【課題】従来透明タッチパネルに要求されていた筆記耐久性および透明タッチパネル端部領域での筆記耐久性（端押し耐久性）を向上させた透明タッチパネルを得るための透明導電性積層体及びこれを用いた透明タッチパネルを提供すること。
【解決手段】透明有機高分子基板上の少なくとも一方の面上にラテックスを１０重量％以上含有するラテックス含有樹脂層、実質的にラテックスを含有しない硬化樹脂層−１、透明導電層が順次積層され、ラテックス含有樹脂層の膜厚ｄ１、硬化樹脂層−１の膜厚ｄ２がそれぞれ１０μｍ以下であり、更に０．１≦ｄ２／ｄ１≦２．０である、透明導電性積層体及び該透明導電性積層体を用いた透明タッチパネル。 （もっと読む）

【課題】 導電性に優れた、かつ導電性の経時安定性が高く、青味の少ない透明微粉末とその製造方法、および該粉末を含む分散液および塗料を提供する。
【解決手段】 窒素を１〜５００００ppm含有し、好ましくは、ＢＥＴ比表面積１〜２００m²/gまたは一次粒子径１〜５００nm、粉末のＬ値５０〜８３、ａ値−２〜＋２、ｂ値−６〜＋７、体積粉体抵抗率１０^-1〜１０⁴Ω・cmである金属酸化物微粉末、例えば、酸化スズ粉末からなり、微粉末表面に０.０１〜１０％のカーボン量を有し、環境加速試験の体積粉体抵抗率の変化量が５０倍以下、好ましくは１０倍以下である透明導電性微粉末。 （もっと読む）

【課題】 透明性およびペン入力耐久性に優れ、かつ高温高湿信頼性を満足する透明導電性フィルムを提供することを課題する。


【解決手段】 透明なフィルム基材４の上に、ＳｎＯ₂ ／（ＳｎＯ₂ ＋Ｉｎ₂ Ｏ₃ ）が２〜６重量％であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第１の透明導電性薄膜１と、ＳｎＯ₂ ／（ＳｎＯ₂ ＋Ｉｎ₂ Ｏ₃ ）が６重量％を超え、２０重量％以下であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第２の透明導電性薄膜２とが、この順に形成されてなり、上記第１の透明導電性薄膜１の厚さｔ₁ と第２の透明導電性薄膜２の厚さｔ₂ とが、（１）ｔ₁ ＝１０〜３０ｎｍ、（２）ｔ₂ ＝ ５〜２０ｎｍ、（３）ｔ₁ ＋ｔ₂ ＝２０〜３５ｎｍの関係を有すると共に、上記第１の透明導電性薄膜１と第２の透明導電性薄膜２とがいずれも結晶膜であることを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン化銀写真感光材料に露光と現像処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部を活性化液で処理した後めっき処理又は物理現像処理して得られる導電性膜であって、該活性化液が現像処理中に現像銀表面中に形成されるハロゲン化物及び／又は硫化物を除去することを特徴とする透光性導電性膜。 （もっと読む）

【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。安価に大量生産できる透過性電磁波シールド膜及び導電性膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 ハロゲン化銀写真感光材料に現像処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部を貴金属化合物を含有する活性化液で処理した後めっき処理又は物理現像処理して得られる透光性導電性膜であって、該活性化液中の貴金属化合物濃度Ｄ（ｇ／Ｌ）、活性化浴の処理時間ｔ（ｍｉｎ）及び温度Ｔ（℃）が３≦ＤｔＴ≦１０を満たすことを特徴とする導電性膜並びにそれらの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高電導度と高透光性の導電性膜を提供すること。高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する電磁波シールド膜を提供すること。安価に大量生産できる導電性膜、とくに透過性電磁波シールド膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料に露光と現像処理を施して金属銀部を形成し、続いて該金属銀部を活性化液で処理したのち１５秒以上１０分以下の時間で無電解銅めっき処理を行うことにより厚さ１μm以上のめっき層を設けたことを特徴とする透光性導電性膜の製造方法。とくに一般式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）または（Ｄ）で表される特定のメルカプト又はチオン化合物を含むめっき液を用いる上記方法。 （もっと読む）

