【課題】ＩＴＯがアモルファスとなる成膜温度で、低抵抗で表面が平坦なＩＴＯ透明導電膜を、膜剥がれを起こさずに安定して形成するための形成方法、それによって形成されたＩＴＯ透明導電膜、およびそれを形成するための形成装置を提供する。
【解決手段】ＩＴＯ透明導電膜の形成装置１００は、レーザー光Ｌの照射機構を備えており、真空チャンバー１内で、スパッタリング法によりＩＴＯの薄膜を形成する成膜工程と、薄膜にレーザー光Ｌを照射するレーザー光照射工程とを繰り返えすことによりＩＴＯ透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】好ましい透明性及び導電性を有する透明導電性積層体、及び塗布法によってこのような透明導電性積層体を得る方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電性積層体は、透明基材３、この透明基材上に堆積している透明導電性膜を有する。ここで、透明導電性膜は、第１の導電性金属酸化物の粒子２０の層、及びこの層中に存在している第２の導電性金属酸化物４、４’を有する。また、第２の導電性金属酸化物４、４’は、第１の導電性金属酸化物の粒子の層２０中において金属化合物を焼成して得られた金属酸化物である。また更に、第２の導電性金属酸化物４、４’は、第１の導電性金属酸化物の粒子の層２０の、透明基材３とは反対の表面側に偏在しており、且つ／又は第２の導電性金属酸化物４、４’は、第１の導電性金属酸化物の粒子の層２０中に分散している金属化合物を、溶解させ、再析出させ、そして焼成して得られた導電性金属酸化物である。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜のヘイズ率を高くしても、その表面の表面粗さの上昇を抑制できる透明導電膜付きガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス板１１と、ガラス板１１上に形成された透明導電膜１５と、を備え、透明導電膜１５が透明導電層（透明導電層Ａ）１３と透明導電層（透明導電層Ｂ）１４を有し、透明導電層Ｂ１４が透明導電層Ａ１３の上に形成され、透明導電膜１５が複数の空孔１３ａ（１３ｂ）を含み、複数の空孔１３ａ（１３ｂ）の各々が、透明導電層Ａ１３の表面における凹部１３ｈを透明導電層Ｂ１４塞いだものである、透明導電膜付きガラス板１０、を提供する。透明導電膜ガラス板１０は、透明導電層Ａ１３の表面の一部の領域をエッチングによって膜厚方向に後退させるとともに、当該一部の領域を塞ぐように透明導電層Ａ１３の上に透明導電層Ｂ１４を形成することで得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 低抵抗でかつ高透過率な透明電極膜を簡易な工程で製造する方法を提供すること。
【解決手段】 基体上に透明導電膜を形成する熱ＣＶＤ（化学気相成長）法であって、固体原料（Ｒ）を直接加熱により気化させる工程（Ｓ１）と発生した原料ガスを加熱基体に堆積させる工程（Ｓ２）により透明導電性酸化スズ（ＳｎＯ_２）膜（Ｐ）を得ることができる。この方法は、スプレーノズルや真空設備等を必要とせず大気下で成膜可能であり、簡易設備での高品位な導電性酸化スズ膜の製造を可能にする。 （もっと読む）

【課題】優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の成膜を可能にする酸化亜鉛系透明導電膜形成材料、その製造方法、それを用いたターゲットおよび酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 実質的に亜鉛、チタン、酸素および窒素からなる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料であって、該透明導電膜形成材料は、チタンが原子数比でＴｉ／（Ｚｎ＋Ｔｉ）＝０．０２超０．１以下、窒素とチタンが原子数比でＮ／Ｔｉ＝０．１〜０．６となるよう含有されている酸化物混合体または酸化物焼結体であり、前記酸化物混合体が、酸化亜鉛相、低原子価酸化チタン相および窒化チタン相から構成され、前記酸化物焼結体が、酸化亜鉛相、チタン酸亜鉛相、窒化チタン相から構成される。 （もっと読む）

