ドロー中、例えばフュージョンドロー中またはファイバードロー中に、ガラス基板を被覆する方法が記載される。被覆は、導電被覆であり、透明でもよい。導電薄膜で被覆されたガラス基板は、例えば、ディスプレイ装置、太陽電池用途および多くの他の急伸する産業および用途において使用できる。
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【課題】耐有機溶剤性に優れ、高い導電性を有する導電膜の形成に適する分散液、金属酸化物含有膜および金属酸化物膜付き基板の製造方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物粒子と、（メタ）アクリレートモノマーと、硬化剤と、溶剤とを含む金属酸化物含有膜を形成するための分散液と、膜の質量をＴ_１、膜を５０℃の、アセトン、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、Ｎ−メチルピロリドン及びγ−ブチルラクトンなど、に１０分間浸漬させて溶け出した膜の質量をＴ_２とするときに、（Ｔ_２／Ｔ_１）×１００で表される溶け出した膜が１５質量％以下である金属酸化物含有膜と、上述の分散液を基板に塗布し、焼成して製造した金属酸化物膜付き基板とを提供する。 （もっと読む）

【課題】表面が酸化されず、かつ特性変動のない安定した薄膜導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】ルテニウムを含有する所定濃度の前駆体溶液を、噴射器１よりスプレー方式によって基板５に向けて噴射する。その際、基板温度や前駆体溶液のスプレー回数を変えることによって、所望の膜厚の酸化ルテニウム導電膜を成膜できるため、基板５の上面に平滑で均一な導電膜の形成が可能となる。 （もっと読む）

【課題】より高い平坦性を有する平坦化物が得られる平坦化物の製造方法、平坦化物、及び被処理面の平坦化方法を提供する。
【解決手段】少なくとも基材１を有する平坦化物の製造方法であって、近接場光４ａ，４ｂ，４ｃを用いて被処理面をエッチングする近接場エッチング処理工程を有する平坦化物の製造方法とする。また、平坦化物は、この平坦化物の製造方法で製造される。さらに、被処理面の平坦化方法は、近接場光を用いて被処理面をエッチングすることにより、この被処理面２の最大突起５ａ，５ｂ，５ｃ長（Ｒｍａｘ）を１０ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】１０²〜１０⁴Ω／□程度の低い表面抵抗を有し、帯電防止性、透明性、反射防止性、防眩性および電磁遮蔽性に優れるとともに、信頼性にも優れた透明導電性被膜を形成しうる透明導電性被膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】導電性微粒子と極性溶媒とを含む透明導電性被膜形成用塗布液において、導電性微粒子が、アスペクト比が２〜２００の範囲にあり、平均長さが５〜１００ｎｍの範囲にある棒状導電性微粒子であることを特徴とする透明導電性被膜形成用塗布液。導電性微粒子と極性溶媒とを含む透明導電性被膜形成用塗布液において、導電性微粒子が、棒状微粒子表面に１〜１００ｎｍの範囲の粒子径を有する導電性微粒子が接合した棒状導電性微粒子群であり、かつ、該棒状導電性微粒子群のアスペクト比が２〜２００の範囲にあり、平均長さが５〜１００ｎｍの範囲にあることを特徴とする透明導電性被膜形成用塗布液。 （もっと読む）

【課題】 焼成が必要な透明導電膜前駆体について、膜強度や導電性への影響が無く、簡便に焼成処理を行い得る透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 基材上に形成され焼結によって透明導電膜を形成する透明導電膜前駆体の表面に、レーザー光に対して吸収のある吸収剤を含む吸収剤含有液を塗布し乾燥させることにより吸収剤層を形成し、該吸収剤層に吸収のある波長を有するレーザー光を該吸収剤層に照射することにより、前記透明導電膜前駆体を焼結させて透明導電膜を形成する。 （もっと読む）

