【課題】ワークを分割するために必要な深さ分の変質層やレーザ加工溝を、より少ない回数のレーザ光線の照射によって加工処理時間を短縮させて効率よく形成できるようにする。
【解決手段】光を発する光源と、加工対象となるワーク１に光を集光する集光器と、を含み、ワーク１に加工を施すためのレーザ加工用光学装置であって、光を、多波長かつコヒーレントな多波長コヒーレント光１１３とし、集光器は、この多波長コヒーレント光１１３をその光軸に沿って波長毎に異なる位置に集光点を形成するようにすることで、光軸上でワーク１内部の範囲Ｌに、多波長コヒーレント光１１３に含まれる波長毎に複数の集光点を存在させ、１回のパルスレーザの照射で、ワーク１の内部に深さ方向に範囲Ｌに亘って長い改質層を形成できるようにした。 （もっと読む）

【課題】レンズ等に不具合が生じて交換を必要とするようになった場合には、レンズとレンズホルダの全体を交換しなければならなかった。
【解決手段】対物レンズユニット２とカバー部材と固定部材とを設けて対物レンズユニット冷却装置を構成した。対物レンズユニットは、レーザ光が透過される一以上の対物レンズと、一以上の対物レンズを保持するレンズホルダとを有し、レーザ光が透過されることにより発熱を生じる。カバー部材は、内筒カバー３４と外筒カバー３５を有し、両カバー間に設けた外側流路４８及び内筒カバー３４と対物レンズユニット２との間に設けた内側流路４１をあけて対物レンズを覆う。固定部材には、対物レンズユニットとカバー部材が固定され、対物レンズユニットと固定部材との固定部及びカバー部材と固定部材との固定部を、互いの接触面を密着させると共にねじ部でねじ結合する。これにより、流路に冷却媒体を流す通常の媒体圧力の下において、冷却媒体の漏れを生じない嵌合状態として固定した。 （もっと読む）

【課題】 角膜を切開するのに十分なエネルギーを示し、１５６５ｎｍないし１６２５ｎｍの波長範囲で動作するエルビウム添加ファイバに基づくサブピコ秒レーザを提供すること。
【解決手段】 本発明は高エネルギーサブピコ秒パルスを増幅するチャープパルス増幅ファイバレーザ（１０）に関し、レーザは発振器（１）と、ファイバ伸張器（３）と、エルビウム添加又はエルビウム−イッテルビウム共添加光ファイバ部（４、７）、及び出力増幅器光ファイバ（７）に結合することにより光学的ポンピングを行うのに適したポンプ（８）を備える一つ以上の前置増幅段並びに一つの出力増幅段と、圧縮器（９）とを備える。本発明によれば、出力段のポンプ（８）は１５３０ｎｍないし１５６５ｎｍの範囲にある少なくとも一つのポンプ波長λ_Ｐを発生させ、レーザパルス（２０）の放射波長は１５６５ｎｍないし１６２５ｎｍの範囲にあり、レーザパルス（２０）のエネルギーは１０ｎＪないし数１０μＪの範囲にある。本発明はまたそのようなレーザを含む眼科手術用用具を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高いパルス伸長率と圧縮率を有する生産性の良いファイバチャープパルス増幅器システムを提供することにある。
【解決手段】 短光パルスを発生する種パルス光源、パルスを伸長する伸長器、及び複数の鎖状につながった偏光を保持しているファイバ区分とからなり、その偏光保持ファイバの少なくとも１つは増幅器であるチャープパルス増幅システムにより、課題が達成される。 （もっと読む）

【課題】簡素な構造を保ちつつ、戻り光を低減可能なファイバレーザ装置、レーザ加工装置、及びレーザ加工方法を提供する。
【解決手段】励起光を放出可能な励起光源と、希土類元素が添加されたコアを有し、前記希土類元素が前記励起光を吸収して入射レーザ光を増幅可能なアクティブファイバと、前記アクティブファイバの一方の端部と接続され、前記励起光を前記アクティブファイバへ入射可能なコンバイナと、前記アクティブファイバの他方の端部からの出射レーザ光を伝送し且つ被照射体に向けて照射可能な伝送用ファイバと、前記他方の端部と前記伝送用ファイバとの間に設けられ、前記被照射体からの散乱光及または反射光の少なくともいずれかの一部を分岐して外部に放出することにより前記他方の端部へ向かう戻り光を低減可能なディバイダと、を備えたことを特徴とするファイバレーザ装置、レーザ加工装置、及びレーザ加工方法が提供される。 （もっと読む）