【課題】高真空容器を使用しない簡便な方法によって透明導電性非晶質膜を製造する方法、および導電性、透明性、及び表面平滑性が従来のスパッタリング法によって得られる膜と同等以上である透明導電性非晶質膜の提供。
【解決手段】亜鉛元素および錫元素を含む透明導電性非晶質膜の製造方法であって、加熱した基板に、亜鉛化合物および錫化合物を含有する霧状の溶液又は分散液を吹き付けて成膜することを特徴とする透明導電性非晶質膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】良好な可視光の透過率とある程度の電気抵抗を維持しながら、エッチング特性に優れた透明電極膜であり、この透明電極膜を形成するスパッタリングプロセスにおいて、ノジュールの形成や異常放電を少なくすることができるターゲットとなり、さらにターゲットの製造に際して、焼結性の高い粉体を供給するための粉砕工程において、粉砕メディア（ジルコニア）からの汚染（コンタミ）を無視できる組成のターゲットを提供する。
【解決手段】酸化インジウム中に酸化ジルコニウム５重量％（超）〜１０重量％含有することを特徴とする透明電極膜。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性、剛性、及び耐熱性に優れ、タッチパネルの加工工程での問題を解消することができる透明多層合成樹脂シート基材及び当該シートを基材として使用した透明導電膜シートを提供する。
【解決手段】曲げ弾性率が2.5 GPa以上である透明硬質樹脂層の両面にポリカーボネート樹脂層を有する、透明導電膜の基材用の透明多層合成樹脂シート、及び当該透明多層合成樹脂シートの表面に透明導電膜が形成された透明導電膜シート。 （もっと読む）

【課題】特定の透明導電性膜作製用塗布液を用いて簡便な塗布法にて優れた導電性を有する酸化チタン系透明導電性膜を形成する透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】チタン化合物およびニオブ化合物を含有した塗布液を、透明基板上に塗布し、塗布後２４時間以内に、還元雰囲気下にて加熱によるアニールを施して、ニオブがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を透明基板上に形成する酸化チタン系透明導電性基板の製造方法である。前記塗布液はチタン化合物、ニオブ化合物、無機酸、水およびアルコールを含有する。 （もっと読む）

【課題】成膜時に導入する酸素量が少なくても、低抵抗で高い光透過性を有する透明導電膜が安定して製造できる酸化物蒸着材と、この酸化物蒸着材を用いて製造される透明導電膜を提供すること。
【解決手段】この酸化物蒸着材は、酸化インジウムを主成分としSn／In原子数比で0.001〜0.614のスズを含む酸化物焼結体により構成され、CIE1976表色系におけるＬ^＊値が54〜75であることを特徴とする。Ｌ^＊値が54〜75である本発明の酸化物蒸着材は最適な酸素量を有するため、成膜真空槽への酸素ガス導入量が少なくても低抵抗で可視域における高透過性の透明導電膜を真空蒸着法で製造でき、酸素ガスの導入量が少ないため膜と蒸着材との組成差を小さくすることができ、量産時の膜組成の変動や特性の変動も低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】良好な光電変換効率を発揮するとともに、低コスト化が可能な色素増感型太陽電池を提供する。
【解決手段】透明導電性膜１が形成された透明基板２と、増感色素および酸化チタン系半導体を含有し透明導電性膜１と電気的に接続される光電極３とを備えた色素増感型太陽電池において、透明導電性膜１が、チタンがドープされた酸化亜鉛であり、原子価が（４−２Ｘ）価（Ｘ＝０．１〜１）で表される低原子価チタンのチタンドープ酸化亜鉛ターゲットを用いて、パルスレーザ堆積法（ＰＬＤ法）、イオンプレーティング法、スパッタリング法またはエレクトロンビーム（ＥＢ）蒸着法等の製膜方法により形成されている。 （もっと読む）

【課題】高い導電性を有し、光透過性導電性層と金属部との密着性が高く、生産性に優れた光透過性電極を提供する
【解決手段】光透過性支持体上に、導電性金属酸化物粒子および導電性高分子化合物の中から選ばれる少なくとも１種を含有する光透過性導電性層と、該光透過性導電性層上に開口部を有する金属部とを有する光透過性電極であって、該光透過性導電層が金属微粒子および／あるいは金属硫化物微粒子を含有することを特徴とする光透過性電極。 （もっと読む）

【課題】可撓性に優れ、かつ光透過性が高く低抵抗な導電シートを提供する。
【解決手段】可撓性を有する透明基材上に、透明導電性層を有することなく、まず開口部を有する、膜厚が０．５μｍ以下の金属膜が設けられ、少なくとも該開口部に透明導電性層を設けた光透過性導電シートであって、該開口部の中の任意の点から、最も近接する金属膜部までの距離が１００μｍ以下であるのが好ましく、また、該金属膜は、銀塩拡散転写法により形成される物理現像銀であると、より好ましい。 （もっと読む）

