【課題】表面抵抗率が高く、かつ表面抵抗率の材料内での場所による均一性が高く、メッシュ細線の視認性が低い透明導電性材料を提供することにある。
【解決手段】光透過性支持体上に表面抵抗率に寄与する金属細線からなるメッシュパターンと、該金属細線よりも電気抵抗が大きく実質的に表面抵抗率に寄与しない細線とで構成されるパターンを有する透明導電性材料。 （もっと読む）

【課題】導電性及び透明性に優れたパターン電極、および該電極を用いた有機電子デバイスを簡便に提供する。
【解決手段】透明支持体１０上に、金属繊維を含有する導電性金属層１を有し、更にπ共役系導電性高分子とポリアニオンを含んで成る導電性ポリマーおよび下記ポリマー（Ａ）を含有する導電性ポリマー層２とを有する透明パターン電極２０において、該導電性金属層と該導電性ポリマー層が、パターン像様の積層構造を有することを特徴とする透明パターン電極。
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【課題】高い導電性を有し、優れた光透過性を維持しつつ、耐熱性に優れた金属ナノワイヤー及びその製造方法、並びに透明導電体及びタッチパネルを提供すること。
【解決手段】本発明の金属ナノワイヤーは、銀と銀以外の金属とからなり１μｍ以上の長軸平均長さを有する金属ナノワイヤーであって、前記銀以外の金属が、銀よりも貴な金属であり、前記金属ナノワイヤーにおける前記銀以外の金属の含有量をＰ（原子％）とし、前記金属ナノワイヤーの短軸平均長さをφ（ｎｍ）としたとき、前記Ｐとφとが、下記式１の関係を満たすことを特徴とする。
０．１＜Ｐ×φ^０．５＜３０ （式１）
ただし、前記Ｐ（原子％）は、０．０１０原子％〜１３原子％であり、前記φ（ｎｍ）は、５ｎｍ〜１００ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】膜はがれを起こすことなく、透明性及び導電性が大幅に向上した導電膜及び該導電膜の製造方法の提供。
【解決手段】金属ナノワイヤー及び分散剤を含有する金属ナノワイヤー含有膜を作製する金属ナノワイヤー含有膜作製工程と、前記金属ナノワイヤー含有膜を浸漬液中に浸漬する浸漬工程とを含む導電膜の製造方法である。該浸漬液が、金属ナノワイヤー含有膜中の分散剤を溶解可能な溶媒である態様、前記浸漬液が、エタノール、エチレングリコール、メタノール及び水から選択される少なくとも１種である態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】透明性、導電性、及び、可撓性に優れ、しかもプラスチック基材に塗布成膜することが可能であり、さらには均一な塗膜が得られる導電性組成物の提供。
【解決手段】導電性高分子（Ａ）、ドーパント（Ｂ）、及び、下記一般式［１］で表される化合物（C）を含み、導電性高分子（Ａ）とドーパント（Ｂ）との総量１００重量部に対し、下記一般式［１］で表される化合物（C）を１から１００重量部含むことを特徴とする導電性組成物。
一般式［１］
Ｒ^１−Ｓｉ（ＯＲ^２）_３
（式中、Ｒ^１は、炭素数１〜６のアルキル基、フェニル基、ベンジル基、メトキシ基、または、エトキシ基を表し、Ｒ^２は、メチル基、または、エチル基を表す。） （もっと読む）

【課題】低コストかつ簡便な透明導電膜の製造方法である塗布法によって透明性と導電性を兼ね備えた透明導電膜を安定的に得ることができる透明導電膜形成用塗布液を用いて、透明導電性基板を製造する方法、およびこれにより得られた透明導電性基板を提供する。
【解決手段】チタン化合物、ニオブ化合物およびアルコールを混合して形成されるハロアルコキシチタンおよびハロアルコキシニオブを含む前駆体溶液を、透明基材上に塗布し、加熱処理後、還元雰囲気にてアニール処理し、ニオブがドープされた酸化チタン系透明導電膜を形成して酸化チタン系透明導電性基板を製造する。 （もっと読む）

