【課題】 塗布膜に酸化性雰囲気中にてプラズマまたは電磁波を照射することにより、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、平均一次粒子径が１ｎｍ以上かつ２００ｎｍ以下の酸素欠損型金属酸化物微粒子を含む塗布液をガラス基板、プラスチック基板等の基材１１上に塗布して塗布膜１２とし、この塗布膜１２に酸化性雰囲気中にてプラズマＰを照射することにより、基材１１上に透明導電膜１４を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 塗膜に大気中にてプラズマを照射することにより、加熱処理や減圧雰囲気を必要とすることなく、低抵抗かつ可視光透過率の高い透明導電膜を形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、導電性塗料を基材６上に塗布して塗膜７を形成し、この塗膜７上に大気圧下にて反応ガスを導入して該反応ガスをプラズマＰ化させ、このプラズマＰを塗膜７に照射して塗膜７を改質することにより、基材６上に透明導電膜９を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 別途導電性の塗膜を設けたり、帯電防止剤を添加することなく、ゾルゲル法で得られる塗膜に帯電防止性を付与できるコーティング組成物を提供する。
【解決手段】 金属アルコキシドを触媒を作用させて加水分解してなるゾルを含むコーティング組成物であって、前記触媒として、相手カチオンにＨ^＋を含むヘテロポリ酸を用いる。ヘテロポリ酸としては、例えば、リンタングステン酸（Ｈ_３［ＰＷ_１２Ｏ_４０]、Ｈ_６［Ｐ_２Ｗ_１８Ｏ_６２]）、ケイタングステン酸（Ｈ_４［ＳｉＷ_１２Ｏ_４０]）、ケイモリブデン酸（Ｈ_４［ＳｉＭｏ_１２Ｏ_４０]）などの他、これらヘテロポリ酸のＨ^＋の一部をアルカリ金属カチオンで交換したヘテロポリ酸の酸性塩があげられる。
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【課題】カーボンナノチューブなどの極細導電繊維の量を少なくして透明性を向上させても良好な導電性を発揮することができる導電層を有する粘接着性導電成形体を提供する。
【解決手段】樹脂やガラス等よりなる基材１１の一方の表面に極細導電繊維２を含んだ透明な導電層１２を形成し、他の表面に粘接着層１３を形成した粘接着性成形体１とする。導電層１２には、極細導電繊維２が凝集することなく分散して互いに接触しているか、或は、１本ずつ分離した状態で若しくは複数本集まって束になったものが１束ずつ分離した状態で分散して互いに接触させて含有されている。粘着層１３にはアクリル系粘着剤が用いられる。 （もっと読む）

【課題】 従来の透明２層膜と比べて貴金属合金微粒子の発達した網目状構造を具備する透明２層膜とその製造方法を提供する。
【解決手段】 透明導電層と透明コート層とで構成されるこの透明２層膜は、溶媒に分散された平均粒径１〜２０ｎｍの貴金属コート銀微粒子若しくは貴金属合金微粒子の鎖状凝集体と銀単体微粒子を含有し、かつ、鎖状凝集体を構成する貴金属コート銀微粒子若しくは貴金属合金微粒子１００重量部に対し銀単体微粒子の配合割合が０．１〜５重量部に設定された透明導電層形成用塗液を透明基板上に塗布かつ乾燥し、次いで透明コート層形成用塗布液を塗布した後、加熱処理することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】
透明性と導電性を兼ね備えたＩＴＯ透明伝導膜を、塗布法、特にインクジェット印刷法により形成するのに適した透明伝導膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】
透明伝導膜形成用塗布液を、ＡｃＡｃＩｎ、錫化合物、セルロース誘導体、アルキルフェノ−ル及び／又はアルケニルフェノール、二塩基酸エステル及び／又は酢酸ベンジル、ジエチレングリコール誘導体を含み、ＡｃＡｃＩｎと錫化合物との合計含有量を１〜３０重量％、セルロース誘導体の含有量を５重量％以下の組成とすることで、インクジェット印刷に適した低粘性の透明伝導膜形成用塗布液を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 導電性高分子とハードコート樹脂との相溶性を高くでき、導電性、透明性、基材との密着性に優れ、しかも安価な導電性高分子溶液及び導電性塗膜を提供する。
【解決手段】 本発明の導電性高分子溶液は、分子内の側鎖の末端に不飽和二重結合を有する可溶化高分子成分及び導電性高分子成分を含む可溶性導電性高分子成分と、光硬化性モノマー及び／又は有機溶媒とを含有する。その際、可溶化高分子成分が、主鎖と不飽和二重結合との間にスルホン酸エステル及び／又はカルボン酸エステルを有してもよい。本発明の導電性高分子溶液は、ハードコート成分を含有してもよい。また、本発明の導電性塗膜は、上述した導電性高分子溶液が塗布されて形成されたものである。 （もっと読む）