本発明は、低電気シート抵抗及び高光透過性の所望の組み合わせを有する光透過性導電層を提供する。導電層は、平面内に多数の磁性ナノ構造を含み、これらの磁性ナノ構造は、複数の略平行な連続する導電経路となるように配列され、導電層が高い光透過性を示すことが可能な密度を有している。磁性ナノ構造は、ナノ粒子、ナノワイヤ、又は複合ナノワイヤとすることができる。複合磁性ナノワイヤは、ニッケル又はコバルトのような磁性金属層により被覆される銀ナノワイヤを含むことができる。更に、複合磁性ナノワイヤは、磁性金属ナノワイヤに取り付けられるカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を含むことができる。基板上に導電層を形成する方法は、多数の磁性ナノ構造を基板に堆積させる工程と、磁界を印加して、基板の表面に平行な複数の導電経路となるようにナノ構造を形成する工程とを含む。
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【課題】 簡便な塗布法にて優れた導電性を発現する酸化チタン系透明導電性膜を形成する透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と、（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と、（Ｃ１）金属ナノ粒子および金属ナノファイバーの少なくとも一方からなる導電性物質とを含む前駆体分散液、または、前記（Ａ）の反応生成物と、前記（Ｂ）の反応生成物と、（Ｃ２）還元雰囲気下での加熱により金属ナノ粒子を析出する導電性物質前駆物とを含む前駆体液を、透明基材上に塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施す。 （もっと読む）

【課題】導電性を損ねることなく密着性及び耐久性に優れた導電性材料、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の導電性材料は、支持体上に、１層以上の導電性層を有し、前記支持体と前記導電性層の間に２層以上の易接着層を有する。導電性層は好ましくはＰＥＤＯＴとＰＳＳを含有し、支持体は好ましくはＰＥＴで形成され、２層以上の易接着層は、それぞれ、ポリウレタン、ポリエステル及びポリアクリルのいずれかで構成されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】導電性を損ねることなく、耐久性と密着性に優れた導電性材料、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】支持体上に、１層以上の導電性層を有し、前記支持体と前記導電性層の間に、少なくとも２種のバインダ樹脂を含む易接着層を有する導電性材料。前記導電性層は好ましくはＰＥＤＯＴとＰＳＳを含有し、前記支持体は好ましくはＰＥＴで形成され、前記易接着層は、ポリウレタン樹脂及びアクリル樹脂を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 簡単なプロセスで安価に製造することができる低抵抗率の透明導電体及びその製造方法、その透明導電体を用いた車両のパネルを実現する。
【解決手段】 まず、液状リン酸を主成分とする溶媒とスズを含む化合物及び銅を含む化合物とを混合し、混合生成物を作製する。次に、混合生成物をガラス基板に塗布した後に加熱処理する。加熱処理は、所定の焼成雰囲気において、脱水反応などの反応が起きる温度まで昇温し、所定時間保持することにより行う。そして、加熱処理された混合生成物を冷却固化させる。これにより、ガラス基板に塗布された混合生成物は、ガラス基板上に透明導電体の膜として形成される。 （もっと読む）

【課題】 優れた保存安定性を備えながら、良好な導電性および透明性を有する膜を形成することができる透明導電性膜形成用前駆体液を提供する。
【解決手段】 透明導電性膜形成用前駆体液は、（Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物とを含む透明導電性膜形成用前駆体液であって、硝酸および塩酸の少なくとも一方を含有する。 （もっと読む）

【課題】 優れた導電性を発現する酸化チタン系透明導電性基板を製造する、透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ドーパントとしてニオブまたはタンタルがドープされたドープ酸化チタンのアモルファスまたは酸化チタンのアモルファスからなる第一の膜の上に、該第一の膜を構成するドープ酸化チタンまたは酸化チタンのドーパント含有比率よりも高い含有比率で前記ドーパントがドープされたドープ酸化チタンのアモルファスからなる第二の膜が積層されてなる積層膜を、透明基材上に形成した後に、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を形成することにより、比抵抗が９×１０^-3Ω・ｃｍ以下の透明導電性基板を得る。 （もっと読む）