本発明は、真空チャンバー（１）内で、基板（２）上で、ホスト材料及びドープ材料を含んだ透明で伝導性の層を堆積する方法であって、ホスト材料は、亜鉛酸化物又はインジウム酸化物からなり、かつドープ材料は、第３主族又は第４主族からの少なくとも１つの金属又は半金属の元素の酸化物を含む前記方法において、ＰＶＤ法を使用したホスト材料の堆積の間に、酸素及び前駆物質が真空チャンバー（１）内に供給され、前駆物質は、第３主族又は第４主族からの少なくとも１つの元素を含み、かつドープ材料の濃度が、勾配を有する層厚推移において形成される。本発明はさらに金属合金酸化物でできた透明で伝導性の層に関する。
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本開示は、低曇価透明導体およびインク組成物、ならびにこれらの作製方法に関する。本発明の透明導体は、複数の導電性ナノ構造体を含み、この透明導体の曇価は１．５％未満であり、光透過率は９０％を超え、シート抵抗は３５０オーム／スクエア未満である。本発明のインク組成物は、アスペクト比が少なくとも１０である導電性ナノ構造体の９９％超が長さ５５μｍ以下である複数の前記導電性ナノ構造体と、粘度調整剤と、界面活性剤と、分散流体とを含む。
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【課題】透過性および導電性を高めると共に下地材料へのダメージを小さくすることが可能な透明導電膜およびその製造方法、並びにこれを備えた電子素子および電子機器を提供する。
【解決手段】基材１０に導電性を有する透明樹脂を塗布し、平行格子状または交差格子状の凹部を有する型を透明樹脂の表面に配置して透明樹脂を硬化させ、凹部の形状を透明樹脂の表面に転写することにより、平行格子状または交差格子状の凸部２１を有する凹凸構造層２０を形成する。この凹凸構造層２０の表面の法線に対して斜め方向からＩＴＯなどの導電材料を成膜することにより、凸部２１の上面および側面に導電層３０を形成すると共に、凹凸構造層２０の凸部２１以外の領域に導電層３０が形成されない隙間３１を設ける。 （もっと読む）

【課題】透明導電体層がパターン化されており、かつ、見栄えの良好な透明導電性フィルムおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面または両面に、透明なフィルム基材から第一層目のアンダーコート層を有機物により形成する工程、前記アンダーコート層上に、スパッタリング法により透明導電体層を形成する工程、および前記透明導電体層を、エッチングしてパターン化する工程を有することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性が高く、温度や湿度による寸法変化や反りが小さく、透明性・低複屈折といったディスプレイ基板として良好な光学特性を有する積層フィルムを提供する。
【解決手段】厚さが５μｍ〜２００μｍの無機ガラスフィルムの両面に、高分子からなる厚さが０．０１μｍ〜１μｍの接着層、および耐熱性有機高分子からなる厚さが５μｍ〜２００μｍの保護層が順次塗布形成された厚さ方向に対称構造を持つ積層フィルムであって、
前記無機ガラスフィルムの厚さと、前記保護層の総厚さの比が０．２０〜１０、積層フィルムの全光線透過率が８５％以上、ヘーズが１％以下、積層フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内位相差（Ｒ）が０〜５ｎｍであり、且つ波長５５０ｎｍにおける厚さ方向の位相差（Ｒ_ｔｈ）が０ｎｍ〜５０ｎｍ
であることを特徴とする、電子部品の基板として適した積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】透明導電体層がパターン化されており、かつ、見栄えの良好な透明導電性フィルムを提供すること。
【解決手段】透明なフィルム基材の片面または両面に２層のアンダーコート層を介して、透明導電体層を有する透明導電性フィルムであって、前記透明導電体層はパターン化されており、かつ前記透明導電体層を有しない非パターン部には少なくとも１層のアンダーコート層を有し、かつパターン化された透明導電体層は、２層のアンダーコート層を介して設けられており、透明なフィルム基材から第一層目のアンダーコート層は、屈折率（ｎ）が１．５〜１．７であり、透明なフィルム基材から第二層目のアンダーコート層は、屈折率（ｎ）が１．４〜１．５である、ことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】誘電損失が小さく高い導電性を有する導電性要素およびその製造方法、並びに、その導電性要素を得るのに好適な導電性要素形成用感光材料を提供すること。
【解決手段】導電性要素は、支持体と、導電性金属で構成されたメッシュを含む金属メッシュ層と、バインダ量が０．２ｇ／ｍ^２以下の導電性微粒子含有層とを有する。この導電性要素は、支持体と、銀塩含有層と、バインダ量が０．２ｇ／ｍ^２以下の導電性微粒子含有層とを有する導電性要素形成用感光材料をメッシュ状にパターン露光および現像処理する製造方法により製造される。 （もっと読む）

【課題】可視光線透過率が高く、近赤外線遮蔽性に優れ、内部応力が小さいため高温・多湿な環境下でも変形しない透明導電膜及びそれを含むディスプレイフィルタを提供する。
【解決手段】本発明による透明導電膜は、透明基板上に第１屈折透明薄膜と金属薄膜とが繰り返し積層され、且つ第１屈折透明薄膜と金属薄膜との間に第１屈折透明薄膜よりも屈折率が低い第２屈折透明薄膜が積層されてなる透明導電膜であって、ここで、第２屈折透明薄膜は、その厚さが第１屈折透明薄膜の厚さに対して１０％以上、６５％以下で形成されることを特徴とする。 （もっと読む）