本発明は、特に干渉回路（１５）を使用するヘテロダインサーボ回路により無線周波数を制御するレーザー放射デバイス（１）が設けられたレーザーシステムに関する。前記干渉回路は、前記レーザー放射光の周波数を訂正するための基準を提供する光ファイバー（１７）のコイルを備える。スペクトル純度のフィールドにおいて良好な結果を得るために、レーザー放射に関与する要素のすべてはファイバーであり、それらの接続部は光ファイバーによって提供されている。本発明は、高いスペクトル純度を必要とするレーザーに対して使用できる。
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【課題】光伝送装置の種々の光学要素の相対的位置関係のずれを補償して上記装置に所望の目的を達成させることができる簡易な構成の光伝送装置を提供することである。
【解決手段】光伝送装置１０は、主光軸ＭＡと基端１２ａと末端１２ｂとを含む主光学系１２と、主光学系に計測光ビームＫＢを投入し主光学系の主光軸ＭＡに沿い伝送される主光ビームＭＢから独立して上記主光軸と平行に上記計測光ビームを伝送させ主光軸に沿った所定の位置から上記計測光ビームを主光学系から離れさせる副光軸ＫＡを形成し主光学系から離れた後の計測光ビームの位置の変化により上記主光軸の位置ずれを計測する計測光学系１４と、計測光学系により計測された上記主光軸の位置ずれに対応して上記主光軸の位置ずれを解消するよう主光学系を制御する位置ずれ補正制御系１６と、を備えたことを特徴としている。 （もっと読む）

周波数調整可能またはチャープレーザーデバイスが記述され、これは、複数の光学部品から形成されるレーザーキャビティを含む。光学部品は、光線を生成するためのレーザー光源（２０、１８０、２２２、２４０）、スペクトル調整要素（２８、４２、１８８、２３０、２４４、３００）、および、光線をスペクトル調整要素（２８、４２、１８８、２３０、２４４、３００）に向けるための１つ以上のさらなる光学部品（２２、２４、２６、３０、３２、６４、６０、１８４,１９４,１９５,１９８、２２０、２３２、２３４、２４２、２４６、２４８）を含む。複数の光学部品（３４、６４、１９５、２３２、２４２）の少なくとも一つは、第１の自由度（３４；R；２５０）で可動であり；その動き（２８、４２、１８８、２３０、２４４、３００）により、同時にレーザーキャビティの有効光路長およびスペクトル調整要素の調整周波数を変更する。デバイスの有効光路長、および、調整周波数は、前記少なくとも一つの可動の光学部品（３４、６４、１９５、２３２、２４２）の前記第１の自由度以外の自由度のどのような動きにも実質的に反応しない。このことは、モードホッピングが抑制される周波数調整を提供する。
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外部キャビティ１次元多波長ビームコンバイナは、複数のレーザアレイから形成されたレーザスタックの積層次元に沿って多波長ビーム結合を行ない、各レーザアレイは、固有波長を有する光放射を発生させるように構成され、複数のレーザアレイの各々は、レーザスタックのアレイ次元に沿って配置された複数のレーザエミッタを含む。多波長ビームコンバイナは、レーザエミッタの遅軸に沿って各々のレーザエミッタを結像するように構成されたシリンドリカル望遠鏡と、複数のレーザアレイの各々からの光放射を遮って、レーザスタックの積層次元に沿って光放射を結合して多波長光ビームを形成するように配置された変換レンズと、光放射の重なり領域に位置して多波長光ビームを受けるとともに透過させる回折素子とを含む。
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【課題】より小型化を可能とするファイバレーザ発振装置、及びファイバレーザ発振装置をより小型化するためのファイバレーザ用ＮＡ変換光学系を提供する。
【解決手段】ファイバレーザ用光ファイバＦ２は、励起光Ｌ１を内部に閉じ込めることが可能な径で円状に巻回されている。励起光源モジュール１０は、巻回されたファイバレーザ用光ファイバの中央部近傍に配置されて、ファイバレーザ用光ファイバの前記円を横切るように励起光Ｌ１を出射する。ファイバレーザ用ＮＡ変換光学系３０は、励起光Ｌ１を反射するとともにレーザ光Ｌ２を透過する選択反射ミラー３５と第１レンズ３１と第２レンズ３２とで構成され、選択反射ミラーは、円状に巻回されたファイバレーザ用光ファイバに接する方向に励起光の進行方向がなるように所定角度で配置され、選択反射ミラーとファイバレーザ用光ファイバの端面との間に、第１レンズと第２レンズとが配置されている。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、高い熱負荷状態において、可飽和吸収体を安定して連続的に使用することができる。
【解決手段】可飽和吸収体（ＳＡ）装置３３は、自励発振光や寄生発振光あるいは戻り光のような微弱な光を吸収するために、レーザビームライン中に設けられる。ＳＡガスボンベ３３４（１）からのＳＡガスとバッファガスボンベ３３４（２）からのバッファガスとは混合されて、混合ガスとなる。混合ガスは、供給管路３３３（１）を介して、ＳＡガスセル３３０に供給され、レーザ光Ｌ１に含まれる微弱光を吸収する。混合ガスは、排出管路３３３（２）を介して排出され、熱交換器３３２に送られる。熱交換器３３２で冷却された混合ガスは、循環ポンプ３３１（１）により、再びＳＡガスセル３３０に送られる。 （もっと読む）