【課題】高導電性、高耐久性、高透明性、易成型性などを有する透明高分子導電膜を提供する。
【解決手段】電気泳動法により測定した重量平均分子量が２００万以上２０００万以下であるデオキシリボ核酸、およびポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）を含有する透明高分子導電膜。および、重量平均分子量が２００万以上２０００万以下であるデオキシリボ核酸の水溶液と、ポリスチレンスルホン酸を含有したポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）の水分散液とを混合し、その混合液をキャストして形成する透明高分子導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】堅牢で耐久性に優れ、ナノスケールの透明電極に適用可能な伝導性組成物を提供する。
【解決手段】変性ナノコンダクターを形成するために第１の官能基をナノコンダクターの表面１０４上に導入し、伝導性材料組成物を形成するために少なくとも第１の官能基及び第２の官能基を含む分散剤を変性ナノコンダクターと混合し、変性ナノコンダクターの表面の第１の官能基が分散剤と反応することを特徴とするポリマー基材に用いるためのナノコンダクター１００を処理する方法。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブネットワークとインジウムスズ酸化物との複合体を含み得る透明導電性フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブネットワークとインジウムスズ酸化物との複合体は、カーボンナノチューブネットワーク層と、カーボンナノチューブネットワーク層上に配置されたインジウムスズ酸化物層とを含み得る。透明導電性フィルムの製造方法は、透明基板を提供する工程、金属タイプカーボンナノチューブ溶液を透明基板上に配置する工程、金属性カーボンナノチューブネットワーク層を金属性カーボンナノチューブ溶液から形成する工程、およびインジウムスズ酸化物層を金属性カーボンナノチューブネットワーク層上全体に配置する工程を含み得る。 （もっと読む）

【課題】 簡便な塗布法にて優れた導電性を発現する酸化チタン系透明導電性膜を形成する透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上にアナターゼ結晶相の酸化チタン系薄膜からなる下地層を形成し、該下地層の上に（Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物とを含む前駆体液（Ｉ）を塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を前記下地層上に形成することにより、比抵抗が９×１０^-3Ω・ｃｍ以下の透明導電性基板を得る。 （もっと読む）

【課題】 簡便な塗布法にて優れた導電性を発現する酸化チタン系透明導電性膜を形成する透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に、（Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と、（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と、（Ｃ）アナターゼ型酸化チタン系微粒子とを含む前駆体含有分散体を塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を透明基材上に形成することにより、比抵抗が９×１０^-3Ω・ｃｍ以下の透明導電性基板を得る。 （もっと読む）

【課題】 簡便な塗布法にて優れた導電性を発現する酸化チタン系透明導電性膜を形成する透明導電性基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 透明基材上に、アナターゼ型酸化チタン系微粒子を分散媒に分散させてなる分散体を塗布した後、分散媒を揮発させることにより、アナターゼ結晶相の酸化チタン系薄膜からなる下地層を形成し、該下地層の上に（Ａ）チタン化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物と（Ｂ）ニオブ化合物またはタンタル化合物に過酸化水素を反応させた反応生成物とを含む前駆体液を塗布し、焼成した後、還元雰囲気下にて加熱によるアニール処理を施して、ニオブまたはタンタルがドープされた酸化チタンからなる透明導電性膜を前記下地層上に形成することにより、比抵抗が９×１０^-3Ω・ｃｍ以下の透明導電性基板を得る。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛透明導電酸化物層上に低屈折率のカーボン膜を形成することで、光線透過率は向上するが、水分や空気に対する耐久性は向上しない。また、有機珪素化合物層を酸化亜鉛透明導電酸化物層上に直接形成しようとしても、大面積では均一に形成することが困難であったが，それを解決する透明導電膜の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板１上に透明導電酸化物層２／カーボン層３のさらにその上に、有機珪素化合物層４を形成することで、水分や空気に対する耐久性の向上が可能となり、さらに大面積にした場合も均一に作製することができる。 （もっと読む）