成）に関し簡単な方法で個別に調製可能なレーザ光ビーム生成装置の提供。
【解決手段】少なくとも１つのレーザ光源（２）を含んで構成される、好ましくは共焦点式の走査顕微鏡のための照明光ビーム等のレーザ光ビームを生成するための装置において、前記レーザ光源（２）は、個別に又はグループ化されて、外部に対して規定される機械的及び／又は電気的及び／又は光学的インターフェースを有するモジュール（１）を構成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】多数のモジュールから構成され、モジュール間の光路に光軸調整個所を有する、多段増幅式レーザーシステムなどのレーザーシステムの光軸調整作業を自動化する。
【解決手段】レーザーシステムにおいて、光軸調整個所５１，５２より後段のモジュールからの出力光の強度を検出し、強度の変化に応じて該光軸調整個所５１，５２を調整するフィードバックを設ける。さらにこれらのフィードバック制御をファジイ推論またはメタヒューリスティックなアルゴリズムを用いた制御で行う。レーザーシステムにおいて、複数の光軸調整個所５１，５２があって２つの光軸調整が独立に行えない場合は、フィードバックループの伝達関数が明確に求められないので、ファジイ推論等を用いた制御により、各光軸調整を独立に実施する。 （もっと読む）

【課題】 高出力レーザー光を空間に出射し、目標に照射するレーザ照射装置においては、大気中にレーザ光を伝播させるため、大気の揺らぎの影響を補正する大気補償装置が必要であった。
【解決手段】 照射対象にレーザ光を照射し、照射対象表面にて反射した反射光を反射光受信器にて受信し、大気補償信号処理部にて大気による歪みを受けた光波面を検出する。大気補償信号処理部では検出した波面を反転させた波面形状を出力させるよう制御信号を各光移相器へ出力し、信号を受けた各光移相器が各光路のレーザ光位相を変化させることにより、合成後の高出力レーザ光波面形状が変化し、照射対象へ照射される。この制御を繰り返すことによって大気の影響を補正し、常に照射対象上でレーザ光の集光スポットの拡大を抑制することができ、遠距離における対象にも十分な照射効果を与えることができる。 （もっと読む）

【課題】小型化を実現しつつ、画像表示途中でのレーザ波長変換装置における共振器内部の光学素子接合体の剥離を防止し、その結果、安定して画像を表示することができるレーザ波長変換装置及びこれを用いた画像表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】固体レーザ結晶２５と非線形光学結晶２７とを水素結合により相互に接合して接合体を形成し、接合体の少なくとも接合部を含む少なくとも上面部あるいは下面部を接着樹脂２６で被覆するようにした。 （もっと読む）

【課題】レーザ加工装置から出力されるパルス光のパワーを安定化させるための技術を提供する。
【解決手段】レーザ加工装置１００は、シード光を励起光によって増幅する光増幅ファイバ１，８と、シード光をパルス状に発生させるシードＬＤ２と、励起光を発生させる励起ＬＤ３，９Ａ，９Ｂとを備える。レーザ加工装置１００は、レーザ加工装置から出力されるレーザ光に関する条件に基づいて、シード光が発生しない非発光期間における励起光の条件が可変である。制御装置２０は、ドライバ２２，２３Ａ，２３Ｂを制御することによって非発光期間における励起光の条件を変化させる。これにより、レーザ加工装置から出力されるパルス光のエネルギーを非発光期間の長さによらず安定化させることができる。 （もっと読む）

複数のレーザ・エレメントを利用または結合するときに、出力パワー、ならびに空間的輝度および／またはスペクトル輝度を高めるシステムおよび方法を提供する。 （もっと読む）

フェムト秒パルス・レーザを構築して動作させる設計態様および技術が提供される。レーザ・エンジンの一例は、フェムト秒の種パルスから成る光線を生成して出力する発振器と、種パルスの存続時間を伸張する伸張器／圧縮器と、伸張済み種パルスを受信し、選択された伸張済み種パルスの振幅を増幅して、増幅済みの伸張済みパルスを生成し、且つ、増幅された伸張済みパルスから成るレーザ光線を、該パルスの存続時間を圧縮してフェムト秒パルスから成るレーザ光線を出力する上記伸張器／圧縮器へと出力する増幅器と、を含んでいる。増幅器は、増幅済みの伸張済みパルスの分散を補償する分散制御器を含むことにより、各処置の間において又は走査の速度に従い上記レーザの繰り返し率を調節可能にする。レーザ・エンジンは、500メートル未満の合計の光路によりコンパクトとされ得ると共に、たとえば50個未満などの少ない個数の光学素子を有し得る。 （もっと読む）