開示する主題の態様は、プリズムの第１の反射面上にある第１の入射点と、プリズムの第１の反射面及び第２の反射面の間に形成されて面取り面を有する面取りコーナとの間の第１の距離を増大する段階、プリズムの第２の反射面上にある第２の入射点と面取りコーナの間の第２の距離を増大する段階、及びプリズムの面取りコーナの面取り面の反射率を増大する段階のうちの少なくとも１つから構成されるビーム反転器プリズムのレーザ吸収を低減する方法を含む。光学構成要素のプライムカットを判断する方法も開示する。少なくとも１つのプライムカット光学構成要素を含むレーザも開示する。 （もっと読む）

レーザ制御システムは、発振器ガスチャンバ及び増幅器ガスチャンバを収容する。第１の電圧入力は、発振器ガスチャンバ内の電極の第１の対及び増幅器ガスチャンバ内の電極の第２の対に電気パルスを送出するように作動的に接続される。ガスチャンバの出力は、台形ウィンドウにより計算されたエネルギ線量である。制御回路は、第１の電圧入力を変更するために第１の電圧入力に接続される。フィードバック制御ループは、第１の電圧入力を変更するために制御回路にガスチャンバの出力を通信する。 （もっと読む）

本発明は、単色Ｘ線を生成するための高速ピコ秒パルス化レーザと共に使用し得る、ファブリーペロ型の増幅光共振器に関する。本発明は、平均出力Ｐ_ＭＯＹで高い安定性を有する強力集束されるポンプ化レーザビームを得るために使用し得るファブリーペロ型の増幅光共振器に関する。本発明は、より具体的には、高速ピコ秒ポンプ化レーザビーム（１２）と同期電子ビームとの間のＣＯＭＰＴＯＮ反応によって単色Ｘ線を生成するためのファブリーペロ型の増幅光共振器（４０）に関し、共振器は真空下に配置し得る閉塞囲壁（４２）を含み、閉塞囲壁を通じて電子ビーム管（４６）が延び、囲壁（４２）は、レーザビーム入力手段と、２つの平面光反射器（Ｍ１，Ｍ２）を維持し且つ位置決めするための手段と、相互作用地点で電子ビームと集束し得る２つの球面光反射器（Ｍ３，Ｍ４）を維持し且つ位置決めするための手段とを含む。光反射器（Ｍ１乃至Ｍ４）を維持し且つ位置決めするための手段は、光反射器（Ｍ１乃至Ｍ４）が四面体の頂点を実質的に定めるよう配置される。

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【課題】被加工物上に得られるレーザビームスポットのパワー密度分布特性を改善すること。
【解決手段】このレーザ加工装置は、加工用のレーザ光ＬＢを発振出力するレーザ発振器１０と、レーザ発振器１０から所望のレーザ加工場所までレーザ光ＬＢを伝送する伝送用光ファイバ１４と、レーザ加工場所でレーザ光ＬＢを被加工物Ｗに向けて集光照射するレーザ出射ユニット１６とを有する。レーザ出射ユニット１６のケーシング１６ａには、ファイバ心線３０のみからなるファイバ・コイル部３２およびファイバ終端部３４と、イメージリレー光学系３６が設けられている。 （もっと読む）