【課題】可視光透過率及び導電性に優れ、安価な透明導電膜を提供する。
【解決手段】一般式Ｍ_ＥＡ_ＧＷ_{（１−Ｇ）}Ｏ_Ｊ（但し、Ｍ元素は、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｎ、のうちから選択される１種類以上の元素、Ａ元素は、Ｍｏ、Ｎｂ、Ｔａ、のうちから選択される１種類以上の元素、Ｗはタングステン、Ｏは酸素、０＜Ｅ≦１.２、０＜Ｇ≦１、２≦Ｊ≦３）で表記される複合酸化物を含み、波長４００ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域で透過率の最大値が１０％以上９２％未満であり、膜の表面抵抗が１．０×１０^１０Ω／□以下である透明導電膜を提供する。 （もっと読む）

【課題】 優れた導電性と化学的耐久性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法は、パルスレーザ堆積法（ＰＬＤ法）により酸化亜鉛系透明導電膜を形成する方法であって、実質的に亜鉛、チタンおよび酸素からなる酸化物焼結体または酸化物混合体を加工してなるターゲットを膜形成材料とし、該膜形成材料中に含まれるチタンと亜鉛との原子数比がＴｉ／（Ｚｎ＋Ｔｉ）＝０．０２超０．１以下である。 （もっと読む）

【課題】簡便な工程で、帯電防止機能が高く且つ透明性に優れる透明導電膜を透明基板上に形成する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の製造方法は、導電性粒子と、樹脂と、前記樹脂を溶解可能で且つ沸点が１２０℃以上の溶剤とを含むコーティング組成物を作製する工程と、透明基板の上に、前記コーティング組成物をスプレーコーターにより塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜を乾燥して透明導電膜を形成する工程とを含むことを特徴とする。また、本発明の透明導電膜は、上記本発明の透明導電膜の製造方法によって形成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】これまでの透明電極付き基板では、表面粗さは基板に依存しており、その上に形成される下地層や透明電極層では表面粗さを制御できず、この為、ミクロンオーダー以下の凹凸の制御ができず、光学設計にも限界があった。
【解決手段】下地層として、一部または全部が粒子状の酸化ケイ素からなる層を用いることで、ナノレベルの凹凸の制御および屈折率の制御が可能となり、結果として透明電極付き基板の光学特性を大きく向上することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 優れた導電性と化学的耐久性と近赤外領域での高透過性とを兼ね備えた酸化亜鉛系透明導電膜の成膜を可能にする透明導電膜形成材料と、その製造方法およびそれを用いたターゲット、そのターゲットを用いる酸化亜鉛系透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 実質的に亜鉛と、銅と、アルミニウムまたはガリウムと、酸素とからなり、銅と、アルミニウムまたはガリウムと、亜鉛がそれぞれ原子数比で以下の関係を有する酸化物混合体または酸化物焼結体から構成される酸化亜鉛系透明導電膜形成材料である。
（a）Ｃｕ／（Ｚｎ＋Ｃｕ＋Ｍ）＝０．０１〜０．１０
（b）Ｍ／（Ｚｎ＋Ｃｕ＋Ｍ）＝０．０１〜０．１０
（c）（Ｃｕ＋Ｍ）／（Ｚｎ＋Ｃｕ+Ｍ）＝０．０２〜０．１０
（但し、ＭはＡｌまたはＧａを表わす。） （もっと読む）

【課題】本発明は、低抵抗および可撓性を併せ持つ電極を有する太陽電池用基板および太陽電池を提供すること、さらには酸による電極へのダメージを低減することが可能な太陽電池用基板および有機薄膜太陽電池を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成された透明電極層とを有する太陽電池用基板であって、上記透明電極層は、上記透明基板上に形成され、導電性金属酸化物を含有する非晶質膜と、上記非晶質膜上に形成され、上記非晶質膜に含有される上記導電性金属酸化物と同一の導電性金属酸化物を含有する結晶膜とを有することを特徴とする太陽電池用基板を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ｐ型の導電膜及びｐ型の透明導電膜としての酸化物膜の高性能化を図る。
【解決手段】
本発明の１つの酸化物膜は、ニオブ（Ｎｂ）、及びタンタル（Ｔａ）からなる群から選択される１種類の遷移元素と、銅（Ｃｕ）とを含む酸化物の膜（不可避不純物を含み得る）である。また、この酸化物膜は、図５の第１酸化物膜及び第２酸化物膜のＸＲＤ（Ｘ線回折）分析結果を示すチャートに示すように、ＸＲＤ分析では明確な回折ピークを示さない微結晶の集合体、微結晶を含むアモルファス状、又はアモルファス状であるとともに、ｐ型の導電性を有している。この酸化物膜によれば、従来と比してｐ型の高い導電性が得られる。また、この酸化物膜は、上述のとおり微結晶の集合体、微結晶を含むアモルファス状、又はアモルファス状であるため、大型基板上への膜の形成が容易になることから、工業生産にも適している。 （もっと読む）