フェムト秒パルス・レーザを構築して動作させる設計態様および技術が提供される。レーザ・エンジンの一例は、フェムト秒の種パルスから成る光線を生成して出力する発振器と、種パルスの存続時間を伸張する伸張器／圧縮器と、伸張済み種パルスを受信し、選択された伸張済み種パルスの振幅を増幅して、増幅済みの伸張済みパルスを生成し、且つ、増幅された伸張済みパルスから成るレーザ光線を、該パルスの存続時間を圧縮してフェムト秒パルスから成るレーザ光線を出力する上記伸張器／圧縮器へと出力する増幅器と、を含んでいる。増幅器は、増幅済みの伸張済みパルスの分散を補償する分散制御器を含むことにより、各処置の間において又は走査の速度に従い上記レーザの繰り返し率を調節可能にする。レーザ・エンジンは、500メートル未満の合計の光路によりコンパクトとされ得ると共に、たとえば50個未満などの少ない個数の光学素子を有し得る。 （もっと読む）

フェムト秒パルス・レーザを構築して動作させる設計態様および技術が提供される。レーザ・エンジンの一例は、フェムト秒の種パルスから成る光線を生成して出力する発振器と、種パルスの存続時間を伸張する伸張器／圧縮器と、伸張済み種パルスを受信し、選択された伸張済み種パルスの振幅を増幅して、増幅済みの伸張済みパルスを生成し、且つ、増幅された伸張済みパルスから成るレーザ光線を、該パルスの存続時間を圧縮してフェムト秒パルスから成るレーザ光線を出力する上記伸張器／圧縮器へと出力する増幅器と、を含んでいる。増幅器は、増幅済みの伸張済みパルスの分散を補償する分散制御器を含むことにより、各処置の間において又は走査の速度に従い上記レーザの繰り返し率を調節可能にする。レーザ・エンジンは、500メートル未満の合計の光路によりコンパクトとされ得ると共に、たとえば50個未満などの少ない個数の光学素子を有し得る。 （もっと読む）

【課題】微細加工及び高精度かつ高品質の加工を行うことができるとともに、高い加工効率を有し、かつ、レーザ光の照射回数を少なくして任意の形状加工においても短時間に加工可能なレーザ加工装置を提供すること。
【解決手段】レーザ加工システムＳは、レーザ光源１００から出力されたフェムトレーザビームの一部を遅延させ、加工対象物Ｍに時間差を与えてフェムトレーザビームを異なる集光スポットＳＰに集光することによって加工対象物Ｍを加工するようになっている。特に、このレーザ加工システムＳは、第１位置に遅延を生じていない第１フェムトレーザビームを照射し、第２位置に遅延を生じさせた第２フェムトレーザビームを照射するようになっている。 （もっと読む）

【課題】従来技術の問題及び限界を解決したチャープパルス増幅器を提供すること。
【解決手段】モードロックレーザと、その出力端に結合された、第１および第２の出力端を有する偏光保持ビームルータと、偏光保持ビームルータの第１の出力端に結合された、パルス伸長のための偏光保持分散補償ファイバと、偏光保持分散補償ファイバに結合された第１の増幅器と、第１の増幅器に結合された第１のパルス選別器と、第１のパルス選別器に結合されたファラデー回転子ミラーと、偏光保持ビームルータの第２の出力端にビームスプリッタを通して結合された第２の増幅器とを備えるチャープパルス増幅器である。モードロックレーザが偏光保持ビームルータに入力する入力パルスは、ファラデー回転子ミラーにより反射されて偏光保持ビームルータに戻り、次いでそこから出力されて第２の増幅器に入射される。第１のパルス選別器は、光導波路を有する集積化変調器を備える。 （もっと読む）