本発明は短レーザーパルス発生装置に関する。当該装置は：レーザービームを発生及びフィルタリングする手段(2,9)であって、入力レーザーパルスを供する入力レーザービーム(3)を発生させるように備えられているレーザービームを発生及びフィルタリングする手段(2,9)；非線形の分散性材料を有する透明薄片(4)であって、前記レーザービームを発生する手段が、自己位相変調によって前記入力レーザーパルスのスペクトルを広げるように備えられていることで、広いスペクトルのレーザーパルス(5)を発生させる透明薄片(4)；短レーザーパルス(7)を発生させるため、前記広いスペクトルのレーザーパルスを短縮するように備えられる短縮手段(6)；を有し、前記レーザービームを発生する手段は、前記入力レーザービーム(3)が前記透明薄片(4)上で空間的に均一で、かつ前記入力レーザービーム(3)が前記透明薄片(4)を通過するときに3未満の積分Bを有する、ことを特徴とする。

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【課題】増幅器ファイバの分散勾配の整合、および非線形性の複雑なバランスの調整を容易にするファイバ伸張器、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】ファイバ伸張器はコア領域、内側の溝領域、環状領域、外側の溝領域、および外側のクラッド領域を含む。コア領域は屈折率ｎ_１、屈折率がｎ_０である外側のクラッド領域について正の有効屈折率差Δｎ_１を有し、内側の溝領域はコア領域を取り囲み、屈折率ｎ_２、負の有効屈折率差Δｎ_２を有する。環状領域は溝領域を取り囲み、ｎ_３、正の有効屈折率差Δｎ_３を有し、外側の溝領域は環状領域を取り囲み、屈折率ｎ_４、負の有効屈折率差Δｎ_４を有する。外側のクラッド領域は外側の溝領域を取り囲む。各部位の外側半径、Δｎ_１、Δｎ_２、Δｎ_３、Δｎ_４の値がファイバに負の分散を持たせ、かつ選択された動作波長帯の中の特定の波長において０．００５ｎｍ^−１よりも大きい相対分散勾配を持たせる。さらに伸張器は、第二のファイバと組み合わせて使用されてもよい。 （もっと読む）

【課題】 高調波パルスレーザ光をビームスプリッターで２分割し、一方のレーザビームを遅延光路手段に通して再度元のレーザビームと重畳して周波数を倍増する波長変換レーザ装置において、元のレーザビームのポインティングが変動しても、分割ビームの合流点では両ビームのポインティングおよびビーム径を一致させることができ、遅延合成したレーザビームの品質が安定し、安定性の高いレーザ加工が実現できる波長変換レーザ装置を得る。
【解決手段】 遅延光路手段１００によるビームスプリッター２のレーザビームの分岐点から合流点までの光路長を４ｆとした場合、遅延光路手段１００を通過するレーザビームの光路上に焦点距離ｆの２つのレンズ４１，４２を配置するとともに、その２つのレンズ間の光路長を２ｆとすることで、遅延光路手段１００においてレーザビームの分岐点と合流点を像転写接続する。 （もっと読む）

【課題】ＭＯＰＯ方式の高安定性、高出力効率、細い線幅である利点を活かしつつ、空間コヒーレンスを低くした半導体露光装置用に適した２ステージレーザ装置を提供する。
【解決手段】露光用２ステージレーザ装置において、発振段レーザ５０として発振レーザ光に発散を有するものが用いられ、増幅段レーザ６０は入力側ミラー１と出力側ミラー２とからなるファブリペローエタロン型共振器を備え、その共振器は安定共振器を構成する。 （もっと読む）

システム及び方法は、レーザ加工システムにおいて後方反射を低減するか、または阻止する。レーザ加工システムは、入射レーザビームを発生するレーザ源と、前記入射レーザビームを加工表面に向けるレーザビーム出力部と、前記加工表面とほぼ垂直である第１の伝播軸に沿って前記入射レーザビームを受光するレンズとを含む。前記レンズは、前記第１の伝播軸とほぼ平行であって、且つその伝播軸から偏位されている主軸を含む。前記レンズは、前記入射レーザビームを、前記加工表面とは直角ではない角度を成す第２の伝播軸に沿って、前記加工表面に集束させて、前記加工表面からの反射レーザビームの少なくとも大部分が前記レーザビーム出力部に戻らないように構成される。 （もっと読む）