【課題】簡素な方法により被塗装部のみに粉体塗料を付着させることが可能な粉体塗装方法及び、該塗装方法を実施するための粉体塗装装置を提供する。
【解決手段】粉体塗料を塗料タンク内に収容し、該塗料タンクの底部からエアを吹き込み、粉体塗料を流動させて粉体浴を形成し、ワークを粉体浴に浸漬することにより、ワークの一部分よりなる被塗装部に粉体塗料を付着させる粉体塗装方法において、ワークより大きな内径を有する筒体をその開口端から粉体浴に浸漬すると共に、筒体の内側においてワークの被塗装部を粉体浴に浸漬し、被塗装部に粉体塗料を付着させる。 （もっと読む）

【課題】サイズの小型化を図り、面積生産性を向上させることができる液剤塗布装置及び液剤塗布方法を提供することを目的とする。
【解決手段】液剤Ｑが塗布される前の基板４を収容した基板供給用のマガジン５が設置される基板供給部Ｒ１、基板供給部Ｒ１に設置された基板供給用のマガジン５から取り出されて作業位置に移送された基板４に液剤Ｑを塗布する塗布ヘッド１４、塗布ヘッド１４により液剤Ｑが塗布された基板４を収容する基板回収用のマガジン５が設置された基板回収部Ｒ２を備えた液剤塗布装置１において、基板供給部Ｒ１と基板回収部Ｒ２が上下方向に並んで位置する。 （もっと読む）

【課題】 基材上に良好に塗布膜を形成することができる塗布装置、この塗布装置を組み込んだ塗布膜形成システム、塗布方法および塗布膜形成方法を提供する。
【解決手段】 ノズル１１が塗布液を吐出する吐出位置において、基材５を他方主面から支持しつつ、搬送経路８に沿って基材５を走行させる支持ローラ１２に対して、振動付与部１３が振動を付与することで、支持ローラ１２に支持された基材５を介して、基材５の一方主面に塗布された塗布液に振動を付与することができる。これにより、基材５上に塗布された塗布液によって形成される塗布膜の膜厚のばらつきを平坦化することで塗布ムラを軽減することができる。 （もっと読む）

【課題】 ノズルから吐出された液滴に変質等が生じないように吐出空間の雰囲気を置換することが可能なデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】 デバイスの製造方法は、基板をチャンバ内に搬入して載置台に載置する工程と、待機位置において封止部材により液滴吐出ノズルを隔離した状態で、チャンバの内部を減圧する減圧工程と、ガス供給機構からチャンバ内にパージガスを導入してチャンバ内部の雰囲気を置換するとともに大気圧状態に戻す雰囲気置換工程と、封止部材による液滴吐出ノズルの隔離を解除し、液滴吐出ノズルを吐出位置に移動させて被処理体へ向けて前記液滴を吐出する吐出工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】移動自在な垂直ベース５３に吐出ユニット３を取り付けた構成において、塗布液の吐出時に発生する反力に起因した吐出ユニット３の振動を抑制可能とする。
【解決手段】垂直ベース５３を、梁５１３により支持するのみならず、梁５１３の反対側から第２支持機構６によっても支持する。こうして、両側に配置された梁５１３と第２支持機構６で垂直ベース５３を強固に支持することが可能となり、その結果、垂直ベース５３に取り付けられた吐出ユニット３を吐出時に発生する反力に抗してしっかりと支持することができる。よって、塗布液の吐出時に発生する反力に起因した吐出ユニット３の振動を抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 基板を傾斜させて搬送する場合においても、基板の裏面のみに適切に処理液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 処理液吐出パイプ３０は、搬送ローラ１０により搬送される基板１００が塗布ローラ２０に到達する前に、基板１００の下方側で、かつ、搬送ローラ１０による基板１００の搬送方向の上流側から、塗布ローラ２０の表面に向けて処理液を吐出する。そして、搬送ローラ１０により搬送される基板１００の後端が塗布ローラ２０に到達する前に、処理液吐出パイプ３０からの処理液の吐出が停止される。 （もっと読む）

【課題】 光学シートの背面にドットパターン印刷を施す際に、印刷面におけるスジの発生を抑制することにより、光学シートを用いた製品の品質向上を図ることができる光学シートの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】 導光板を製造する際のドットパターン印刷において、インクジェットノズル５１から導光板の原板６０に対してインクを噴射する。このとき、原板６０の非印刷面を吸引吸着して反りを排除し、ジェットノズル５１と原板６０との距離であるギャップ距離Ｄが２．８ｍｍ以下に調整されている。 （もっと読む）

【課題】バックアップロールに基材を巻き掛けることなく、吐出部から吐出される塗布液を基材に塗布することができる塗布装置用スロットダイを提供すること。
【解決手段】長手方向に移動する帯状の基材１に対して間隙を空けた状態で近接して配置される吐出部４０を備え、吐出部４０よりも基材移動方向に関して上手側で基材１を支持する上手側支持手段と、吐出部４０よりも基材移動方向に関して下手側で基材１を支持する下手側支持手段との間に配置され、吐出部４０から吐出される塗布液を基材１の塗布面に塗布する塗布装置用スロットダイＳＤ２であって、基材幅方向に沿う横軸心Ｙ２周りに回転自在で当該横軸心方向視にて外周面が円形状に形成され、且つ、吐出部４０に基材移動方向で上手側に近接する箇所において、外周面が塗布面に接触する状態で基材１を支持する回転支持体５０が設けられている塗布装置用スロットダイＳＤ２。 （もっと読む）

【課題】処理対象物の重量が重い場合でも、特にθ方向の位置合わせを高精度かつ容易に行い得る低コストのアライメント機能付きステージを提供する。
【解決手段】基板Ｓをその処理面を開放して保持するステージ本体４ａを備えたアライメント機能付きステージを有し、基板の処理面に背向する他面に吸着自在な吸着手段８と、前記吸着手段での吸着箇所以外の領域に気体を供給する気体供給手段９と、前記吸着手段を回転中心として基板が同一平面内で回転されるように前記吸着手段に回転力を付与する駆動手段１０とを備え、前記駆動手段は、前記吸着手段を所定の微小角度範囲内で回転させる微動機構と、前記吸着手段を微動機構より大きな角度範囲で回転させる粗動機構とから構成され、前記粗動機構が前記吸着手段に直結されている。 （もっと読む）

【課題】従来の処理装置では、処理効率を向上させることが困難である。
【解決手段】ワークＷを支持する２つのワークテーブル２５と、ワークテーブル２５のそれぞれを、２つのワークテーブル２５間で共通する経路である共通経路を含む移動経路で案内するガイドレール２３及びガイドレール２４と、前記共通経路において、ワークテーブル２５のそれぞれに支持されたワークＷに対向した状態で、対向するワークＷに対して描画処理を施す吐出ヘッド１９と、前記共通経路においてワークテーブル２５のそれぞれが吐出ヘッド１９に対向し得る領域である処理領域７３の外側に設けられ、ワークテーブル２５に支持されたワークＷの高さ位置を、処理領域７３の外側で検出する第１検出装置１４及び第２検出装置１５と、吐出ヘッド１９とワークＷとの間の隙間量を調整する昇降モーター１８と、を有する、ことを特徴とする処理装置。 （もっと読む）