光学素子構造体と集束ビームとを用いて、レーザ・パターンを形成する。ある実施形態では、光学素子構造体は単一の基板上に集積化して形成できる。ある実施形態では、多数の光学部品は、所望のパターンを呈するために、光路で組み合わせることができる。少なくとも一つの実施形態では、投影マスクを用いて、投影マスクの制御された動きと対象物の制御された動きとレーザビームの制御された動きとを組み合わせて、レーザ出力に対する対象物の露光を制御する。ある実施形態では、投影マスクを用いて対象物の露光を制御し、投影マスクは、レーザ出力を吸収、散乱、反射、又は減衰できる。ある実施形態では、投影マスクは、投影マスクの領域の全体を透過したレーザビームの光パワーと偏光を変える光学的素子を含むことができる。
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【課題】短い加工時間で精度良く被加工物に傾斜部を形成することができる加工装置を提供する。
【解決手段】加工装置１０は、光を出射するマスク照明系１１と、マスク照明系１１からの光を変調して出射する変調マスク３３と、変調された光を結像して被加工物１８に照射し、被加工物１８に傾斜部１８ｂを形成する結像光学系１７とを備えている。変調マスク３３は、被加工物１８の傾斜部１８ｂに照射される光を位相変調する変調マスク傾斜部２４ｂと、変調マスク傾斜部２４ｂに隣接し、被加工物１８の非加工部１８ｃに対応する変調マスク遮蔽部２４ｃと、を有している。このうち変調マスク傾斜部２４ｂは、複数の位相変調単位領域２４ｅからなっている。一方変調マスク遮蔽部２４ｃは、光を遮蔽する光遮蔽層２７を含んでいる。 （もっと読む）

本発明は、パルス照射源２から中心波長１を持つ照射パルス１０を入力し、各々の入力する照射パルスに対し複数のサブパルス１１、１２、１５、１７を出力するのに適したパルススプリット装置５に関する。前記入力した照射パルス及び前記パルススプリッタ５は、第１及び第２のサブパルス１１、１２が第１の領域における第１の光路長ＯＰ１及び第２の領域における第２の光路長ＯＰ２により夫々、時間的に分離されるように相互作用する。前記第１の材料における波長に対して第１の光路長ＯＰ１かける群速度分散ＧＶＤ１は、第２の材料における波長に対して第２の光路長ＯＰ２かける群速度分散ＧＶＤ２に均衡しているので、前記第１及び第２のサブパルス１１、１２の分散の広がりは略等しい。これは、両方のサブパルスにより改善される後続する分散補償を容易にする。
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【課題】小型化が容易なパルス幅変換装置を提供する。
【解決手段】透過型回折格子２０へ一定の入射角で入力された入力光パルスＰｉは、波長毎に分光されて当該波長に応じた出射角で出力され、反射鏡４１，４２，４３により順次に反射された後、透過型回折格子２０へ波長に応じた入射角で入力されて、透過型回折格子２０から一定の出射角で出力される。透過型回折格子２０から一定の出射角で出力された各波長成分の光は、直角プリズム４０により光路が折り返され、透過型回折格子２０へ一定の入射角で入力されて波長に応じた出射角で出力され、反射鏡４３，４２，４１により順次に反射された後、透過型回折格子２０へ波長に応じた入射角で入力される。透過型回折格子２０へ波長に応じた入射角で入力された光は、透過型回折格子２０により合波されて出力光パルスＰｏとして出力される。 （もっと読む）

【課題】改善されたフィルファクタを備えたビームを結合するためにファイバ増幅器の端部を先細のファイバ束へと結合する高出力ファイバレーザ増幅器を提供する。
【解決手段】信号ビームを生成する主発振器を含むファイバレーザ増幅器システム。スプリッタは信号ビームを複数のファイバビームへと分割し、別個のファイバビームがファイバビームの増幅のためにファイバ増幅器に送られる。先細のファイバ束は、すべてのファイバ増幅器のすべての出力端部を、結合した出力ビームを提供する組み合わされたファイバへ結合する。端部キャップは、出力ビームを拡張するために先細のファイバ束の出力端部に光学的に結合される。 （もっと読む）