本発明は、好ましくはポリチオフェンに基づく導電性ポリマーから製造された透明機能層、その製造方法、および光学的構造体におけるその使用に関する。
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フラットパネルディスプレイ（ＬＤＣ、ＥＬＤ、プラズマディスプレイ、ＬＥＤ、ＯＬＥＤ）、タッチパネル、光学フィルター、太陽電池および他の用途における透明な電極を製造するのに適した２層型透明導体スキームが提示される。上層は典型的にインジウム・スズ酸化物からなり、より薄い下層はＡｌ_２Ｏ_３でドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、または酸化ガリウムでドープされたＺｎＯ（ＧＺＯ）、またはＡｌ_２Ｏ_３およびＧａ_２Ｏ_３の両方でドープされたＺｎＯ（ＡＧＺＯ）からなる。下層は上層よりも顕著に高い湿式化学エッチング速度を有し、これにより上部のＩＴＯ層のより迅速でより均一なエッチングを可能にし、そうしてＩＴＯ「アイランド」の形成を防止する。 （もっと読む）

容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。
基板上にパターニングされた酸化スズ膜を形成した透明電極の製造方法であって、基板上に光吸収性を有する酸化スズ膜を形成する工程、光吸収性を有する酸化スズ膜の一部をエッチング液で溶解してパターニングする工程、パターニングされた光吸収性を有する酸化スズ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含むことを特徴とする透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 改善された光学的および電気的膜特性を有する透明で導電性の酸化物膜（ＴＣＯ膜）であり、薄膜太陽電池において使用するのに適する表面構造を有する該膜の提供。
【解決手段】 この課題は、反応性スパッタリングによって基板上に導電性で透明な酸化亜鉛膜を生成し、プロセスにヒステリシス領域を有している方法において、ドーピング剤を含有する金属Ｚｎターゲットを使用し、該ターゲットのドーピング剤含有量が２．３原子％より少なく； 基板のための加熱器を、２００℃より高い該基板温度に調整される様に調整し；
１９０ｎｍ／分より早い静的溶着速度に相当する５０ｎｍ*ｍ／分より早い動的溶着速度に調整し；そして安定な金属プロセスと不安定なプロセスとの間の転換点と安定化されたプロセス曲線の屈曲点との間に位置する、不安定なプロセス領域内で安定化した作業点を選択する各段階を含むことを特徴とする、上記方法によって解決される。 （もっと読む）

透明高分子基板の少なくとも片面上に凹凸を有する硬化樹脂層を配し、かつこの硬化樹脂層の上に、直接または他の層を介して透明導電層を設けてなる透明導電性積層体。この硬化樹脂層は、平均一次粒子径が０．５〜５μｍの微粒子Ａと、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物及び／または金属フッ化物からなる超微粒子Ｃとを含む。上記透明導電性積層体は、透明タッチパネルを高精細ディスプレイ上に設置しても、チラツキによる視認性劣化を起こさず、且つ透明タッチパネルを構成する２枚の透明電極基板間で発生するニュートンリングを防止できる。 （もっと読む）

屈折率ｎ₁を有する第１の層と、ｎ₁より大きい屈折率ｎ_iを有する第ｉの層と、前記第１の層と前記第ｉの層との間の１つまたは２つ以上の中間層と、を含み、前記中間層の屈折率がｎ₁とｎ_iとの間であり、各中間層の前記屈折率が前記第１の層からの各層の位置の順に増加する、多層光学複合体が開示される。
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平滑な基板１と、平滑な基板１上に塗布法により形成された透明導電層２と、透明導電層２上にパターン状に形成された補助電極層３と、透明導電層２及び補助電極層３に接着剤層４で接合された透明基材５とを備えた透明導電積層体であって、その平滑な基板１を剥離除去した後の透明導電層２の平滑な剥離面上に各種素子を形成して、色素増感型太陽電池や有機エレクトロルミネッセンス素子等のデバイスとする。 （もっと読む）

【課題】 良好な塗布性を示し、下地基材への影響が少なく、透明性、平滑性、導電性等に優れた塗膜を形成し得る導電性組成物を提供する。
【解決手段】 スルホン酸基及び／またはカルボキシル基を有する水溶性導電性ポリマー、含窒素官能基及び末端疎水性基を有する水溶性高分子並びに溶剤を含んでなる導電性組成物。 （もっと読む）