極細導電繊維の含有量を少なくして透明性を向上させても良好な導電性を発揮でき、極細導電繊維の含有量を増やしても透明性を低下させない導電性成形体を提供する。樹脂やガラス等よりなる基材１の少なくとも片面に、極細導電繊維を含んだ透明な導電層２を形成した導電性成形体Ｐであって、導電層２が、極細導電繊維が凝集することなく分散して互いに接触しているか、或は、それぞれの繊維が分離した状態で若しくは繊維の束が分離した状態で分散して互いに接触している導電性成形体Ｐとする。
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【課題】 高い電磁波シールド性と高い透明性とを同時に有する導電性膜を製造することができ、かつ、圧力性が改善された導電性膜形成用感光材料を提供すること。
【解決手段】 支持体上に銀塩乳剤を含む乳剤層を有し、前記乳剤層を露光して現像処理を施し、さらに物理現像および／またはメッキ処理を施すことにより導電性膜を製造可能な導電性膜形成用感光材料であって、
前記乳剤層が実質的に最上層に配置され、前記乳剤層に酸化防止剤を含有することを特徴とする導電性膜形成用感光材料。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬディスプレイデバイスに用いられた場合に、有機ＥＬ素としての寿命を十分に長くでき、且つ、基板のフレキシビリティ性、基板の耐久性や強度にも十分満足できる有機ＥＬディスプレイデバイス用の基板を提供する。
【解決手段】 透明フィルム基材の一方の面側に、無機化合物層と有機化合物層を積層して、その最表面にＩＴＯ層からなる電極層を配設しているフレキシブル透明電極基板であって、ＩＴＯ層は、無機化合物層を介して配設され、前記透明フィルム基材の他方側にも、無機化合物層を配設しているものであり、且つ、前記ＩＴＯ層は、Ｘ線回折法における、その［２２２］面に相当するピークの半価幅が、０．９５度以上、１．４０度以下である。 （もっと読む）

【課題】表面抵抗が小さく、充分な熱線反射機能を有する透明導電フィルムを提供しようとするものである。
【解決手段】本発明は、透明な基材フィルム２と、基材フィルム２の表面にスパッタリングにより順次積層形成された、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）からなる第１導電層３１、Ａｇ（銀）からなる第２導電層３２、ＩＴＯからなる第３導電層３３とを有する。第１導電層３１の膜厚は５〜１００ｎｍであり、第２導電層３２の膜厚は５〜５０ｎｍであり、第３導電層３３の膜厚は５〜１００ｎｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】タッチパネルに用いた際に、透明性、干渉縞（虹彩状色彩）の抑制に優れ、かつタッチパネルの製造工程における熱処理でもカールが生じない、透明導電性フィルム及びこれを用いたタッチパネルを提供する。
【解決手段】塗布層を有する基材フィルムと、該基材フィルムの塗布層面にハードコート層を、他面に透明導電性薄膜を積層してなる透明導電性フィルムであって、前記の基材フィルムが、水性ポリエステル樹脂（Ａ）と、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物、水溶性のジルコニウムキレート化合物、または水溶性のジルコニウムアシレート化合物の少なくとも１種（Ｂ）とを主たる構成成分とし、（Ａ）／（Ｂ）の混合比（質量比）が１０／９０〜９５／５である水系塗布液を塗布、乾燥した後、少なくとも一方向に延伸された塗布層を有する二軸延伸ポリエステルフィルムである透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】有機高分子成型物からなる基板上に、透明性および加湿熱信頼性にすぐれるとともに、比抵抗が低すぎることのない、完全結晶化してなる透明導電層を有する透明導電積層体を提供する。
【解決手段】有機高分子成型物からなる基板上に、Ｓｎ原子の量が、Ｉｎ原子とＳｎ原子とを加えた重さに対し、１〜６重量％であるＩｎ・Ｓｎ複合酸化物からなる、膜厚が１５〜５０ｎｍ、ホール移動度が３０〜４５cm² ／Ｖ・Ｓ、キャリア密度が（２〜６）×１０²⁰個／cm³ である、完全結晶化している透明導電層を有することを特徴とする透明導電積層体。 （もっと読む）

【課題】透明導電性物質層をイオンビームアシスト真空蒸着法によって成膜する場合、厳密な成膜速度の制御が難しいため、安定して高い導電性を得ることが難しかった。
【解決手段】イオンビーム量を、透明導電性物質層が着色しない範囲で連続的に変化させることで屈折率傾斜膜として、一つの透明導電性物質層の中に、最適な成膜速度とイオンビーム量の関係で成膜された膜厚部分を作ることを特徴とする光学薄膜を提供する。 （もっと読む）

本発明は、側壁基を機能化して、塗布されたカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）ネットワークを変化させ、ナノチューブの導電性に影響を与えることによってカーボンナノチューブ透明導電性被覆物／フィルムをパターン化する方法を対象とする。化学修飾を受けて生じた領域は、変化されていない領域より、高い又はより低い導電性を有する。これにより、パターン化されたフィルムが得られ、前記パターンは、電極、画素、ワイヤ、アンテナ又はその他の電気部品を形成するように成形される。更に、化学修飾されたＣＮＴの領域は、それらの元の導電状態に戻すことが可能であり（即ち、可逆で反復可能）、又はこれを固定化して、不変のパターンを得ることもできる。 （もっと読む）