光照射を通して回折格子を用いて人間の眼に見える技術用途向けの色パターンを作成する方法において、ナノ秒範囲又はピコ秒若しくはフェムト秒範囲の少なくとも１つのレーザー装置によるレーザー微細構造化プロセスによって、固体表面上に回折格子アレイが直接生成される。各回折格子アレイは、長手方向寸法が眼の分解能力を下回る値を有する、スペクトル色を生成する限定された回折格子構造である少なくとも１つの画素８１、８２、８３を含む副領域８１で構成される。この色生成回折格子構造を固体表面に直接適用することによって、エンボス加工用具から宝石まで及ぶ多種多様な装飾及び認証の発展性が可能になる。
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【課題】ＰＥＴフィルム等の汎用高分子基板を用いることが可能であり、線幅、網目が細かく、ディスプレイ等に用いた場合には、モアレ等が生じない網目状の導電性膜を、簡易かつ安価に製造することができる製造方法、及び、導電性膜を提供する。
【解決手段】導電性微粒子を含む有機溶媒分散体を基板に塗布して網目状の導電性膜を製造する方法であって、該製造方法は、塗布された有機溶媒分散体を、塗膜表面で結露させながら有機溶媒を蒸発させる工程を含み、該有機溶媒分散体がノニオン性界面活性剤を必須成分とする網目状の導電性膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】成膜時に導入する酸素量が少なくても、低抵抗で高い光透過性を有する透明導電膜が安定して製造できる酸化物蒸着材と、この酸化物蒸着材を用いて製造される透明導電膜とこの透明導電膜を電極に用いた太陽電池を提供すること。
【解決手段】この酸化物蒸着材は、酸化インジウムを主成分とし、Ce/In原子数比で0.001〜0.110のセリウムを含む焼結体により構成され、CIE1976表色系におけるＬ^＊値が62〜95であることを特徴とする。上記Ｌ^＊値が62〜95である本発明の酸化物蒸着材は最適な酸素量を有するため、成膜真空槽への酸素ガス導入量が少なくても低抵抗で可視〜近赤外域における高透過性の透明導電膜を真空蒸着法で製造でき、酸素ガスの導入量が少ないため膜と蒸着材との組成差を小さくすることができ、量産時の膜組成の変動や特性の変動も低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】フィルムなどの基材に対して透明性が高く、優れた密着性を持ち、且つパターン形状が目立たないディスプレイあるいはタッチパネルに用いられる透明導電性積層体を提供する。
【解決手段】透明プラスチック基材１１の一方の面に、金属酸化物層１３、酸化ケイ素層１４及び酸化インジウム・スズ層１５を透明プラスチック基材１１側から順に設けてなる透明導電性積層体１０であって、金属酸化物層１３の屈折率が１．７以上２．６以下であり、光学膜厚が１２ｎｍ以上３５ｎｍ以下であり、酸化ケイ素層１４の屈折率が１．３以上１．５以下であり、光学膜厚が７０ｎｍ以上１１０ｎｍ以下であり、酸化インジウム・スズ層１５の光学膜厚が３０ｎｍ以上６５ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】 各々の透明導電膜の回路パターンを外部回路と接続できれば、静電容量センサーに適用できる両面透明導電膜シートとその製造方法を提供する。
【解決手段】 本本発明の両面透明導電膜シートの製造方法は、基体シートの両面に、各々、透明導電膜、遮光性膜、レジスト層を順次形成した後、両面同時にレジスト層を露光し、現像してパターン化した後、露出した遮光性膜の一部および透明導電膜の一部を両面同時にエッチングし、次いでパターン化したレジスト層および遮光性膜を剥離することにより、基体シートの両面に、透明導電膜の異なるパターンを位置ずれなく形成する。 （もっと読む）

【課題】基体上に形成される透明導電パターンの低抵抗化を図ることができると共に、視認性も向上させることができ、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適な導電シートを提供する。
【解決手段】第１導電シート１０Ａは、第１透明基体上に、２以上の導電性の第１大格子１４Ａと、隣接する第１大格子１４Ａ間を電気的に接続する第１接続部１６Ａとが形成され、各第１大格子１４Ａは、それぞれ２以上の小格子１８が組み合わされて構成され、第１接続部１６Ａは、小格子１８のｎ倍（ｎは１より大きい実数）のピッチを有する１以上の中格子（第１中格子２０ａ〜第４中格子２０ｄ）が配置されて構成されている。 （もっと読む）