【課題】表面抵抗が小さく、表面エネルギーが大きい透明導電フィルムを提供することができる。
【解決手段】基材フィルム２と基材フィルム２の表面に形成したＩＴＯからなる透明導電層３とを有する透明導電フィルム１。透明導電層３における基材フィルム２と反対側の表面３１には、ＩＴＯ以外の金属酸化物からなる金属酸化物層４が形成されている。金属酸化物層４は、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂、ＳｉＯＮ、ＴｉＯＮのいずれか一種以上からなることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は十分に高透明である透明導電膜付透光性基板を提供することを目的とし、それは透光性基板上に膜厚が１２〜２ｎｍの連続する透明導電膜を形成してなる透明導電膜付透光性基板であり、好ましくは、透明導電膜が柱状単結晶の集合体であり、透明導電膜の最大表面粗さが１〜２０ｎｍの範囲であり、透明導電膜の平均表面粗さが０．１〜１０ｎｍの範囲であり、透明導電膜は錫ドープ酸化インジウムの薄膜であり、錫ドープ酸化インジウムの薄膜中にスズ原子が均一に分布しており、波長４００ｎｍの光に対する透過率が８８％以上であり、波長３５０ｎｍの光に対する透過率が８５％以上であり、全光線透過率が９０％以上である透明導電膜付透光性基板である （もっと読む）

【課題】透明タッチパネルを高精細ディスプレイ上に設置しても、チラツキによる視認性劣化を起こさず、且つ透明タッチパネルを構成する２枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できること。
【解決手段】透明高分子基板の少なくとも片面上に凹凸を有する硬化樹脂層を配し、かつこの硬化樹脂層の上に、直接または他の層を介して透明導電層を設けてなる透明導電性積層体。この硬化樹脂層は、平均一次粒子径が０．５〜５μｍの微粒子Ａと、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる超微粒子Ｃとを含む。上記透明導電性積層体は、０．２５ｍｍの光学くしを使用した場合の透過法で測定した像鮮明度が１０％以上６０％以下である。 （もっと読む）

【課題】透明タッチパネルを高精細ディスプレイ上に設置しても、チラツキによる視認性劣化を起こさず、且つ透明タッチパネルを構成する２枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できること。
【解決手段】透明高分子基板の少なくとも片面上に凹凸を有する硬化樹脂層を配し、かつこの硬化樹脂層の上に、直接または他の層を介して透明導電層を設けてなる透明導電性積層体。この硬化樹脂層は、平均一次粒子径が０．５〜５μｍの微粒子Ａと、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる超微粒子Ｃとを含む。上記透明導電性積層体は、０．２５ｍｍの光学くしを使用した場合の透過法で測定した像鮮明度が２５％以上７５％以下である。 （もっと読む）

【課題】簡単で迅速に製造が可能で、且つ反射防止性及び帯電防止性に優れたＦＥＤ用反射防止フィルを提供すること。
【解決手段】透明基板の一方の表面に反射防止膜が、他方の表面に透明導電層が設けられ、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルム；及び一方の表面に反射防止膜が設けられた透明基板と、一方の表面に透明導電層が設けられ別の透明基板との、２枚の透明基板が、該膜形成されていない表面と該層が形成されていない表面同士で接着されてなる積層体であって、且つ該透明導電層が塗工により形成された層であることを特徴とする電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムＦＥＤ用反射防止フィルの製造方法、及び電界放出型ディスプレイ用導電層付き反射防止フィルムが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされた電界放出型ディスプレイ。 （もっと読む）

本発明は、透明性、導電性に優れた有機導電性ポリマー組成物、透明導電膜及び透明導電体、並びに、長期間の繰返し使用にも抵抗劣化せず信頼性及び寿命を飛躍的に向上させた入力装置及びその効率的な製造方法の提供を目的とする。 前記有機導電性ポリマー組成物は、ポリチオフェン誘導体ポリマーと、水溶性有機化合物（窒素含有有機化合物を除く）と、ドーパントとを少なくとも含む。前記入力装置の製造方法は、透明基体上に前記有機導電性ポリマー組成物を用いて透明導電膜を形成し、該透明導電膜における対向する端部に、一対の第一電極を該透明導電膜に電気を導通可能に対向配置させて第一導電体を製造する第一導電体製造工程と、基体上に導電膜を形成し、該導電膜における対向する端部に、一対の第二電極を該導電膜に電気を導通可能に対向配置させて第二導電体を製造する第二導電体製造工程と、該第一導電体と該第二導電体とを互いに直交する方向に配置して貼り合わせる貼り合せ工程とを含む。
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